JPS5965808A - 光導波路の製造方法 - Google Patents
光導波路の製造方法Info
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- JPS5965808A JPS5965808A JP17582882A JP17582882A JPS5965808A JP S5965808 A JPS5965808 A JP S5965808A JP 17582882 A JP17582882 A JP 17582882A JP 17582882 A JP17582882 A JP 17582882A JP S5965808 A JPS5965808 A JP S5965808A
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- light
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- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/13—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method
- G02B6/138—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method by using polymerisation
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（イ）発明の分野
この発明は、光を伝送する光導波路の製造方法に関する
。
。
（ロ）従来技術とその問題点
一部に２選択光重合法による高分子光導波の製造方法は
、第１図の製造工程図に示すように、先ず、キャスト溶
器ａ２溶媒により洗浄し１こ後、光照射により屈折率が
変化する光重合拐料の溶液すをキャスト溶器ａに注入し
てシート状にし溶媒の一部を蒸発させて半固形状の透明
フィルムＣを形成する。
、第１図の製造工程図に示すように、先ず、キャスト溶
器ａ２溶媒により洗浄し１こ後、光照射により屈折率が
変化する光重合拐料の溶液すをキャスト溶器ａに注入し
てシート状にし溶媒の一部を蒸発させて半固形状の透明
フィルムＣを形成する。
続いて、フィルムＣの上面にフォトマスク（１を配設し
１こ後、紫外線ｅを上方より照射して露光し。
１こ後、紫外線ｅを上方より照射して露光し。
マスクされていない部分のみ選択的に光重合ケ行ない、
屈折率を減少きせる。その後、フィルムＣを真空乾燥し
て非光重合部に金型れているモノマを蒸発させ、この非
光１合部を光重合部より屈折率が大きい高屈折率層もと
する。
屈折率を減少きせる。その後、フィルムＣを真空乾燥し
て非光重合部に金型れているモノマを蒸発させ、この非
光１合部を光重合部より屈折率が大きい高屈折率層もと
する。
そして最後に、フィルム（〉の上下面に屈折率の小さい
樹脂ｇｒコートし、高屈折率層ｆをコア。
樹脂ｇｒコートし、高屈折率層ｆをコア。
その周囲をクラッドとする光導波路１１ヲ形成するよう
になっている。
になっている。
この光導波１ｆｆｉ’＋１＋の製造方法において、紫外
線ｅの露光工程部ケさらに詳述すると、第２図に示すよ
うに、キャスト容器ａ内にシート状で且つ半固形状の透
明フィルムＣか形成されており、このフィルム０の一ヒ
面にフォトマスク（ｌが密層して配貢されている。そし
て、フォトマスク（１の」三方番こ２いて紫外線照射装
置１より平行ビーム状の紫外線Ｃか照射される。
線ｅの露光工程部ケさらに詳述すると、第２図に示すよ
うに、キャスト容器ａ内にシート状で且つ半固形状の透
明フィルムＣか形成されており、このフィルム０の一ヒ
面にフォトマスク（ｌが密層して配貢されている。そし
て、フォトマスク（１の」三方番こ２いて紫外線照射装
置１より平行ビーム状の紫外線Ｃか照射される。
従って、フォトマスクｄのマスク部Ｊについては紫外ｍ
ｄが透過ぜす、このマスク部、）の下方におけるフィル
ム（５の一部は光重合か起ら々いので母相とモノマか分
離しｆ、ニー１ 寸である。他方、フォトマスクｄのマ
スク部Ｊ以外の部分については紫外線ｄが透過し、）づ
ルムＣの一部は光重合が起り、切材とモノマの重オ゛バ
ーセントで決する屈折率１で低下して低屈折率ｊ−にと
