JPS5948870B2 - 水酸化リチウムの製造方法 - Google Patents
水酸化リチウムの製造方法Info
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- JPS5948870B2 JPS5948870B2 JP52109451A JP10945177A JPS5948870B2 JP S5948870 B2 JPS5948870 B2 JP S5948870B2 JP 52109451 A JP52109451 A JP 52109451A JP 10945177 A JP10945177 A JP 10945177A JP S5948870 B2 JPS5948870 B2 JP S5948870B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は水酸化リチウムの製造方法、特に原料として炭
酸リチウムを用いて隔膜を用いた電解法により高純度の
水酸化リチウムを製造する方法に係るものである。
酸リチウムを用いて隔膜を用いた電解法により高純度の
水酸化リチウムを製造する方法に係るものである。
水酸化リチウムはグリースや電池等の製造原料や写真現
像薬、その他アルカリ源等に用いられており、これらは
何れも高純度である事が望まれる。
像薬、その他アルカリ源等に用いられており、これらは
何れも高純度である事が望まれる。
従来、水酸化リチウムは例えばリチウムの原鉱石である
スポジユメンを炭酸化して炭酸リチウムとし、これと石
灰乳とを反応せしめて製造する方法が採られている。
スポジユメンを炭酸化して炭酸リチウムとし、これと石
灰乳とを反応せしめて製造する方法が採られている。
しかしながらこの様にして得られた水酸化リチウム中に
は未反応の石灰乳が一部残存していたり、その他の不純
物が混入している。
は未反応の石灰乳が一部残存していたり、その他の不純
物が混入している。
このため、前記反応によつて得られた水酸化リチウムは
、通常蒸発濃縮して結晶化させ、これを遠心分離後水洗
し、更にこの結晶を再溶解し、活性炭等の吸着剤を添加
して着色物質をフィルタープレス等の分離機により吸着
剤と共に分離した後再結晶し、これを水洗後遠心分離に
より分離する事により不純物を除去せしめている。
、通常蒸発濃縮して結晶化させ、これを遠心分離後水洗
し、更にこの結晶を再溶解し、活性炭等の吸着剤を添加
して着色物質をフィルタープレス等の分離機により吸着
剤と共に分離した後再結晶し、これを水洗後遠心分離に
より分離する事により不純物を除去せしめている。
この方法は結晶化、溶解、結晶化の繰り返しのため、多
大な蒸気と熱量を要し、又操作も煩雑であり、コストも
比較的高くなる等の欠点がある。
大な蒸気と熱量を要し、又操作も煩雑であり、コストも
比較的高くなる等の欠点がある。
本発明者は、これら従来法の欠点を除去し、炭酸リチウ
ムから容易に高純度の水酸化リチウムを得る事を目的し
て種々研究、検討した結果、リチウム含有鉱物又は炭酸
リチウムと硫酸を反応せしめて硫酸リチウムを得、これ
を隔膜法により電解せしめる事により、陰極側に水酸化
リチウムを、又陽極側に硫酸を生成せしめ、得られた硫
酸はリチウム含有鉱物又は炭酸リチウムと反応せしめて
