JPS5955414A - All solid-state type electrochromic element - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To realize coloring with desired coloring density, by composing an electrochromic layer as a cathode-side coloring layer of >=2 kinds of layers of electrochromic materials which have different absorption bands. CONSTITUTION:The 1st electrode 2, electrochromic layer 3 as the cathode-side coloring layer, an insulating layer 4, and the 2nd electrode 5 are laminated successively on a transparent substrate 1. The electrochromic layer 3 consists of layers 31 and 32 having different absorption bands or three layers. For example, when the layer 31 of material WO3 is only provided, it colors in blue by applying a voltage between the electrodes 2 and 5, but the layer 32 of material Bi2O3 which changes in color from colorless to dark brown is laminated to obtain coloring approximate to black. Thus, the coloring with desired color density is realized.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は電気化学的発消色現象すなわちエレクトロクロ
ミック現象を利用したエレクトロクロミック素子に関す
るものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an electrochromic device that utilizes an electrochemical coloring/decoloring phenomenon, that is, an electrochromic phenomenon.

エレクトロクロミック現象とは、電圧を加えた時に酸化
還元反応により物質に色が付く現象を指す。このような
エレクトロクロミック現象を利用する電気化学的発消色
素子すなわちエレクトロクロミック素子は、飼えば数字
表示素子、Ｘ−Ｙマトリクスディスプレイ、光学シャッ
タ、絞り機構等に応用できるもので、その材料で分類す
ると液体型と固体型に分けられるが、本発明は特に全固
体型のエレクトロクロミック素子に関するものである。Electrochromic phenomenon refers to the phenomenon in which substances change color due to redox reactions when voltage is applied. Electrochemical quenching dye elements, or electrochromic elements, that utilize such electrochromic phenomena can be used in numeric display elements, X-Y matrix displays, optical shutters, aperture mechanisms, etc., and can be classified according to their materials. Although the electrochromic device can be divided into a liquid type and a solid type, the present invention particularly relates to an all-solid type electrochromic device.

エレクトロクロミック現象を利用した全固体型エレクト
ロクロミック素子の２つの従来例を第１図および第２図
に示す。Two conventional examples of all-solid-state electrochromic devices that utilize electrochromic phenomena are shown in FIGS. 1 and 2.

第１図に示すエレクトロクロミック素子は、透明な基板
１の上に、透明導電体膜よりなる第１電極２、陰極側発
色層であるエレクトロクロミック層３、誘電体膜からな
る絶縁層４、導電体膜より成る第２電極５を順次積層し
て外るものである。The electrochromic element shown in FIG. 1 consists of a transparent substrate 1, a first electrode 2 made of a transparent conductive film, an electrochromic layer 3 which is a coloring layer on the cathode side, an insulating layer 4 made of a dielectric film, and a conductive layer 4. The second electrode 5 made of body membrane is sequentially laminated and removed.

また、第２図に示すエレクトロクロミック素子は、第１
図に示す構造における絶縁層４と第２電極５との間に、
さらに、陽極側発色層である第２の工レフト［〕クロミ
ック層６を積層したものである。Furthermore, the electrochromic element shown in FIG.
Between the insulating layer 4 and the second electrode 5 in the structure shown in the figure,
Further, a second left chromic layer 6, which is a coloring layer on the anode side, is laminated.