なり、マスク部、１の下方のフィルム部が高屈折率層「
となる。
ｄが透過ぜす、このマスク部、）の下方におけるフィル
ム（５の一部は光重合か起ら々いので母相とモノマか分
離しｆ、ニー１ 寸である。他方、フォトマスクｄのマ
スク部Ｊ以外の部分については紫外線ｄが透過し、）づ
ルムＣの一部は光重合が起り、切材とモノマの重オ゛バ
ーセントで決する屈折率１で低下して低屈折率ｊ−にと
なり、マスク部、１の下方のフィルム部が高屈折率層「
となる。
この露光工程において、紫外線ｅは、従来、上方のみか
ら照射して嘔り、低屈折率層１（となる光重合部にあ・
ける旬月とモノマの相分離による紫外線ｅの光強度分布
か、第２図（１〕）に示すように、フィルムＣの上面か
ら下方にいくにし１こかって減衰曲線となる。
ら照射して嘔り、低屈折率層１（となる光重合部にあ・
ける旬月とモノマの相分離による紫外線ｅの光強度分布
か、第２図（１〕）に示すように、フィルムＣの上面か
ら下方にいくにし１こかって減衰曲線となる。
よって、第２図（ｅ）に示すように、低屈折率層ｋにな
る光重合部と高ｎｌ（折率層１になる非九軍台音Ｉ５と
の屈折率差（ＮＡ）かフィルム（−の上面から下面にい
くに伴って小芒くｌる。
る光重合部と高ｎｌ（折率層１になる非九軍台音Ｉ５と
の屈折率差（ＮＡ）かフィルム（−の上面から下面にい
くに伴って小芒くｌる。
この現象は、フィルムＣか薄い場合にはざほと問題が生
じないものの、第６図及び第４図に示すように、大口径
の光ファイバ１を接続する１こめにフィルムＯの厚ａ＋
大きくすると（例えｄ２．１［Ｘ］ＩＩ ｍ或い（は２
００μｍ）、光強度分布の減衰か著しく、これに伴って
屈折率差も小さくなる。これテハ、 光＋伝送する際、
フィルム（二の下部における高屈折率層ｒのコアと低屈
折率１（のクラットとの境界では光の散乱や漏れが大キ
く、光の閉じ込め効果が弱いので、光導波路りとしての
損失が太きいという欠点があり、大口径でかつ高屈折率
差の光導波路１１の製造が難がしかった○ｅつ発明の目
的 この発明は、か＼る点に鑑み、大口径の光ファイバと接
続可能に大口径で且つ高屈Ｐ１率差を有する光導波路の
製造方法を提供することケ目的とするものである。
じないものの、第６図及び第４図に示すように、大口径
の光ファイバ１を接続する１こめにフィルムＯの厚ａ＋
大きくすると（例えｄ２．１［Ｘ］ＩＩ ｍ或い（は２
００μｍ）、光強度分布の減衰か著しく、これに伴って
屈折率差も小さくなる。これテハ、 光＋伝送する際、
フィルム（二の下部における高屈折率層ｒのコアと低屈
折率１（のクラットとの境界では光の散乱や漏れが大キ
く、光の閉じ込め効果が弱いので、光導波路りとしての
損失が太きいという欠点があり、大口径でかつ高屈折率
差の光導波路１１の製造が難がしかった○ｅつ発明の目
的 この発明は、か＼る点に鑑み、大口径の光ファイバと接
続可能に大口径で且つ高屈Ｐ１率差を有する光導波路の
製造方法を提供することケ目的とするものである。
に）発明の構成と効果
この発明は、上記目的を達成するために、キャスＦＢ器
に形成されたシート状で且つ半固形状の光重合材料のフ
づルムの上下面に、同一パターンのフォトマスクをその
パターンが一致するように配設し、フィルムの上方と下
方とから光をソ゛オドマスクへ向けて交互に照射して高
屈折率層を形成し、その後、フィルムの上下面に低屈折
率のコーティング剤をコートとして光導波路を形成する
ように構成されている。
に形成されたシート状で且つ半固形状の光重合材料のフ
づルムの上下面に、同一パターンのフォトマスクをその
パターンが一致するように配設し、フィルムの上方と下
方とから光をソ゛オドマスクへ向けて交互に照射して高
屈折率層を形成し、その後、フィルムの上下面に低屈折
率のコーティング剤をコートとして光導波路を形成する
ように構成されている。
したがって、この発明によれば、光をフィルムの上下よ
り照射するので、フィルムの厚きが大きくなっても光強
度分布の減衰が少なく、高屈折率層と低屈折率層間の屈
折率差をフィルムの上下面に亘って大きい状態に保持す
ることかできるから大口径の光導波路における導波損失
を低減することができる。
り照射するので、フィルムの厚きが大きくなっても光強
度分布の減衰が少なく、高屈折率層と低屈折率層間の屈
折率差をフィルムの上下面に亘って大きい状態に保持す
