JPS5950176A - スパツタリング装置 - Google Patents
スパツタリング装置Info
- Publication number
- JPS5950176A JPS5950176A JP16250682A JP16250682A JPS5950176A JP S5950176 A JPS5950176 A JP S5950176A JP 16250682 A JP16250682 A JP 16250682A JP 16250682 A JP16250682 A JP 16250682A JP S5950176 A JPS5950176 A JP S5950176A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- polymer film
- roll
- gun
- sputtering
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、薄膜を連続的にしわなく形成することを目的
としたスパッタリング装置に関するものである。
としたスパッタリング装置に関するものである。
従来例の構成とその問題点
従来スパッタリング装置は、マグネトロン方式により、
連続的に高速で、しかも基板温度上バを少なく薄膜の形
成が行なえるという特徴をいかして、高分子フィルムま
たは紙等の連続した基板上に金属膜等を連続形成するこ
とに用いられてきた。
連続的に高速で、しかも基板温度上バを少なく薄膜の形
成が行なえるという特徴をいかして、高分子フィルムま
たは紙等の連続した基板上に金属膜等を連続形成するこ
とに用いられてきた。
以下図面ｆｇ照し々がら、従来のスパッタリング装置に
ついて説明する。
ついて説明する。
第１図は従来のスパッタリング装置の真空槽内部の構造
を示す正面図である。図において、１は円筒状のキャン
、２はキャン１に巻き付けられた高分子フィルム、３は
キャン１に対向して設置されたスパッタガンである。
を示す正面図である。図において、１は円筒状のキャン
、２はキャン１に巻き付けられた高分子フィルム、３は
キャン１に対向して設置されたスパッタガンである。
以上のよう々スパッタリング装置では、キャン１が一定
速度で回転することによって、キャン１に巻き付けられ
た高分子フィルム２が、スパッタガン３の上音一定速度
で通過するとき、スパッタガン３から飛び出した金属が
高分子フィルム２の上に付着することによって、高分子
フィルム２の上に連続的に金属膜を形成することができ
る。
速度で回転することによって、キャン１に巻き付けられ
た高分子フィルム２が、スパッタガン３の上音一定速度
で通過するとき、スパッタガン３から飛び出した金属が
高分子フィルム２の上に付着することによって、高分子
フィルム２の上に連続的に金属膜を形成することができ
る。
しかしながら、」１記のようなスパッタリンク装置て附
１、スパッタガン３からの輻射熱のために高分子フィル
ム２が、キャン１の回転方向つ−まり高分子フィルム２
の送り方向と１．そ、ｆ′Ｌ、に垂直り幅方向に延びる
。しかしながら高分子フィルム２にはう（ｒ、びてもた
るまないように、供給ロールと巻き取りロールの両方に
よって張力を加えであるため、送り方向の延びは吸収さ
れるが、幅方向の延びは、吸収されず、逆にｊダり方向
の張力（でよって、送り方向にゝ１付１、つ寸り高分子
フィルム２の長さ方向に平行なしわを発生させるという
欠点をイ１していた。
１、スパッタガン３からの輻射熱のために高分子フィル
ム２が、キャン１の回転方向つ−まり高分子フィルム２
の送り方向と１．そ、ｆ′Ｌ、に垂直り幅方向に延びる
。しかしながら高分子フィルム２にはう（ｒ、びてもた
るまないように、供給ロールと巻き取りロールの両方に
よって張力を加えであるため、送り方向の延びは吸収さ
れるが、幅方向の延びは、吸収されず、逆にｊダり方向
の張力（でよって、送り方向にゝ１付１、つ寸り高分子
フィルム２の長さ方向に平行なしわを発生させるという
欠点をイ１していた。
発明の目的
本発明は、以上のような従来の問題点を解決するために
なされたもので、従来のスパックリンク装置のように輻
射熱によるしわが発止しないスパッタリンク装置を提供
゛することを目的とする。
なされたもので、従来のスパックリンク装置のように輻
射熱によるしわが発止しないスパッタリンク装置を提供
゛することを目的とする。
発明の構成
（・発、ｆｌｌｌ・；による枯木構成は、円筒状のキャ
ンとスパッタカンとギ１゛１分Ｊ′フィルム供給ロール
と巻取りロールとをそなえ、キャンと高分子−フイシン
・との接触部分の中央より供給ロール側にスパッタガン
を設置し、スパッタリングして金属膜イー・１着後も、
高分子フィルムをキャンに十分接触さぜるようにＬ７し
わが発生しないようにしたものである。
ンとスパッタカンとギ１゛１分Ｊ′フィルム供給ロール
と巻取りロールとをそなえ、キャンと高分子−フイシン
・との接触部分の中央より供給ロール側にスパッタガン
を設置し、スパッタリングして金属膜イー・１着後も、
高分子フィルムをキャンに十分接触さぜるようにＬ７し
わが発生しないようにしたものである。
実施例の説明
以下に本発明の一実施例を図面を用いて説明する。
第２図は本発明の一実施例におけるスパックリンク装置
の真空槽内部の正面図である。円筒状のキャ７１１に１
供給ロール１４から送り出された高分子フィルム１２が
巻きつけられ１、さらに巻き取りロール１５に巻き取ら