上記の構造におい１−１基板１は一般的にガラスＡＪＱ
に上って形成さノしるが、こハ、ｄガラス板に限らず、
プラスチック板脣たけアクリル根性の如く透明な板であ
ればよく、Ａた、その位１１′１にトｌニジても１、’
ｒ！　１電イ阪２の下てり；Ｊなく第２電栓５の土にπ
ｙけてイ）よいし、［１的に応じて（例えば、保１’Ｉ
カバーにするなどの目ｒ白で）両（ｌＩｌｌにｉンｆ＝
ｉでもよい。ただし、ζ、わらのす２）８−に応じで、
ａ　２Ｔｕ、ｌ’ｉｔ　５　ｔ　；％　Ｎｌ　’−’ｌ
’　７０鴫にｊ〜たり、ｉｉｌ、ｉ　１ｉｌｊの７ｐ＋
’、イ敬とイ）袴、明導ｈ＋、屑（にする８晃゛がある
。In the above structure, 1-1 substrate 1 is generally glass AJQ
Although it is not limited to d glass plates,
The length of the plastic plate can be as long as a transparent plate like acrylic.
r! 1st line, 2nd line going down; π on the ground of 2nd electric plug 5 without J
y kete a) is good, [1 depending on (e.g., ho 1'I
In the middle of the day (for example, as a cover)
It may be i. However, depending on ζ, Waranosu 2) 8-,
a 2Tu, l'it 5 t ;% Nl '-'l
' 70 shu ni j~tari, iil, i 1ilj's 7p+
', Ikei and I) Hakama, Meidou H+, and Kuzu (Nishi 8 Akira).

Ｉ記の４固（、＋智ｊエレクトロクコミック喜−了に一
般的に用いらＪ７、ている膜の相打の代表例を列挙する
。ｇ　Ｉ　Ｉｊ’、　４１２　＆＋ＩＩＶ成−ｊ−ルＡ
　明ｐｇｎｉ、　ｊｌ：’ニア、　ｙ：ｔ、Ｉ’ｒＯ膜
（Ｉｎ２Ｏ３中に５　％　（１）　５ｎ０２を含むもの
）やネサｕ（ｈ、Ｖである。陰極側発色１イ６であるエ
レクトロクロミック層３シ１、二ｒ′Ｉぐ化タングステ
ン（ｗｏ２’）、三酸化タングステン（ＷＯ３）、二ｒ
イ；２化モリグデン（Ｍｏ０２）、三酸化モリブチ′ン
（ＭｏＯ２）、五〇９化バナノウム（Ｖ２Ｏ５）等を用
いて形成する。誘ｉ体股である＋Ｆ、４縁層４には、二
酸化ノルコン（Ｚｒ０２）、酸化ケイ素（Ｓｉ０　）、
二酸化ケイ素（Ｓｉ０２）、五酸化タンタル（Ｔａ２０
５　）等に代表さノするｉ’＋：＞化物、あるいはフ；
化リチウム（ＬｉＦ　）　、フッ化マグネシウム（Ｍｇ
Ｆ２）　ａに代表されるフッ化物が用いられる。List the representative examples of the trades that are commonly used in the 4 solids of Iki (, +Chijelectrokomikujo-ryo).
Bright pgni, jl: 'near, y: t, I'rO film (containing 5% (1) 5n02 in In2O3) and Nesa u (h, V. Electrochromic which is coloring 1-6 on the cathode side). Layer 3 1, 2r'I tungsten oxide (WO2'), tungsten trioxide (WO3), 2r
A: Formed using molygdenum dioxide (Mo02), molybutylene trioxide (MoO2), vananoum pentoxide (V2O5), or the like. +F, which is the dielectric layer, and the 4th edge layer 4 contain Norcon dioxide (Zr02), silicon oxide (Si02),
Silicon dioxide (Si02), tantalum pentoxide (Ta20)
5) etc. i'+: > compound or f;
Lithium fluoride (LiF), magnesium fluoride (Mg
F2) A fluoride represented by a is used.

第２電極５には、例えｒｆＡｕの半透明導電膜が使用さ
ノ］、る。才だ、第２図に示すものにおいて、陽極側発
色層である第２のエレクトロクロミック層６ば、酸化ク
ロ、！、　（Ｃｒ２０ｘ　）、水酸化イリジウム（Ｉｒ
（Ｏｆ−０２）、水酸化ニッケル（Ｎ１（ＯＩＴ）２　
）等を用いて形成する。For the second electrode 5, a translucent conductive film such as rfAu is used. In the one shown in FIG. 2, the second electrochromic layer 6, which is the coloring layer on the anode side, is made of chromium oxide! , (Cr20x), iridium hydroxide (Ir
(Of-02), nickel hydroxide (N1(OIT)2
) etc.