ることかできるから大口径の光導波路における導波損失
を低減することができる。
また、光導波路の大口径化を図ることができるので、光
ファイバとの接続時に光軸合せが容易となり、コア径か
１０００μｍの大口径プラスチックアアイバとの接続を
も可能となる。
ファイバとの接続時に光軸合せが容易となり、コア径か
１０００μｍの大口径プラスチックアアイバとの接続を
も可能となる。
（ホ）実施例の説明
第５図（ａ）は光導波路の製造工程に２ける露光装置１
を示している。
を示している。
この露光装置１は、キャスト容器２内の高分子フィルム
５に高屈折率層３ａと低屈折率層６．１）とを成形する
ものである。このキャスＦＢ器２は両側の水準器４に載
置され内部にＬ型の位置決め金具５が設けられている。
５に高屈折率層３ａと低屈折率層６．１）とを成形する
ものである。このキャスＦＢ器２は両側の水準器４に載
置され内部にＬ型の位置決め金具５が設けられている。
更にキャスト容器２の内部には底部にフォトマスク６が
位置決め金具５に密着して設けられ、このフォトマスク
６の上方にフィルム６が形成され、このフィルム６の上
方にフォトマスク７が、フォトマスク７の上方に減衰板
８が順に位置決め金具５に密着して設けられている。上
下のフォトマスク６．７は、マスク部６ａ＋７ａを有し
て同一パターンに形成されておりツそのパターンが一致
するように設けられ１両マスク部６ａ；７Ｂがフィルム
６を挾んで一致している。
位置決め金具５に密着して設けられ、このフォトマスク
６の上方にフィルム６が形成され、このフィルム６の上
方にフォトマスク７が、フォトマスク７の上方に減衰板
８が順に位置決め金具５に密着して設けられている。上
下のフォトマスク６．７は、マスク部６ａ＋７ａを有し
て同一パターンに形成されておりツそのパターンが一致
するように設けられ１両マスク部６ａ；７Ｂがフィルム
６を挾んで一致している。
また、キャスト容器２の上方及び下方には紫外線９，１
０の照射装置１１．１２が設けられ、この照射装置１１
．１２を光源として平行ビーム状の紫外線９，１０がフ
ォトマスク６．７に内ってこのフォトマスク６，７に垂
直に照射されるようになっている。
０の照射装置１１．１２が設けられ、この照射装置１１
．１２を光源として平行ビーム状の紫外線９，１０がフ
ォトマスク６．７に内ってこのフォトマスク６，７に垂
直に照射されるようになっている。
前記フィルム６は光照射によって屈折率が低下する光重
合利料の溶液から形成され、この溶液はｆｆ１Ｕとして
ビヌフェノール系ポリカーボネート（ＰＣＺ、） ７０
’ｌｉ’、モノマ（ＭＡ） ４２ｉ ｍ ｌ ＋溶媒ト
ｌ、−（４化メｆ Ｖ ン（ＣＨ２Ｃｄ２）１００．Ｏ
ｆ 、 光増感剤としてベンゾインエチルエーテル（Ｂ
ＺＥＥ ）２．１ｇ、ｉ止剤としてハイドロキノン（Ｈ
Ｑ）０、０７９をブレンドして構成されている。
合利料の溶液から形成され、この溶液はｆｆ１Ｕとして
ビヌフェノール系ポリカーボネート（ＰＣＺ、） ７０
’ｌｉ’、モノマ（ＭＡ） ４２ｉ ｍ ｌ ＋溶媒ト
ｌ、−（４化メｆ Ｖ ン（ＣＨ２Ｃｄ２）１００．Ｏ
ｆ 、 光増感剤としてベンゾインエチルエーテル（Ｂ
ＺＥＥ ）２．１ｇ、ｉ止剤としてハイドロキノン（Ｈ
Ｑ）０、０７９をブレンドして構成されている。
この溶液をキャスｌ−容＠：５２に膜厚が２００ ／Ｊ
ｒｎとなるように注入され、モノマと溶媒の一部を蒸発
させてシート状で且つ半固形状の透明フィルムろが形成
されている。
ｒｎとなるように注入され、モノマと溶媒の一部を蒸発
させてシート状で且つ半固形状の透明フィルムろが形成
されている。
次に、この露光装置１を用いて光導波路の製造方法を説
明する。
明する。
先ず、キャスト容器２及び位置決め金具５を塩化メチレ
ン（ＣＨｚＣ，ｇ２）などの溶媒で予備洗浄した後、キ
ャスト容器２を水準器４に載置すると共に。
ン（ＣＨｚＣ，ｇ２）などの溶媒で予備洗浄した後、キ
ャスト容器２を水準器４に載置すると共に。
その位置決め金具５をキャスト容器２内に設置する。
続いて、下部フォトマスク６をキャスト容器２内の底部
に位置決め金具５に密着させ且つマスク部６ａを」ニに
向けて設置する。
に位置決め金具５に密着させ且つマスク部６ａを」ニに
向けて設置する。
引き続いて、前述した所定の光重合利料よりなる溶液を
膜、厚が２００μｍになるようにキャスト容器２に注入