硫酸リチウムを得る工程へ循環使用する事により、前記
目的を達成し得る事を見出した。本発明において使用し
得るリチウム含有鉱物としては、例えばスポジユメン、
レピドライト、アンブリゴナイト、ペタライトなどがあ
る。
ムから容易に高純度の水酸化リチウムを得る事を目的し
て種々研究、検討した結果、リチウム含有鉱物又は炭酸
リチウムと硫酸を反応せしめて硫酸リチウムを得、これ
を隔膜法により電解せしめる事により、陰極側に水酸化
リチウムを、又陽極側に硫酸を生成せしめ、得られた硫
酸はリチウム含有鉱物又は炭酸リチウムと反応せしめて
硫酸リチウムを得る工程へ循環使用する事により、前記
目的を達成し得る事を見出した。本発明において使用し
得るリチウム含有鉱物としては、例えばスポジユメン、
レピドライト、アンブリゴナイト、ペタライトなどがあ
る。
又炭酸リチウムは、これらリチウム含有鉱物を例えば一
且焼成後硫酸と反応せしめてこれを水で抽出し、得られ
た硫酸リチウムにソーダ灰、消石灰を加えて鉄、アルミ
等の不純物を除去した後、濃縮しててソーダ灰と反応せ
しめて得たものである。そして、炭酸リチウムは次いで
硫酸と反応せしめて硫酸リチウムを生成せしめる。何れ
の方法にせよ得られた硫酸リチウムは共存する不純物の
殆んどが硫酸塩となり、しかも硫酸リチウムとの共存下
では溶解度が著しく低下し、容易に分離できるので、こ
れを分離後の硫酸リチウムは直ちに隔膜法による電解に
供せられる。隔膜法電解とは、隔膜で陽極と陰極を仕切
つた電解槽で電解を行うものである。用いられる隔膜と
しては、例えばアスベストや多孔性の弗素樹脂等の所謂
濾隔膜を使用する事もできるが、水酸化リチウムを、よ
り高純度或は高濃度で得るためにはイオン交換膜を採用
するのが好ましい。用いられるイオン交換膜としては、
例えばカルボキシル基、スルホン酸基、燐酸基、フエノ
ール性水酸基等の陽イオン交換基を含有する重合体から
成り、かかる重合体としては含弗素重合体を採用するの
が特に好ましい。イオン交換基含有の含弗素重合体とし
ては、例えばテトラフルオロエチレン、クロロトリフル
オロエチレン等のビニルモノマーとスルホン酸、カルボ
ン酸、燐酸基等のイオン交換基、或はイオン交換基に転
換し得る反応性基を有するパーフルオロのビニルモノマ
ーとの共重合体が好適に使用し得る。又、トリフルオロ
スチレンの膜状重合体にス｝ルホン酸基等のイオン交換
基を導入したものやスチレンジビニルベンゼンにスルホ
ン酸基を導入したもの等も使用できる。そしてこれらの
うち、夫々以下の（イ），（口）の重合単位を形成し得
る単量体を用いる場合には、比較的高い電流効率で高純
度の水酸化リチウムを得る事ができるので特に好ましい
ここでｘは弗素、塩素、水素又は−ＣＦ３でありｘ″は
Ｘ又はＣＦ３（ＣＦ２）ｍであり、ｍは１〜５であり、
Ｙは次のものから選ばれる。
且焼成後硫酸と反応せしめてこれを水で抽出し、得られ
た硫酸リチウムにソーダ灰、消石灰を加えて鉄、アルミ
等の不純物を除去した後、濃縮しててソーダ灰と反応せ
しめて得たものである。そして、炭酸リチウムは次いで
硫酸と反応せしめて硫酸リチウムを生成せしめる。何れ
の方法にせよ得られた硫酸リチウムは共存する不純物の
殆んどが硫酸塩となり、しかも硫酸リチウムとの共存下