この様な構造をもつ伶固体型エレクトロクロミック素子
は、第１電極２と第２電極５の間に電ＩＦを印加するこ
とにより電気化学的反応が起き発色、消色をする。この
発色機構は、向えば、第１のエレクトロクコミック層３
へのカチメンと電子のダブルインノエクションによるブ
ロンズ形成にあると一般的に稠われている。Ｋｌｌえば
、そのエレクトロクロミック物質にＷＯ５を用いる場合
には、次の（１）式で表わされる酸化還元反応が起き発
色する。In the solid-state electrochromic element having such a structure, when an electric IF is applied between the first electrode 2 and the second electrode 5, an electrochemical reaction occurs and the color develops or disappears. This coloring mechanism is based on the first electrocomic layer 3.
It is generally believed that bronze formation occurs due to the double innoection of electrons and electrons. In other words, when WO5 is used as the electrochromic substance, an oxidation-reduction reaction expressed by the following formula (1) occurs and color is developed.

ＷＯ３＋　　ｘＨ十　十　ｘｅ　　　：　　ＨｘＷＯ３
（］）（１）式に従ってタングステンブロンズＨｘＷＯ
５が形成芒ノ１、発色するが、ここで印加電圧を逆転す
れは消色状、沖となる。WO3+ xH ten ten xe: HxWO3
(]) Tungsten bronze HxWO according to formula (1)
5 forms awn No. 1, the color develops, but if the applied voltage is reversed at this point, the color becomes decolored.

し力１し、この様な構造の全ｒ、！、−１１型エレクト
ロクロミツク素了は、発色時に所望の着色濃度がＫ”Ｓ
らｉｔないなどの欠点な持っている。The total force of such a structure is 1! , -11 type electrochromic material has a desired coloring density of K"S during coloring.
It has some disadvantages such as not having it.

本発明の目的は、王制のような従来の工１／りトロクロ
ミック素子における欠点を改善し、所望の着色で１冴度
ｑ）発色が得られる全固体型工１／クトロクロミ、り素
−ｆを得ることにある。The purpose of the present invention is to improve the drawbacks of conventional trochrochromic elements such as chromic elements, and to develop an all-solid-state trochrochromic element that can provide desired coloring with 1 brightness. It's about getting.

本発明による全固体型エレクトロクロミック素子の特徴
とするところは、上記の第１図および第２図に示すよう
な全固体型エレクトロクロミック素了において、陰極側
発色層である工１／りトロクロミ、り層がそ）１ぞれ吸
収バンドの異すっｆｌ　工し／クトロクロミック物質の
２以上の層を積層したものて゛月’＝　Ｄ’ｉ、　’Ｊ
ノ１．／とことに・ある。The all-solid-state electrochromic device according to the present invention is characterized by the fact that in the all-solid-state electrochromic device as shown in FIGS. A lamination of two or more layers of chromic materials, each with a different absorption band.
No. 1. / There is a particular thing.

以Ｔ、本発明の実施態様について説明する。第３図（ｄ
、本発明を一上記の第１図に示す構ｊ告のエレクトロク
ロミック素子に適用した本発明の第１の実施態様を示す
。このエレクトロク［７ミツク素子は、第１図に示すも
のと同様に、透明な基板１の一上にＪ透明導電体膜より
なる第１屯極２、陰極１［１１１発色層であるエレクト
ロクロミック層３、＋Ｊ　７’ｌＬｈ膜からなる絶縁層
４、導電体膜上りなる第２屯（全５を順次にｔ！１層し
７てなるものであるが、陰極側発色層であるエレクトロ
クロミック層３は、−それぞれ吸収バンドの異なった２
再のエレクトロクロミック物質、例えばＷＯ３の層３１
とＢｉ２Ｏ３の層３２を順次に積層することによって構
成さＩしている。Hereinafter, embodiments of the present invention will be described. Figure 3 (d
1 shows a first embodiment of the present invention in which the present invention is applied to the electrochromic device shown in FIG. 1 above. This electrochromic device, similar to the one shown in FIG. Layer 3, an insulating layer 4 consisting of a +J7'lLh film, a second layer consisting of a conductor film (all 5 layers are sequentially t!1 layers, and an electrochromic layer is a coloring layer on the cathode side). 3 is - 2 with different absorption bands
A layer 31 of re-electrochromic material, e.g. WO3
It is constructed by sequentially laminating layers 32 of Bi2O3 and Bi2O3.