ね５る。このとき、キャン１１の高分子フィルム１２の
接触部の中央より供給ロール側の対向部にスパッタガン
１３が１基設置されている。
の真空槽内部の正面図である。円筒状のキャ７１１に１
供給ロール１４から送り出された高分子フィルム１２が
巻きつけられ１、さらに巻き取りロール１５に巻き取ら
ね５る。このとき、キャン１１の高分子フィルム１２の
接触部の中央より供給ロール側の対向部にスパッタガン
１３が１基設置されている。
以］−のよう（／こ構成されたスパッタリンク装置りこ
ついて、以下その動作を説明する。供給ロール１４から
送り出された高分子フィルム１２は、キャン１１に巻き
つけられ、キャン１１が一定速１埃て回転しているため
、巻きつけられた高分子フィルム１２は一定速度で送ら
れて、巻取りローラＶＣ巻きとら）１−７：Ｄｏこのと
き、高分子フィルム１２ｔｉ、キャン１１に対向して設
置されているスパッタガン１３のにヲ通過ｊ〜て、金属
膜が連続的に形成される。この金属膜形成後も高分子フ
ィルム１２は、キャン１１ＶｒＣ巻きついており、その
後、巻き取りロールに巻き取られる。
ついて、以下その動作を説明する。供給ロール１４から
送り出された高分子フィルム１２は、キャン１１に巻き
つけられ、キャン１１が一定速１埃て回転しているため
、巻きつけられた高分子フィルム１２は一定速度で送ら
れて、巻取りローラＶＣ巻きとら）１−７：Ｄｏこのと
き、高分子フィルム１２ｔｉ、キャン１１に対向して設
置されているスパッタガン１３のにヲ通過ｊ〜て、金属
膜が連続的に形成される。この金属膜形成後も高分子フ
ィルム１２は、キャン１１ＶｒＣ巻きついており、その
後、巻き取りロールに巻き取られる。
以上のような実施例によれば、金属膜形成中のスパッタ
ガン１３０輻射熱によって、高分子フィルム１２が長さ
方向および幅方向に延びても、キャン１に長く巻きつい
ているために、巻き取りロール１５の張力が、緩和され
平均化されて高分子フィルム１２に加わるため、しわが
発生することなく連続的に金属１漠の形成を行なうこと
ができる。
ガン１３０輻射熱によって、高分子フィルム１２が長さ
方向および幅方向に延びても、キャン１に長く巻きつい
ているために、巻き取りロール１５の張力が、緩和され
平均化されて高分子フィルム１２に加わるため、しわが
発生することなく連続的に金属１漠の形成を行なうこと
ができる。
な２、スパッタガンは、１基と限らず、第３図に示すよ
うに２基のスパッタガン１３Ａ、１３Ｂを設けてもよい
。なお、第３図（・て２いて、第２図の実施例と同じ部
分Ｖ？Ｃは同じ符号を付し、その説明（弓、省く１、こ
つよう（・て構成することによって、多層金属ｉ１４．
ｔを同時にしかもしわなく形成することかできる。
うに２基のスパッタガン１３Ａ、１３Ｂを設けてもよい
。なお、第３図（・て２いて、第２図の実施例と同じ部
分Ｖ？Ｃは同じ符号を付し、その説明（弓、省く１、こ
つよう（・て構成することによって、多層金属ｉ１４．
ｔを同時にしかもしわなく形成することかできる。
また、以上の実施例では、キャ／１１の温度を規定しな
かったが、高分子フィルム１２として、ポリエステルフ
ィルムを用いた場合には、キャン１１の温度を８０〜１
４０’ＧＫ（呆っておくことによって、スパッタガン１
３０輻射熱によって延びた高分子フィルム１２が、途々
に冷却さノ９．るためしわが１つたく発生せず、連続的
に金属膜形成を行なうことができる。
かったが、高分子フィルム１２として、ポリエステルフ
ィルムを用いた場合には、キャン１１の温度を８０〜１
４０’ＧＫ（呆っておくことによって、スパッタガン１
３０輻射熱によって延びた高分子フィルム１２が、途々
に冷却さノ９．るためしわが１つたく発生せず、連続的
に金属膜形成を行なうことができる。
発明の詳細
な説明したように本発明は、供給ロールから送り出され
た高分子フィルムがと円筒状のキャンとの接触部分の中
央より供給ロール側のギ・、・ンとの対向部にスパッタ
ガンがあるため、スパッタガンの輻射熱によって高分子
フィルムが延びても、高分子フィルムはキャンに長く巻
きつくことになり、巻き取りロールの張力を緩和し平均
化することによって、高分子フィルムの長さ方向に平行
なしわが発生しないという優ハ、た効果がｒ）られる。
た高分子フィルムがと円筒状のキャンとの接触部分の中
央より供給ロール側のギ・、・ンとの対向部にスパッタ
ガンがあるため、スパッタガンの輻射熱によって高分子
フィルムが延びても、高分子フィルムはキャンに長く巻
きつくことになり、巻き取りロールの張力を緩和し平均
化することによって、高分子フィルムの長さ方向に平行
なしわが発生しないという優ハ、た効果がｒ）られる。
第１区は従来のスパッタリング装置の真空４１□ｉｊ内
部の正面図、第２図および第３図は本発明の実施例にお
けるスパッタリンク装置の真空セフ１＋内部の正面図で
ある。 １．１１・・・東］筒状キャン、２，１２・・・・・高
分子フィルム、３，１３．１３Ａ；１３Ｂ・・・・スパ
ッタガン、４．１４・・・・・供給ロール、５．１５
・・・巻き取りロール。 代Ｊｊｌｊ人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１
名ｈ 第 ２ 口 ５ ［３３図 ４７６
部の正面図、第２図および第３図は本発明の実施例にお
けるスパッタリンク装置の真空セフ１＋内部の正面図で
ある。 １．１１・・・東］筒状キャン、２，１２・・・・・高
分子フィルム、３，１３．１３Ａ；１３Ｂ・・・・スパ