では溶解度が著しく低下し、容易に分離できるので、こ
れを分離後の硫酸リチウムは直ちに隔膜法による電解に
供せられる。隔膜法電解とは、隔膜で陽極と陰極を仕切
つた電解槽で電解を行うものである。用いられる隔膜と
しては、例えばアスベストや多孔性の弗素樹脂等の所謂
濾隔膜を使用する事もできるが、水酸化リチウムを、よ
り高純度或は高濃度で得るためにはイオン交換膜を採用
するのが好ましい。用いられるイオン交換膜としては、
例えばカルボキシル基、スルホン酸基、燐酸基、フエノ
ール性水酸基等の陽イオン交換基を含有する重合体から
成り、かかる重合体としては含弗素重合体を採用するの
が特に好ましい。イオン交換基含有の含弗素重合体とし
ては、例えばテトラフルオロエチレン、クロロトリフル
オロエチレン等のビニルモノマーとスルホン酸、カルボ
ン酸、燐酸基等のイオン交換基、或はイオン交換基に転
換し得る反応性基を有するパーフルオロのビニルモノマ
ーとの共重合体が好適に使用し得る。又、トリフルオロ
スチレンの膜状重合体にス｝ルホン酸基等のイオン交換
基を導入したものやスチレンジビニルベンゼンにスルホ
ン酸基を導入したもの等も使用できる。そしてこれらの
うち、夫々以下の（イ），（口）の重合単位を形成し得
る単量体を用いる場合には、比較的高い電流効率で高純
度の水酸化リチウムを得る事ができるので特に好ましい
ここでｘは弗素、塩素、水素又は−ＣＦ３でありｘ″は
Ｘ又はＣＦ３（ＣＦ２）ｍであり、ｍは１〜５であり、
Ｙは次のものから選ばれる。
ここでＰは−｛ＣＦ２′＋−ａ−（ＣＸＸ″｝−ｂ−｛
ＣＦ２｝−ｏであり、Ｑは−（ＣＦ２−０−ＣＸＸ″′
＋−，であり、Ｒは→ＣＸＸ″−０−ＣＦ２′＋−８で
あり、 （Ｐ，Ｑ，Ｒ）はＰ，ＱおよびＲの少なくとも
一つを任意の順序で配列することを表わす。
ＣＦ２｝−ｏであり、Ｑは−（ＣＦ２−０−ＣＸＸ″′
＋−，であり、Ｒは→ＣＸＸ″−０−ＣＦ２′＋−８で
あり、 （Ｐ，Ｑ，Ｒ）はＰ，ＱおよびＲの少なくとも
一つを任意の順序で配列することを表わす。
Ｘ，Ｘ″は上記と同じであり、ｎ＝０〜１，ａ，ｂ，ｃ
，ｄ及びｅはＯ〜６である。
，ｄ及びｅはＯ〜６である。
Ａは一ＣＯＯＨ又は−ＣＮ，−ＣＯＦ，−ＣＯＯＲｌ，
−ＣＯＯＭ，−ＣＯＮＲ２Ｒ３等の加水分解若しくは中
和により、−ＣＯＯＨに転換し得る官能基を示す。Ｒ１
は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｍはアルカリ金属又は
第四級アンモニウム基であり、Ｒ２，Ｒ３は水素又は炭
素数１〜１０のアルキル基を示す。上記Ｙの好ましい代
表例としては、Ａが弗素を有する炭素と結合された構造
を有する例えば次の如きものが挙げられる。Ｘ，ｙ，ｚ
は共に１〜１０であり、Ｚ，Ｒｆは一Ｆ又は炭素数１〜
１０のパーフルオロアルキル基から選ばれた基であり、
Ａは上記と同様である。
−ＣＯＯＭ，−ＣＯＮＲ２Ｒ３等の加水分解若しくは中
和により、−ＣＯＯＨに転換し得る官能基を示す。Ｒ１
は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｍはアルカリ金属又は
第四級アンモニウム基であり、Ｒ２，Ｒ３は水素又は炭
素数１〜１０のアルキル基を示す。上記Ｙの好ましい代
表例としては、Ａが弗素を有する炭素と結合された構造
