JPS595435A - 磁気デイスクの研磨方法 - Google Patents
磁気デイスクの研磨方法Info
- Publication number
- JPS595435A JPS595435A JP11465782A JP11465782A JPS595435A JP S595435 A JPS595435 A JP S595435A JP 11465782 A JP11465782 A JP 11465782A JP 11465782 A JP11465782 A JP 11465782A JP S595435 A JPS595435 A JP S595435A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- magnetic disk
- roll
- disk
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
Landscapes
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は表面に余剰の突起を有する磁気ディスクの研磨
方法に関する。
方法に関する。
製品化する前の磁気ディスクは表面に余剰の突起を有し
ている。このような突起を除去する磁気ディスクの研磨
方法としては従来、高速回転する円盤上に磁気ディスク
を固定し、その表面にセラミック製のロール又はブレー
ド、或いは研磨剤を埋め込んだラッピングフィルムを単
に押し当てることに行なわれているが、いずれも一長一
短があり十分な方法とは云えない。例えばロール又はブ
レードを用いる方法は研磨効果が不充分であるか、或い
はロールやブレードの磨耗が激しいという欠点があり、
一方、ラッピングフィルムを用いる方法はラッピングフ
ィルムから脱落した研磨剤がこのフィルムと磁気ディス
クとの間に介入してディスク表面に引っかき傷を作ると
いう欠点があった。
ている。このような突起を除去する磁気ディスクの研磨
方法としては従来、高速回転する円盤上に磁気ディスク
を固定し、その表面にセラミック製のロール又はブレー
ド、或いは研磨剤を埋め込んだラッピングフィルムを単
に押し当てることに行なわれているが、いずれも一長一
短があり十分な方法とは云えない。例えばロール又はブ
レードを用いる方法は研磨効果が不充分であるか、或い
はロールやブレードの磨耗が激しいという欠点があり、
一方、ラッピングフィルムを用いる方法はラッピングフ
ィルムから脱落した研磨剤がこのフィルムと磁気ディス
クとの間に介入してディスク表面に引っかき傷を作ると
いう欠点があった。
本発明の目的はロール方式にも拘わらず、充分な研磨効
果が得られ、しかもロールの磨耗か少ない上、ディスク
表面に損傷を与えない磁気ディスクの研磨方法を提供す
ることである。
果が得られ、しかもロールの磨耗か少ない上、ディスク
表面に損傷を与えない磁気ディスクの研磨方法を提供す
ることである。
本発明方法は高速回転する円盤上に、表面に余剰の突起
を有する磁気ディスクを固定し、その表面を研磨ロール
で研磨して余剰の突起を除去する磁気ディスクの研磨方
法において、前記研磨ロールとして表面にプラズマ爆発
溶射ｌこよって形成したセラミック及び／又は超硬合金
の層を有する鉄製ロールを用い、且つこの研磨ロールを
磁気ディスク表面から一定の間隙に保って１す１転させ
ること番こより研磨を行なうことを特徴とするものであ
る。
を有する磁気ディスクを固定し、その表面を研磨ロール
で研磨して余剰の突起を除去する磁気ディスクの研磨方
法において、前記研磨ロールとして表面にプラズマ爆発
溶射ｌこよって形成したセラミック及び／又は超硬合金
の層を有する鉄製ロールを用い、且つこの研磨ロールを
磁気ディスク表面から一定の間隙に保って１す１転させ
ること番こより研磨を行なうことを特徴とするものであ
る。
本発明で使用されるω［磨ロールは鉄製ロールを基材と
し、その表面にセラミック、超硬合金又はそれらの混合
物をプラズマ爆発溶射することにより作られる。こうし
て形成されるセラミック及び／又は超硬合金の層は微細
なウロコ状パターンからなっている。このようなウロコ
状パターンのノーになっているので、通常の溶融法で作
られるセラミックロールを用いる場合のように磁気ディ
スク表面に押し当てずにこの表面から一定間隙を置いて
研磨を行なっても充分な研磨効果が得られ、抜た勿論デ
ィスク表面を傷つけるようなことはない。なおこの層の
厚さは２０〜２００ ｐ８度が適当である。に７セラミ
ツク及び８１硬合金としては一般に使用されているもの
でよい。例えば超硬合金としては焼結炭化物合金が皐げ
られる。
し、その表面にセラミック、超硬合金又はそれらの混合
物をプラズマ爆発溶射することにより作られる。こうし
て形成されるセラミック及び／又は超硬合金の層は微細
なウロコ状パターンからなっている。このようなウロコ
状パターンのノーになっているので、通常の溶融法で作