第４図は本発明全土ＲＣの第２し１に示す構ｊｚのエレ
クトロクロミック累子に適用した本発明の第２の実ノイ
！ｊ態様を示す。このエレクトロクロミック素子ｔま、
第３図に示すエレクトロクロミ、り素子における絶縁層
４とＫＴＪ２電極５との間に、さらに、陽極側発色層で
ある第２のエレクトロクロミック層６を積層したもので
、第３図に示すものと同様に、陰極（ｌｕｌ１発色層で
ある第１のＪレクトロクロミック層３ば、上述と同様に
、−ｆ：］主ぞカ、吸収バンドの界なった２釉のエレク
トロクロミック物質の層を順次積ｊシ）することによっ
て構成てれている。FIG. 4 shows a second practical example of the present invention applied to an electrochromic transducer having the structure shown in Part 2 and 1 of the RC of the present invention. j mode is shown. This electrochromic element,
A second electrochromic layer 6, which is a coloring layer on the anode side, is further laminated between the insulating layer 4 and the KTJ2 electrode 5 in the electrochromic element shown in FIG. 3. Similarly, the cathode (the first J electrochromic layer 3, which is the color-developing layer, -f:) is the main layer, and the two glazed electrochromic material layers whose absorption bands are separated are sequentially applied. It is made up of the following:

第５［ツ１Ｉ７ｔ、本発明を上記の第１図に示す構造の
エレクトロクロミック素子に適用した本発明の第３の実
施態様を示す。このエレクトロクロミック素子（ｌこお
いては、第１図に示す陰極側発色層であるエレクトロク
ロミック層３ば、そ〕１．ぞノを吸収バンドの異すった
３棹のエレクトロクロミック物質、例えば、ＷＯ５（７
）層３１とＶ２Ｏ５（７）層３２とｒ１０２の層３３を
順次に「１層することによって構成ネわ、でいるＯ 第１図および第２図に示すように、第１エレクトロクロ
ミック層に従来の如く単一のエレクトロクロミック物質
例えばＷＯ３のみを用いる場合には、発色は青色にしか
着色しないが、第３図、第４図および第５１ゾに示すよ
うに、第１エレクトロクロミック層に、そｉｚぞれ吸収
バンドが異なっていて異なる色に着色するエレクトロク
ロミック物質を積層すれば、黒色に近い色が得られ、濃
い着色濃度の発色を得ることができる◎ 上述の実施態様においてし１ｊとして挙げたものについ
て説明すると、電圧を印加した時に、ＷＯ３は無色から
青色に着色し、Ｂ１２Ｏ３は無色から黒褐色に着色し、
Ｖ２Ｏ５け淡黄色から灰緑色に着色し、ＴｌＯ２にし無
色から灰緑色に着色し、こ１＋らのエレクトロクロミッ
ク物質を４ｉｔ層することによって、黒色に近い発色が
得らり、る。Fifth Embodiment A third embodiment of the present invention is shown in which the present invention is applied to the electrochromic element having the structure shown in FIG. 1 above. This electrochromic element (in this case, the electrochromic layer 3, which is the coloring layer on the cathode side shown in FIG. WO5 (7
) layer 31, V2O5 (7) layer 32, and layer 33 of When only a single electrochromic material such as WO3 is used, the color is only blue, but as shown in FIGS. 3, 4 and 51, the first electrochromic layer is By stacking electrochromic substances that have different absorption bands and are colored in different colors, a color close to black can be obtained and a color with a deep color density can be obtained. To explain these, when voltage is applied, WO3 changes from colorless to blue, B12O3 changes from colorless to blackish brown,
By coloring V2O5 from pale yellow to gray-green and TlO2 from colorless to gray-green, and layering these 1+ electrochromic substances in 4 layers, a color close to black can be obtained.