を有する例えば次の如きものが挙げられる。Ｘ，ｙ，ｚ
は共に１〜１０であり、Ｚ，Ｒｆは一Ｆ又は炭素数１〜
１０のパーフルオロアルキル基から選ばれた基であり、
Ａは上記と同様である。
上記（イ）及び（口）の重合単位からなる共重合体の場
合、膜が上記のイオン交換容量を達成するために、好ま
しくは（口）の重合単位が１〜４０モル％、特に３〜２
０モル％であることが好ましい。尚、本発明のイオン交
換樹脂膜は、上記のように弗素化オレフイン単量体とカ
ルボン酸基若しくはカルボン酸基に転換し得る官能基を
有する重合能ある単量体との共重合によつて得られる非
架橋性の共重合体から構成されるが、その分子量は好ま
しくは、約３０００〜３０万部、特に好ましくは１万〜
１０万である。
合、膜が上記のイオン交換容量を達成するために、好ま
しくは（口）の重合単位が１〜４０モル％、特に３〜２
０モル％であることが好ましい。尚、本発明のイオン交
換樹脂膜は、上記のように弗素化オレフイン単量体とカ
ルボン酸基若しくはカルボン酸基に転換し得る官能基を
有する重合能ある単量体との共重合によつて得られる非
架橋性の共重合体から構成されるが、その分子量は好ま
しくは、約３０００〜３０万部、特に好ましくは１万〜
１０万である。
又、用いられるイオン交換樹脂膜の厚さは２０〜６００
ミクロン、好ましくは５０〜４００ミクロン程度を採用
するのが適当で゛ある。
ミクロン、好ましくは５０〜４００ミクロン程度を採用
するのが適当で゛ある。
又、陽極としては、例えばチタンやタンタル等の耐食性
芯材にルテニウムの酸化物を被覆した耐食性電極や白金
、鉛等の電極を使用することができる。
芯材にルテニウムの酸化物を被覆した耐食性電極や白金
、鉛等の電極を使用することができる。
又、陰極としては、例えば鉄、ニツケル、スアンレス等
を適宜使用し得る。
を適宜使用し得る。
電解に際し、硫酸リチウムはその濃度が０．１〜６Ｎ程
度の水溶液が適当である。
度の水溶液が適当である。
濃度が前記範囲より低い場合には、得られる水酸化リチ
ウムの濃度が低く濃縮等に費用がかかり、逆に前記範囲
を超える場合には電解中に硫酸リチウムの結晶が一部陽
極室内で析出する虞れがあるので好ましくない。
ウムの濃度が低く濃縮等に費用がかかり、逆に前記範囲
を超える場合には電解中に硫酸リチウムの結晶が一部陽
極室内で析出する虞れがあるので好ましくない。
そして前記範囲中１〜６Ｎを採用する場合には、得られ
る水酸化リチウムの電力効率もよく、又硫酸リチウムの
結晶析出もないので特に好ましい。又、電解時における
電解電圧は３〜６Ｖ、電流密度は１〜１００Ａ／Ｄｍ・
程度が適当である。
る水酸化リチウムの電力効率もよく、又硫酸リチウムの
結晶析出もないので特に好ましい。又、電解時における
電解電圧は３〜６Ｖ、電流密度は１〜１００Ａ／Ｄｍ・
程度が適当である。
かくして、濃度５〜１０重量％の水酸化リチウムを得る
ことが可能となる。電圧が３Ｖより低く、又電流密度が
１Ａ／Ｄｍ２より低い場合には、水酸化リチウムの単位
床面積当りの生産量が低く、逆に電圧が６Ｖを超え、電
流密度１００Ａ／Ｄｍ・を超える場合には、被電解液の
温度が上昇し、水の蒸発が起り、この結果硫酸リチウム
の結晶が析出する虞れがあるので何れも好ましくない。