し、水準器４によシ水平調整する。このキャスト容器２
を半密閉状態にして内部にチツソガヌを１００ｍｊ？／
分で１５０分間流しだ後、モノマ蒸気を３０分間流し、
溶媒及びモノマの一部を蒸発させ、シート状で且つ半固
形状の透明フィルム６を形成する。
膜、厚が２００μｍになるようにキャスト容器２に注入
し、水準器４によシ水平調整する。このキャスト容器２
を半密閉状態にして内部にチツソガヌを１００ｍｊ？／
分で１５０分間流しだ後、モノマ蒸気を３０分間流し、
溶媒及びモノマの一部を蒸発させ、シート状で且つ半固
形状の透明フィルム６を形成する。
このフィルレム乙の上面に上部フォトマスク７をマスク
部７ａを下に向けて且つ下部フオトマ込り乙のマスク部
６ａに一致させると共に位置決め金具５に密着させて載
置し、このフィルム６上で少し滑る程度になった後、顕
微鏡などでに下のフ第１−マヌク６，７の精密な位置合
わせを行い、上部フォトマスク７」二に減衰板８を載置
する。
部７ａを下に向けて且つ下部フオトマ込り乙のマスク部
６ａに一致させると共に位置決め金具５に密着させて載
置し、このフィルム６上で少し滑る程度になった後、顕
微鏡などでに下のフ第１−マヌク６，７の精密な位置合
わせを行い、上部フォトマスク７」二に減衰板８を載置
する。
次に、上下の照射装置１１．１２を作動させ。
タイマ制御等によシ１秒間に２０回程度の切換速度でも
ってフィルム５の」二下面に紫外線９，１０を両フォト
マスク６．７に垂直に交互に６０分間照射する。この紫
外線９，１００強度のバラツキは減衰板８或いは照射時
間の比率を変えて補正する。
ってフィルム５の」二下面に紫外線９，１０を両フォト
マスク６．７に垂直に交互に６０分間照射する。この紫
外線９，１００強度のバラツキは減衰板８或いは照射時
間の比率を変えて補正する。
この紫外線９，１０の照射によりマスク部６ａ＋７ａ間
のフィルム６の一部は紫外線９，１０が照射されないの
て光重合が起らず、ｐｃｚとＭＡは分離状態とな９．７
１２部６ａ、７ａ以外のフィルム乙の一部は光重合が起
９．ポリマ化される。
のフィルム６の一部は紫外線９，１０が照射されないの
て光重合が起らず、ｐｃｚとＭＡは分離状態とな９．７
１２部６ａ、７ａ以外のフィルム乙の一部は光重合が起
９．ポリマ化される。
そして、この非光重合部が高屈折率層３ａに、光重合部
が低屈折率層３ｂとなる。
が低屈折率層３ｂとなる。
この露光後、フィルム６は３０分以上放置した後、キャ
スト容器２より剥離し、真空乾燥器に移して９０°Ｃで
１０時間乾燥し、高屈折率層３ａの未重合モノマを除去
する・ 最後に、フィルレム乙の上下面に低屈折率のコーティン
グ剤をコートし、熱風乾燥機により９０°Ｃで５時間乾
燥させて光導波路を形成する。そして。
スト容器２より剥離し、真空乾燥器に移して９０°Ｃで
１０時間乾燥し、高屈折率層３ａの未重合モノマを除去
する・ 最後に、フィルレム乙の上下面に低屈折率のコーティン
グ剤をコートし、熱風乾燥機により９０°Ｃで５時間乾
燥させて光導波路を形成する。そして。
高屈折率層７．ａがコアに、その周囲がクラッドになる
。
。
この製造方法によれば、第６図にも示すように。
フィルム５内の紫外光強度分布は上方の紫外嶽９と下方
の紫外線１０との光強度分布の合成となり。
の紫外線１０との光強度分布の合成となり。
上下面に亘ってほぼフラットとなり（第５図（１））
。
。
第６図（ｂ）参照）、高屈折率層３ａと低屈折率層３ｂ
間の屈折率差の分布も同様に上下面に亘ってほぼフラッ
トとなる（第５図（Ｃ）、第６図（Ｃ）参照）。
間の屈折率差の分布も同様に上下面に亘ってほぼフラッ
トとなる（第５図（Ｃ）、第６図（Ｃ）参照）。
従って、大口径の光ファイバ１３を接続することができ
る。
る。
第７図はフィルム乙の厚さｋ ４ Ｄ Ｄ Ｉｔ ｍと
したもので、この場会も、光強度分布及び屈折率差の分
布が上下面に亘ってほぼフラットになる。
したもので、この場会も、光強度分布及び屈折率差の分
布が上下面に亘ってほぼフラットになる。
まだ、第８図に示すように＋ ４００７１ｍの厚さのフ
ィルム６を接着剤で接着してさらに大口径の光導波路を
形成してもよい。
ィルム６を接着剤で接着してさらに大口径の光導波路を
形成してもよい。
第９図は光源となる照射装置１４を１個とした露光装＠
を示し、この照射装＠１４からの平行ビーム状の紫外線