られるセラミックロールを用いる場合のように磁気ディ
スク表面に押し当てずにこの表面から一定間隙を置いて
研磨を行なっても充分な研磨効果が得られ、抜た勿論デ
ィスク表面を傷つけるようなことはない。なおこの層の
厚さは２０〜２００ ｐ８度が適当である。に７セラミ
ツク及び８１硬合金としては一般に使用されているもの
でよい。例えば超硬合金としては焼結炭化物合金が皐げ
られる。
本発明の研磨ロールは例えば直径５０■の鉄製ロール表
面にｈｔ、ｏ、をＤ −Ｇ Ｕ Ｎ （ＤＥＴＯＮＡＴ
ＩＯＮＧＵＮ ）方式によりガス爆発溶射して厚さ１５
０Ｐ程度の層を形成することにより得られる。
面にｈｔ、ｏ、をＤ −Ｇ Ｕ Ｎ （ＤＥＴＯＮＡＴ
ＩＯＮＧＵＮ ）方式によりガス爆発溶射して厚さ１５
０Ｐ程度の層を形成することにより得られる。
以上のようにして作られる本発明の研磨ロールは磁気デ
ィスク表面から一定間隙を置いて配置し、回転させるこ
とにより研磨ヲ行なう。この間隙は磁気ディスク表面に
存在する余剰突起の高さによって変化するか、一般には
０．１〜１μ程度である。なおロールや円盤の回転速度
については特に限定されない。
ィスク表面から一定間隙を置いて配置し、回転させるこ
とにより研磨ヲ行なう。この間隙は磁気ディスク表面に
存在する余剰突起の高さによって変化するか、一般には
０．１〜１μ程度である。なおロールや円盤の回転速度
については特に限定されない。
本発明の研磨ロールを用いて上記のような方法により研
磨を行なうことによりディスク表面の突起を効率よく取
除くことができる。
磨を行なうことによりディスク表面の突起を効率よく取
除くことができる。
Claims (1)
- １、 高速回転する円盤上に、表面に余剰の突起を廟す
る磁気ディスクを同定し、その表面に０１磨ロールで研
磨して余剰の突起を除去する磁気ディスクのωｔＲ方法
において、前記ω１腑ロールとして表面ｌこプラズマ爆
発溶射によって形成したセラミック及び／又は超硬合金
の層を有する鉄製ロールを用い、且つこの研磨ロールを
磁気ディスク表面から一定の間隙に従って回転させるこ
とにより研磨を行なうことソｔＰ！ｆ徴とする磁気ディ
スクの＃を腑方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11465782A JPS595435A (ja) | 1982-07-01 | 1982-07-01 | 磁気デイスクの研磨方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11465782A JPS595435A (ja) | 1982-07-01 | 1982-07-01 | 磁気デイスクの研磨方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS595435A true JPS595435A (ja) | 1984-01-12 |
Family
ID=14643289
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11465782A Pending JPS595435A (ja) | 1982-07-01 | 1982-07-01 | 磁気デイスクの研磨方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS595435A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63300870A (ja) * | 1987-05-28 | 1988-12-08 | Disco Abrasive Syst Ltd | ブレ−ドの製造方法 |
| US5144333A (en) * | 1989-06-09 | 1992-09-01 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the storage of information in an organic recording layer |
-
1982
- 1982-07-01 JP JP11465782A patent/JPS595435A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63300870A (ja) * | 1987-05-28 | 1988-12-08 | Disco Abrasive Syst Ltd | ブレ−ドの製造方法 |
| US5144333A (en) * | 1989-06-09 | 1992-09-01 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the storage of information in an organic recording layer |
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