そして、前記範囲中電解電圧４〜５．５Ｖ、電流密度３
〜４０Ａ／Ｄｍ・を採用する場合には、電力効率を最大
にでき、又、得られる水酸化リチウムの濃度も比較的濃
くできるので特に好ましい。
ことが可能となる。電圧が３Ｖより低く、又電流密度が
１Ａ／Ｄｍ２より低い場合には、水酸化リチウムの単位
床面積当りの生産量が低く、逆に電圧が６Ｖを超え、電
流密度１００Ａ／Ｄｍ・を超える場合には、被電解液の
温度が上昇し、水の蒸発が起り、この結果硫酸リチウム
の結晶が析出する虞れがあるので何れも好ましくない。
そして、前記範囲中電解電圧４〜５．５Ｖ、電流密度３
〜４０Ａ／Ｄｍ・を採用する場合には、電力効率を最大
にでき、又、得られる水酸化リチウムの濃度も比較的濃
くできるので特に好ましい。
電解形成としては、通常前述した様な隔膜で仕，切られ
た陽極室と陰極室とを有する所謂２室法が採用されるが
、これに限らず所望により２枚或はそれ以上の隔膜によ
つて仕切られた陽極室、中間室、陰極室を有する所謂３
室法や多室法と称される方法を採用しても差支えない。
た陽極室と陰極室とを有する所謂２室法が採用されるが
、これに限らず所望により２枚或はそれ以上の隔膜によ
つて仕切られた陽極室、中間室、陰極室を有する所謂３
室法や多室法と称される方法を採用しても差支えない。
５次に本発明を実施例により具体的に
説明する。実施例 １攪拌機つき容器に後述する陽極流
出液（硫酸と硫酸リチウム混合溶液）を供給して炭酸リ
チウム（分析値 塩素３００ｐｐｎ、硫酸根２０００ｐ
ヘマグネシウ４ム５００ｐｐｎ．カルシウム１０００ｐ
ｐｒ０の粉末を反応させ、さらに所要の水を加えて５規
定の硫酸リチウム水溶液を調製した。
説明する。実施例 １攪拌機つき容器に後述する陽極流
出液（硫酸と硫酸リチウム混合溶液）を供給して炭酸リ
チウム（分析値 塩素３００ｐｐｎ、硫酸根２０００ｐ
ヘマグネシウ４ム５００ｐｐｎ．カルシウム１０００ｐ
ｐｒ０の粉末を反応させ、さらに所要の水を加えて５規
定の硫酸リチウム水溶液を調製した。
この硫酸リチウム水溶液中の不純物を淵過により除去し
た結果、不純物含量は塩素２０ｐ陣、マグネシウム１０
ｐｐｎ、カルシウム１０ｐＩＸｎとなつた。この溶液を
陽極；白金、陰極；ＳＵＳ３Ｏ４、Ｃ２Ｆ４とＣＦ２＝
ＣＦ−０−（ＣＦ２）３Ｃ００ＣＨ３のコポリマーから
成る膜状物（膜厚３００ミクロン、ＡＲｌ．４８）を加
水分解して、得られた有効膜面積２５ｄｍ２からなる陽
イオン交換膜を用い、８０℃に保持した電解槽の陽極室
に８．１１／Ｈｒの割合で供給した。
た結果、不純物含量は塩素２０ｐ陣、マグネシウム１０
ｐｐｎ、カルシウム１０ｐＩＸｎとなつた。この溶液を
陽極；白金、陰極；ＳＵＳ３Ｏ４、Ｃ２Ｆ４とＣＦ２＝
ＣＦ−０−（ＣＦ２）３Ｃ００ＣＨ３のコポリマーから
成る膜状物（膜厚３００ミクロン、ＡＲｌ．４８）を加
水分解して、得られた有効膜面積２５ｄｍ２からなる陽
イオン交換膜を用い、８０℃に保持した電解槽の陽極室
に８．１１／Ｈｒの割合で供給した。
一方、陰極室には３Ｎの水酸化リチウム水溶液を満たし
て電流密度２０Ａ／Ｄｍ・にて電解を開始し、同時に３
．３１／Ｈｒの割合で水を供給し、陰極室から３規定の
水酸化リチウム水溶液を４．５１／Ｈｒの割合で連続的
