JPS5963793A

JPS5963793A - メタルマスクスクリ−ン版基材の製法

Info

Publication number: JPS5963793A
Application number: JP57173778A
Authority: JP
Inventors: 赤江　清
Original assignee: NAKANUMA AATO SCREEN KK
Current assignee: NAKANUMA AATO SCREEN KK
Priority date: 1982-10-02
Filing date: 1982-10-02
Publication date: 1984-04-11

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】本発明は、電子部品の製造に用いるスフＩＪ　＋ン版の
製造に適したメタルマスクスクリーン版ノ、（利の製法
に関する。

エレクトロニクス工業における電子部品製造工程に用い
るスクリーン版には、高密度、高精度の要求が益々強ま
っており、ポリエステル製又はステンレス製の紗にエマ
ルジョン感光剤を塗布したスクリーン版では、寸法精度
、解像力、パターン再現性、耐剛性の点で問題があり、
大きな改良が必要とされている。

また、エレクトロニクス工業の市場に対する対応力とし
て、回路又は図形の設訂からスクリーン版の完成迄の時
間短縮化も、厳しく要求される。

そこで、スクリーン版の質的改良のため、メタルマスク
の需要が増加しているが、金属箔にフォトエツチング等
を施し、パターンを形成した後に、紗と一体化する方法
では、図形設計からメタルマスクスクリーン版完成迄の
時間がかかり過ぎ、市場の要求に十分対応できなかった
。

本発明は、このような欠点を解消し、フォト、エツチン
グによって、任意に作業性よくミメタルマスクスクリー
ン版を製造できる基材の製法を提供する。

本発明の方法は、シリンダーをメッキ浴に浸漬し、回転
しながらシリンダー表面にメッキし、金属膜を形成し、
その後金属製の紗（又はメツシュ）を、その片面が上記
金属膜と密着するように、シリンダー上に固定し、再び
シリンダーを回転しながらメッキすることによって、上
記金属膜と上記紗を析出した金属メッキ層で接合し、シ
リンダーから上記金属膜と一体化された紗を剥離するこ
とを特徴とする。

本発明では、第１図ａ及びｂの如く、金属製、例えばス
テンレス製の紗（１）の片面に均一な金属膜（２）を有
する基材を非常に作業性よく製造でき、しかも金属膜（
２）を紗（１）のワイヤー（３）が交叉した頂部（４）
にのみ接着させることができる。

従って、本発明の基材は計画的に量産することができ、
所望時にフォトエツチング法で所定のパターン（５）に
金属膜（２）を開孔除去することによって、容易に第２
図の如きメタルマスクスクリーン版に作成できる。

本発明の方法は、第３図の実施例で示されるように、シ
リンダー（７）をメッキ浴（８）に浸漬し、シリンダー
（７）を回転しながら、シリンダー表面に金属膜（２）
をメッキ形成するものであるが、このシリンダー（７）
表面は金属膜（２）を後に剥離できるようにステンレス
又はチタンから形成されるのが好ましい。

シリンダー（ア）は均一な金属膜（２）が形成されるよ
うに回転モータ（９）及びベルト００）又はギアなどで
回転される。化学メッキの際は不要であるが、電気メッ
キの際は陽極（１１）にメンキする金属、例えばニッケ
ル、銅、クロームなどの電極をメッキ浴（８）中に置き
、これを直流電極に接続する。

勿論、電気メッキに際しては、シリンダー（７）も電極
に接続し、メッキ浴（８）としては金属の硫酸塩又は有
酸溶液などを使用する。

次に、シリンダー（ア）上の金属膜（２）への紗（１）
の密着は、クランプ（Ｉ２）にてタガ張り力で達成でき
る。メッキによって、金属膜（２）と紗（１）は一体化
されるが、このメッキ層（６）の厚さは、メッキ浴の組
成、濃度、温度、電流密度、積算電流などを管理するこ
とによって制御できる。金属膜（２）と紗（１）を一体
化するためのメッキ層の厚さは、両者を安定して接着し
、しかも紗（１）のワイヤー（３）間の空隙、即ちメタ
ルマスクスクリーン版のパターンの開口率を十分保つよ
うに調節することが大切である。

シリンダー（７）の回転軸α３）は垂直でも水平でもよ
いが、メッキはシリンダー（７）両端部で厚く、中央部
で薄く形成され易いので・メッキの均一度を上げるため
にディストリビュータ−スクリーンを電流路に配したり
、電極とシリンダー表面の距離を変化させたり、循環ポ
ンプの使用によってメッキ浴を循環させたりするのが好
ましい。