ッタガン、４．１４・・・・・供給ロール、５．１５
・・・巻き取りロール。 代Ｊｊｌｊ人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１
名ｈ 第 ２ 口 ５ ［３３図 ４７６
Claims (2)
- （１）真空槽内に円筒状のキャンを設け、供給ロールか
ら送り出される高分子フィルムが前記キャンに接触し、
巻き取りロールに巻き取られ るように構成され、かつ
前記キャンと高分子フィルムとの接触部の中火より供給
ロール側に前記キャンに対向してスパッタガンを配置し
たことを特徴とするスパッタリング装置。 - （２）高分子フィルムとしてポリエステルフィルムを用
い、前記キャンの温度を８０〜１４０°Ｃとすることを
特徴とする特許請求の範囲第１項記載のスパッタリング
装置０
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16250682A JPS5950176A (ja) | 1982-09-17 | 1982-09-17 | スパツタリング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16250682A JPS5950176A (ja) | 1982-09-17 | 1982-09-17 | スパツタリング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5950176A true JPS5950176A (ja) | 1984-03-23 |
| JPH0258351B2 JPH0258351B2 (ja) | 1990-12-07 |
Family
ID=15755911
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16250682A Granted JPS5950176A (ja) | 1982-09-17 | 1982-09-17 | スパツタリング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5950176A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57101663A (en) * | 1980-12-16 | 1982-06-24 | Olympus Optical Co Ltd | Apparatus for forming thin film |
-
1982
- 1982-09-17 JP JP16250682A patent/JPS5950176A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57101663A (en) * | 1980-12-16 | 1982-06-24 | Olympus Optical Co Ltd | Apparatus for forming thin film |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0258351B2 (ja) | 1990-12-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2022047947A1 (zh) | 一种多辊式真空镀膜装置 | |
| JPH0251982B2 (ja) | ||
| JPH02131174A (ja) | 写真感光性帯状物の乾燥方法 | |
| US2386731A (en) | Segregated adhesive tape calender | |
| JPS5950176A (ja) | スパツタリング装置 | |
| JPH0230444Y2 (ja) | ||
| JPS63109167A (ja) | 金属薄膜の製造装置 | |
| JP2647513B2 (ja) | 連続真空蒸着装置 | |
| JPS63162855A (ja) | 金属薄膜の製造装置 | |
| JPH0765160B2 (ja) | 真空蒸着装置および方法 | |
| JPS6113554Y2 (ja) | ||
| JPS6031082Y2 (ja) | 巻取式連続蒸着装置 | |
| JPS63255362A (ja) | 金属薄膜の製造装置 | |
| JP3529922B2 (ja) | 薄膜の製造方法及び薄膜製造装置 | |
| WO2020004335A1 (ja) | 成膜装置及び成膜方法 | |
| JP2615217B2 (ja) | 連続真空蒸着装置 | |
| JPS63312967A (ja) | 金属薄膜の蒸着装置 | |
| JPS59149605A (ja) | 透明導電膜作製方法 | |
| JPH0549991A (ja) | リバースロール塗布方法および装置 | |
| JPS5826317A (ja) | 金属薄膜型磁気記録媒体の生産方法 | |
| JPH03292628A (ja) | 磁気記録媒体の製造装置 | |
| JPH02297412A (ja) | フィルムの温度処理方法 | |
| JPH03292627A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法及び装置 | |
| JPS61261479A (ja) | 薄膜作成装置 | |
| JPH05271932A (ja) | 薄膜作製装置 |