に抜き出した。陽極室側からは前述の硫酸、硫酸リチウ
ム混合水溶液（１時間当り硫酸１３．５ｇ当量、硫酸リ
チウム２７．０ｇ当量、水６．３１）を連続的に抜き出
し、炭酸リチウム反応容器に送つた。得られた水酸化リ
チウムを分析した結果、固体水酸化リチウム基準で不純
物として塩素１ｐｐｎ、硫酸根３００ｐｐｎ．カルシウ
ム１０ｐｐｎ、マグネシウムｗ可ｍが含まれていること
がわかつた。この場合の通電電気量に対する水酸化リチ
ウムの生成割合即ち電流効率は７４％であり、また摺電
圧は５．３Ｖであつた。実施例 ２ 陽極室に５規定の硫酸リチウム水溶液を７．７１／Ｈｒ
の割合で供給し、水を陰極室に２．２１／Ｈｒの割合で
供給した他は、実施例１と同様な条件で電解を実施し、
陰極室より４規定の水酸化リチウム水溶液を３．２１／
Ｈｒの割合で得た。
て電流密度２０Ａ／Ｄｍ・にて電解を開始し、同時に３
．３１／Ｈｒの割合で水を供給し、陰極室から３規定の
水酸化リチウム水溶液を４．５１／Ｈｒの割合で連続的
に抜き出した。陽極室側からは前述の硫酸、硫酸リチウ
ム混合水溶液（１時間当り硫酸１３．５ｇ当量、硫酸リ
チウム２７．０ｇ当量、水６．３１）を連続的に抜き出
し、炭酸リチウム反応容器に送つた。得られた水酸化リ
チウムを分析した結果、固体水酸化リチウム基準で不純
物として塩素１ｐｐｎ、硫酸根３００ｐｐｎ．カルシウ
ム１０ｐｐｎ、マグネシウムｗ可ｍが含まれていること
がわかつた。この場合の通電電気量に対する水酸化リチ
ウムの生成割合即ち電流効率は７４％であり、また摺電
圧は５．３Ｖであつた。実施例 ２ 陽極室に５規定の硫酸リチウム水溶液を７．７１／Ｈｒ
の割合で供給し、水を陰極室に２．２１／Ｈｒの割合で
供給した他は、実施例１と同様な条件で電解を実施し、
陰極室より４規定の水酸化リチウム水溶液を３．２１／
Ｈｒの割合で得た。
この時の陽極流出液は１時間当り１２．８ｇ当量の硫酸
、２５．６ｇ当量の硫酸リチウム、６．１ｋｇの水から
なり、これを炭酸リチウム反応容器に送つた。またこの
時の電流効率は６９％であり、摺電圧は５．２であつた
。実施例 ３陽極室に５規定の硫酸リチウム溶液を６．
６１／Ｈｒの割合で供給し、水を陰極室に１．４１／Ｈ
ｒの割合で供給した他は実施例１と同様な条件で電解を
実施し、陰極室より５規定の水酸化リチウム水溶液を２
．２１／Ｈｒの割合で得た。
、２５．６ｇ当量の硫酸リチウム、６．１ｋｇの水から
なり、これを炭酸リチウム反応容器に送つた。またこの
時の電流効率は６９％であり、摺電圧は５．２であつた
。実施例 ３陽極室に５規定の硫酸リチウム溶液を６．
６１／Ｈｒの割合で供給し、水を陰極室に１．４１／Ｈ
ｒの割合で供給した他は実施例１と同様な条件で電解を
実施し、陰極室より５規定の水酸化リチウム水溶液を２
．２１／Ｈｒの割合で得た。
この時の陽極流出液は１時間当り１１．０ｇ当量の硫酸
、２２．０ｇ当量の硫酸リチウム５．４ｋｇの水からな
り、これを炭酸リチウム反応容器に送つた。またこの時
の電流効率は６０％であり、摺電圧は５．１Ｖであつた
。実施例 ４ 電解電流密度３０Ａ／Ｄｍ２として、陽極に鉛を使用し
、陽極室に５規定の硫酸リチウム水溶液を１１．５１小
ｒの割合で、陰極室に水を３．２１／Ｈｒの割合で供給
した以外は、実施例１と同様な条件で電解を実施し、陰