次に、本発明による全固体型エレクトロクロミック素子
の実施し１ｊを説、明する。Next, the implementation 1j of the all-solid-state electrochromic device according to the present invention will be described and explained.

実施例 第３図に示す構造の全固体型エレクトロクロミック素子
において、厚さ０７叫の硼硅酸ガラス製の基板１上に形
成した適当な引き出し電極部及びリード部を晧えたＩＴ
Ｏ膜から寿る第１電極２上に、真空蒸着法によりＷＯ３
の層３１及び旧２０５の層３２を順次積層してなる陰極
側発色層のエレクトロクロミック層３を形成し、更にこ
の上にＴａ２０５よりなる絶縁層４（厚さ３０００Ｘ）
及びＡｕの半透明導電膜（厚さ３００Ｘ）からなる第２
電極５ｆ：形成した。ここで、上記ＷＯ５層３１及びＢ
１２０５層３２Ｑ＞）！、Ｑ＠ｌｉ’ａ＃ｒ　２０００
Ｘ、８００　ＸとＩ、ｆｃ。また真空溜７にの条件は真
空度２．０　Ｘ　１０　’Ｔｏｒｒ、蒸着速度１０Ｘ／
ｓｅｃとした。Embodiment In an all-solid-state electrochromic device having the structure shown in FIG.
WO3 is deposited on the first electrode 2 made of an O film using a vacuum evaporation method.
An electrochromic layer 3, which is a coloring layer on the cathode side, is formed by sequentially laminating a layer 31 of 205 and a layer 32 of old 205, and an insulating layer 4 (thickness 3000X) made of Ta205 is further formed on this layer.
and a second layer consisting of an Au semitransparent conductive film (thickness 300X).
Electrode 5f: formed. Here, the above WO5 layer 31 and B
1205 layer 32Q>)! , Q@li'a#r 2000
X, 800 X and I, fc. The conditions for the vacuum chamber 7 are a vacuum degree of 2.0 x 10' Torr and a deposition rate of 10 x/
sec.

この様にして得ら７″した全固体型エレクトロクロミ、
り素子を第１及び第２市極ｍ１に電圧２．２Ｖを開力Ｉ
Ｊ　Ｌ、で駆動したところ、着色濃度がΔＯＤで０、４
．０の発色を得ることができた。こｈは、陰極ｆｉｌ＋
発色層のエレクトロクコミック層が）ｖｏ３のみのもの
よりも約１．３倍の着色濃度が得られたことになる。The 7″ all-solid-state electrochromium obtained in this way,
A voltage of 2.2V is applied to the first and second city poles m1.
When driven with JL, the coloring density was 0.4 at ΔOD.
．． It was possible to obtain 0 color development. This is the cathode fil+
This means that a color density of about 1.3 times that of the color-forming layer (electrocomic layer) with only VO3 was obtained.