本発明において、紗（１）を直接金属膜（２）とメツキ
接合した場合には、第１図の如く、紗（１）のワイヤー
（３）の周囲にメッキ層（６）が形成され、紗（１）の
開口率を低下させることを避けることはできず、非常に
微細なパターンのスクリーン版に形成した場合など、印
刷精度に欠ける場合も生ずるが、このような場合には、
紗（１）にメツキレシスト（１→を部分的に塗布して使
用するのが好ましい。

例えば、紗（１）の表面のワイヤー（３）が交叉する頂
部（４）を除いてメツキレジス）　（１４）を塗布し、
メツキレジス）　（１４）が存在しないワイヤー頂部（
４）が金属膜（２）と密着するように、紗（１）をシリ
ンダー（７）上に固定し、メッキすることによって、メ
ッキ層を金属膜（２）と紗（１）の接合面にのみ形成し
、紗（１）の開口率を制限するワイヤー（３）側壁には
形成しないようにすることができる（第１図す参照）。

メツキレシストθ→の部分的な塗着は、例えば紗（１）
全体に浸漬法などでメツキレシスト０４）層を形成し、
バクロールなどで、ワイヤー頂ｍ＜４＞のレジス）　（
１４）を剥離したり、又はキスロールコート方式などで
、紗（１）の厚さ方向でＡ程度をメツキレジストθ優で
塗布することによって簡単に達成される。

それぞれの具体例を図面に示す。第４図では、全体にレ
ジス）　（１→を塗布した紗（１）がバックロール（１
５）上にロールθ６）で圧着導入され、捲取りロール（
１７）により張力を保ちながら捲取られるが、その間に
円板状フェルトの中心に軸孔を設け、シャフトを通し、
締何けたバクロールα８）の高速回転の作用を受け、第
５図の如くワイヤーが交叉する頂部（４）のレジスト０
４）が除去される。

第６図の例では、正確な回転をするコーティングロール
（１９）に耐着して上るレジス）　（＋４）　ヲナイフ
（財）でカウトし、紗（１）にレジストθ→を付着させ
、乾燥ゾーン■υで熱風乾燥すると同時にワイヤー（３
）間のレジスト（１→を吹き飛ばし、第５図同様の部分
的にレジスト塗着した紗（１）を得ることができる。

レジスト（１→としては、通常プリント基板製造に使用
されるアルカリ剥離型レジスト、環化ゴ　　１ム糸塗料
などを用いることができる。

なお、本発明で得られるメタルマスクスクリーン版基材
は、シリンダー（７）から剥離したシート状基材をその
まま平板状スクリーンに適用しても、また端縁を接合し
て円筒状スクリーンに適用してもよい。いずれにしても
、エマルジョンタイプの感光剤を用いた通常のスクリー
ン版では得られない精度なる印刷が可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の基材の断面図、第２図は本発明の基材
を用いて作成したスクリーン版の斜視図、第３図は本発
明の実施例で使用する装置の説明図、第４図及び第６図
はそれぞれ紗にレジストを塗着する装置の説明図、第５
図はレジシストを部分塗着した紗の斜視図である。（１）−・・・・・・・・・・・・・・紗（２）・・・
・・・・・・・・・・・・金属性（３）・・・・・・・
冊・・・ワイヤー（４）・・・・・・・・・・・・・・
・頂部（５）・・・・・・・・・・・曲パターン（６）
　・・・・・・・・・・・・・・・メッキ層（７）・・
・・・・・・曲・・・シリンダー（８）−・・・・・・
・・曲・・メッキ浴（９）・・・・・・・・・・・・・
・・モータ００）・・・・・・・・・・・・・・・ベル
ト（１υ・・・・・・・・・・・曲陽極（ロ）・・曲・・・・・曲クランプ０３）・・・・・・・・・・・・・・・回転軸（１４）
−ニー・・・・・・・・・・・レジスト特許用に’Ｊ′
１人　　中沼アートスクリーン株式会社代　　理　　人　　　新　　実　　健　　部外１名

Claims

【特許請求の範囲】

（１）　　シリンダーをメッキ浴に浸漬し、回転しなが
らシリンダー表面にメッキし、・金属膜を彫成し、その
後、金属性の紗を、その片面が上記金属膜と密スｑする
ように、シリンダー上に固定し、再びシリンダーを回転
しながらメッキすることによって、上記金属膜と上記紗
を析出した金属メッキ層で接合し、シリンダーから上記
金属膜と一体化された紗を剥離することを特徴とするメ
タＳ全３リーン版基材の製法。
（２）上記金属性の紗が、その片面のワイヤーが交叉す
る頂部を除いてメツキレシストで塗着されており、メツ
キレシストが存在しないワイヤー頂部が上記金属膜と密
着するように、シリンダー上に固定され、メッキされる
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のメタ゛ル
くで４！Ｊ−ン版基材の製法。