１５をミラー１６（反射手段）で上下に分離し、キャス
ト容器２の上方と下方とに導くようにしたものである。
を示し、この照射装＠１４からの平行ビーム状の紫外線
１５をミラー１６（反射手段）で上下に分離し、キャス
ト容器２の上方と下方とに導くようにしたものである。
これにより照射装置１４を少なくすることができる。
尚、この実７（ｌｉ例における光重舎利」」は光照射に
よシ屈折率が低下するものであるが、この発明の光重合
材料は光照射によシ屈折率が増加してもよく、有機材料
以外に無機材料であってもよい。
よシ屈折率が低下するものであるが、この発明の光重合
材料は光照射によシ屈折率が増加してもよく、有機材料
以外に無機材料であってもよい。
また、光は紫外線の他、可視光や赤外線であってもよい
。
。
第１図乃至第４図は従来例を示し、第１図は光導波路の
製造工程図、第２図（ａ）は露光装置の断面側面図、第
２図（ｂｌはフィルムの光強度分布図、第２図（Ｃ１は
同屈折率差の分布図、第３図（ａｌ及び第４図ｆａｌは
それぞれ異なるフィルムの拡大正面図、第６図（１））
及び第４図（ｂ）は開光強度分布図、第６図（Ｃ）及び
第４図（Ｃ１は同屈折率差の分布図、第５図乃至第９図
はこの発明の実施例を示し、第５図（ａ）は露光装置の
断面側面図、第５図（ｂ）はフィルムの光強度分布図、
第５図（Ｃ１は同屈折率差の分布図、第６図（ａ）及び
第７図（ａｌはそれぞれ異なるフィルムの正面図、第６
図（（〕）及び第７図（ｂ）は同党強度分布図。 第６図ＦＣ＋及び第７図（Ｃ１は同屈折率差の分布図、
第８図は他のフィルムの正面図、第９図は他の露光断面
側面図である。 １：露光装置、 ２：キャスト容器。 ６：フィルム、 ５ａ：高屈折率層。 ３ｂ＝低屈折率層、 ４：水準器、 ５：位置決め金具
、 ６・７：フォトマスク。 ６ａ・７ａ：マスク部、 ８：減衰板。 ９・１０・１５：紫外線、 １１・１２・１４：照射
装置、 １６：光ファイバ。 １６：ミラー。 特許出願人 立石電機株式会社代理人 弁理
士 中 利 茂 １ａＭ１図 第５図 （Ｑ） ＄８図 第９図 手続補正書（自発） 昭和５７年１２月 ８日 特許庁長官殿 １ 事件の表示 昭和５７年 特 訂 願 第 ４７５８２８ 号２
光明の名称 光導波路の製造方法６ 補正をする者 事件との関係 特許１」３願人 住 所 京都市右京区花園土堂町１０番地名 称
（２９４） 立石電機株式会７−１代表者 立 石
孝 卸 ４代理人 ５ 油止の対象 （１） 図面の第１図 Ｗ、上 第１図
製造工程図、第２図（ａ）は露光装置の断面側面図、第
２図（ｂｌはフィルムの光強度分布図、第２図（Ｃ１は
同屈折率差の分布図、第３図（ａｌ及び第４図ｆａｌは
それぞれ異なるフィルムの拡大正面図、第６図（１））
及び第４図（ｂ）は開光強度分布図、第６図（Ｃ）及び
第４図（Ｃ１は同屈折率差の分布図、第５図乃至第９図
はこの発明の実施例を示し、第５図（ａ）は露光装置の
断面側面図、第５図（ｂ）はフィルムの光強度分布図、
第５図（Ｃ１は同屈折率差の分布図、第６図（ａ）及び
第７図（ａｌはそれぞれ異なるフィルムの正面図、第６
図（（〕）及び第７図（ｂ）は同党強度分布図。 第６図ＦＣ＋及び第７図（Ｃ１は同屈折率差の分布図、
第８図は他のフィルムの正面図、第９図は他の露光断面
側面図である。 １：露光装置、 ２：キャスト容器。 ６：フィルム、 ５ａ：高屈折率層。 ３ｂ＝低屈折率層、 ４：水準器、 ５：位置決め金具
、 ６・７：フォトマスク。 ６ａ・７ａ：マスク部、 ８：減衰板。 ９・１０・１５：紫外線、 １１・１２・１４：照射
装置、 １６：光ファイバ。 １６：ミラー。 特許出願人 立石電機株式会社代理人 弁理
士 中 利 茂 １ａＭ１図 第５図 （Ｑ） ＄８図 第９図 手続補正書（自発） 昭和５７年１２月 ８日 特許庁長官殿 １ 事件の表示 昭和５７年 特 訂 願 第 ４７５８２８ 号２
光明の名称 光導波路の製造方法６ 補正をする者 事件との関係 特許１」３願人 住 所 京都市右京区花園土堂町１０番地名 称
（２９４） 立石電機株式会７−１代表者 立 石
孝 卸 ４代理人 ５ 油止の対象 （１） 図面の第１図 Ｗ、上 第１図
Claims (3)
- （１）光照射によって屈折率が変化する光重合材料のｄ
液をキャスト容器に注入し、シート状で且つ半１トｊ形
状のフィルムを形成し、このフィルムの上面と下面とに