実施例２ 第３図に示す構造の全固体型エレクトロクロミック素子
Ｐこおいて、厚さ０．７　ｍの硼硅酸ガラスよりなる基
板１上に適当な引き出し電極部及びリード７ｉ１ｊを（
ｒｉＮえたＩＴＯ膜より成る第１市極２を形成し、その
上に、３４空蒸着法によりＷＯ３の層３１及び’ｌ’１
０２の層３２を１順次積層してなる陰極側発色層のエレ
クトロクロミック層３を形成し、更にこの上Ｉｃ　Ｔａ
２（Ｊ５　、Ｊ：　９　ｆｌ　／）絶縁層４（厚す３０
００１　）及び半ｊ〃明Ａｕ腋（厚さ３ｏｏＸ）妙・ら
なる第２電極５を形成した。ここで、上記のＷ０３層３
１及びＴｌＯ２Ｍ　３２　Ｃ’）　Ｊｌ　８　Ｂ各々２
２００　Ｘ　、　８００　Ｘトした。また、真空蒸着の
条件は真空度２．　ＯＸ　１Ｏ−５Ｔｏｒｒ’、　蒸着
速度１ｏｘ７！（！ｃとした。Example 2 In an all-solid-state electrochromic device P having the structure shown in FIG.
A first city electrode 2 made of an ITO film coated with riN is formed, and a layer 31 of WO3 and a layer 1 of 'l'
The electrochromic layer 3 of the cathode side coloring layer is formed by sequentially laminating the layers 32 of Ic Ta
2 (J5, J: 9 fl/) insulating layer 4 (thickness 30
001) and a half-light Au armpit (thickness: 30X), a second electrode 5 was formed. Here, the above W03 layer 3
1 and TlO2M 32 C') Jl 8 B 2 each
200X and 800X were used. In addition, the conditions for vacuum evaporation are vacuum degree 2. OX 1O-5Torr', deposition rate 1ox7! (It was set as !c.

この様にして得ら力、た全固体型エレクトロクロミック
素子’を第１及び第２亀橡聞に電ＪＥ　２．２　Ｖを印
加して駆動したところ、着色濃度がΔＯＤで０．３９の
発色を得ることがて＠た。こ７’１．　ｉｉ陰極側発色
層のエレクトロクロミ、り層がＷＯ３のみのものよりも
１．３倍の着色速度が待らえ７．たことになる。When the all-solid-state electrochromic device obtained in this manner was driven by applying an electric current of 2.2 V to the first and second voltages, it developed a color with a coloring density of 0.39 at ΔOD. I was able to get it. 7'1. ii. The coloring speed of the electrochromic coloring layer on the cathode side is 1.3 times faster than that of a layer made of only WO3.7. That means that.

実施例 第５図に示す構造の全固体型エレクトロクコミック素子
において、厚さ０７順の６＋１１１硅酸ガラスよりなる
基板１上に適当な引きａｔ　Ｌυ１極部及びリード部を
諦えたＩＴＯ膜より成る第１″Ｉａ極２を形成し、その
上に、真空蒸着法により、ＷＯ３の層３１及びＶ２Ｏ５
の層３２及びＴｌＯ２の層３３を順次積層してなる陰極
側発色層のエレクトロクコミック層３を形成し、更にこ
の土にＴａ２０５よりなる絶縁層４（厚さ３０００Ｘ）
及び半透明Ａｕ　Ｍ（厚す３　Ｑ　ＯＸ）からなる第２
１［４ｆｆｉ５を形成した。ここ−で、」１記のＷＯ２
層：３１及びＶ２Ｏ５１輯３２及びＴｉＯ２層３３の厚
嘔は各／２２０００λ、　８００　Ｘ　、　８００　Ｘ
とした。EXAMPLE In an all-solid-state electrocomic device having the structure shown in FIG. 5, on a substrate 1 made of 6+111 silicate glass in the order of thickness 07, an ITO film made of an ITO film with the pole part and lead part removed A first "Ia electrode 2 is formed, and a layer 31 of WO3 and a layer 31 of V2O5 are deposited thereon by vacuum evaporation method.
A layer 32 of TlO2 and a layer 33 of TlO2 are sequentially laminated to form an electrocomic layer 3 as a coloring layer on the cathode side, and an insulating layer 4 (thickness 3000X) made of Ta205 is further formed on this soil.
and a second layer made of semi-transparent Au M (thickness 3 Q OX)
1[4ffi5 was formed. Here, WO2 of "1"
Layer: 31 and V2O51 layer 32 and TiO2 layer 33 thickness are each /22000λ, 800X, 800X
And so.

１、＋、↓（空ｆｆｉ　７＆の条件は！（？、度２．　
ＯＸ　１．　Ｏ”　Ｔｏｒｒ蒸着速度ｌＯλ／ψＣとし
／ζ。1, +, ↓(Empty ffi 7& condition is!(?, degree 2.
OX 1. O'' Torr deposition rate lOλ/ψC/ζ.

この様にして社１られた全円［本型エレクトロクロミッ
ク１子を第１及び第２市枢間に１１ｊ１圧２，２ｖを１
（］加して、駆％Ｉ　したところ、着色濃度がΔＯＩ）
で０４２の発色會得ることができブξ。こノ１、は陰極
１ｔｌ１１発色層σ）エレクトロクロミック層がＷＯ２
のみのものよりも１４倍の着色濃度が？’Ｊらｊしたこ
とになる。The entire circle created in this way [one book-type electrochromic was connected between the first and second city center with 11j1 pressure 2.2V at 1
(In addition, the coloring density is ΔOI)
You can get 042 coloring with ξ. This 1 is cathode 1tl11 coloring layer σ) electrochromic layer is WO2
The coloring density is 14 times that of the original one? 'J et al.

以に１階明したように本発明により、ば、７Ｊｉ望の着
色濱口ｆ（の発色を呈する全固体型エレクトロクロミッ
ク；包子を？４７ることができる。As explained above, according to the present invention, it is possible to produce all-solid-state electrochromic bao that exhibits the desired coloring.

４図１而のｆ’ｌｉ’ｌ　７１’な勝１１ｙ１第１図及
び第２図は全同体型エレクトロクロミック素７の二つの
従来例の断面構造を示−ｊ　ｌン１、第３図、第４図外
よひ第５図は七ｉｔぞｈ本発明の全固体型エレクトロク
ロミック素イの実ｌ１ｌｊ　態様を示す断面構造図であ
る。Figures 1 and 2 show the cross-sectional structures of two conventional examples of the all homogeneous electrochromic element 7. 4 and 5 are cross-sectional structural diagrams showing an actual embodiment of the all-solid-state electrochromic element of the present invention.

１・・・基板、　　　　　　２・・・第１電極。1... Substrate, 2... First electrode.

３・・エレクトロクロミック層、 ４・・・絶縁層、　　　　　　５・・・第２７１を極、
６・・・第２のエレクトロクロミック層第１図 １〜 第２１！１ （〜　゛バ］′、゛、／°、゛。3... Electrochromic layer, 4... Insulating layer, 5... 271st electrode,
6...Second electrochromic layer Figures 1 to 21!

第３図 Ａ〆“°パ・°パ・°゛パパ 第４図 乙Ｊ　−〜　　　−Figure 3 A〆“°Pa・°Pa・°゛Papa Figure 4 Otsu J −～ −

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 導電体膜より成る第１電極と、陰極側発色層であるエレ
クトロクロミック層と、誘一体膜からなる絶縁層と、導
電体膜よりなる第２電極を順次積層し、或いは上記の絶
縁層と第２電極の間にさらに陽極側発色層である第２の
エレクトロクロミック層を積層してなる全固体型エレク
トロクロミック素子において、陰極側発色層であるエレ
クトロクロミック層がそれぞれ吸収バンドの異なったエ
レクトロクロミック物質の２以上の触を積層したものか
らなることを％徴とする全固体型エレクトロクロミック
素子。A first electrode made of a conductive film, an electrochromic layer as a coloring layer on the cathode side, an insulating layer made of a dielectric film, and a second electrode made of a conductive film are laminated in sequence, or the above insulating layer and the second electrode are laminated in sequence. In an all-solid-state electrochromic device in which a second electrochromic layer, which is a coloring layer on the anode side, is laminated between two electrodes, each electrochromic layer, which is a coloring layer on the cathode side, is made of electrochromic materials having different absorption bands. An all-solid-state electrochromic device consisting of a stack of two or more elements.