同一パターンのフォトマスクをそのパターンか一致する
ように密層して配設し、前記フィルムの上方と下方とか
ら光を前記フォトマスクに垂直にこのフォトマスクへ向
けて交互に照射してフィルムに高屈折率層を形成し１こ
後、このフィルムの上下面に低屈折率のコーティング剤
をコートして光導波路を形成することを特徴とする光導
波路の製造方法。 - （２）前記光は、２つの光源よりフィルムの上下面に照
射されることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
光導波路の製造方法。 - （３）前記光は、１つの光源より反射手段によって上下
に分割されてフィルムの上下面に照射されることを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載の光導波路の製造方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17582882A JPS5965808A (ja) | 1982-10-06 | 1982-10-06 | 光導波路の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17582882A JPS5965808A (ja) | 1982-10-06 | 1982-10-06 | 光導波路の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5965808A true JPS5965808A (ja) | 1984-04-14 |
Family
ID=16002926
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17582882A Pending JPS5965808A (ja) | 1982-10-06 | 1982-10-06 | 光導波路の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5965808A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61260206A (ja) * | 1985-05-15 | 1986-11-18 | Hitachi Ltd | 重合方法並びに樹脂製品 |
| EP1678534A1 (en) * | 2003-10-27 | 2006-07-12 | RPO Pty Limited | Planar waveguide with patterned cladding and method for producing same |
-
1982
- 1982-10-06 JP JP17582882A patent/JPS5965808A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61260206A (ja) * | 1985-05-15 | 1986-11-18 | Hitachi Ltd | 重合方法並びに樹脂製品 |
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| EP1678534A4 (en) * | 2003-10-27 | 2009-09-02 | Rpo Pty Ltd | TEXTURE COATING PLAN WAVE GUIDE AND PROCESS FOR PRODUCING THIS WAVEGUIDE |
| US8021900B2 (en) | 2003-10-27 | 2011-09-20 | Rpo Pty Limited | Planar waveguide with patterned cladding and method for producing same |
| US8994037B2 (en) | 2003-10-27 | 2015-03-31 | Zetta Research And Development Llc-Rpo Series | Planar waveguide with patterned cladding and method for producing same |
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