極室より４規定の水酸化リチウム溶液を４．８１／Ｈｒ
の割合で得た。
、２２．０ｇ当量の硫酸リチウム５．４ｋｇの水からな
り、これを炭酸リチウム反応容器に送つた。またこの時
の電流効率は６０％であり、摺電圧は５．１Ｖであつた
。実施例 ４ 電解電流密度３０Ａ／Ｄｍ２として、陽極に鉛を使用し
、陽極室に５規定の硫酸リチウム水溶液を１１．５１小
ｒの割合で、陰極室に水を３．２１／Ｈｒの割合で供給
した以外は、実施例１と同様な条件で電解を実施し、陰
極室より４規定の水酸化リチウム溶液を４．８１／Ｈｒ
の割合で得た。
この時の陽極流出液は１時間当り、１９．２ｇ当量の硫
酸、３８．４ｇ当量の硫酸リチウム、水９．２ｋｇから
なり、これを炭酸リチウム反応容器に送つた。実施例
５ 電解電流密度を４０Ａ／Ｄｍ・として、陽極室に５規定
の硫酸リチウム水溶液を１３．２１／Ｈｒの割合で、陰
極室に水を２．８１／Ｈｒの割合で供給した以外は、実
施例１と同様な条件で電解を実施し、陰極室より５規定
の水酸化リチウム溶液４．４１／Ｙｌｒの割合で得た。
酸、３８．４ｇ当量の硫酸リチウム、水９．２ｋｇから
なり、これを炭酸リチウム反応容器に送つた。実施例
５ 電解電流密度を４０Ａ／Ｄｍ・として、陽極室に５規定
の硫酸リチウム水溶液を１３．２１／Ｈｒの割合で、陰
極室に水を２．８１／Ｈｒの割合で供給した以外は、実
施例１と同様な条件で電解を実施し、陰極室より５規定
の水酸化リチウム溶液４．４１／Ｙｌｒの割合で得た。
この時の陽極流出液は、１時間当り２２．０ｇ当量の硫
酸、４４．０ｇ当量の硫酸リチウム、１０．７ｋｇの水
からなり、これを炭酸リチウム反応容器に送つた。実施
例 ６ 電解温度を９０℃とし、陽極室に５規定の硫酸リチウム
を８．６１／Ｈｒの割合で、陰極室に水を３．５１／Ｈ
ｒの割合で供給した以外は、実施例１と同様な条件で電
解を実施し、陰極室より３規定の水酸化リチウム溶液を
４．８１／Ｈｒの割合で得た。
酸、４４．０ｇ当量の硫酸リチウム、１０．７ｋｇの水
からなり、これを炭酸リチウム反応容器に送つた。実施
例 ６ 電解温度を９０℃とし、陽極室に５規定の硫酸リチウム
を８．６１／Ｈｒの割合で、陰極室に水を３．５１／Ｈ
ｒの割合で供給した以外は、実施例１と同様な条件で電
解を実施し、陰極室より３規定の水酸化リチウム溶液を
４．８１／Ｈｒの割合で得た。
この時の陽極流出液は１時間当り、１４．４ｇ当量の硫
酸、２８．８ｇ当量の硫酸リチウム、６．８ｋｇの水か
らなり、これを炭酸リチウム反応容器に送つた。実施例
７供給硫酸リチウム源としてα−スポジユメンを１１
００℃に加熱してβ−スポジユメンとした後、このβ−
スポジユメンを２５０℃に加熱して硫酸を加えた後、水
で硫酸リチウムを抽出し、この抽出液にソーダ灰、消石
灰を加えて、カルシウム、マグネシウムを沢過して除き
、５規定の硫酸リチウム水溶液としたものを使用した。
酸、２８．８ｇ当量の硫酸リチウム、６．８ｋｇの水か
らなり、これを炭酸リチウム反応容器に送つた。実施例
７供給硫酸リチウム源としてα−スポジユメンを１１
００℃に加熱してβ−スポジユメンとした後、このβ−
スポジユメンを２５０℃に加熱して硫酸を加えた後、水
で硫酸リチウムを抽出し、この抽出液にソーダ灰、消石
灰を加えて、カルシウム、マグネシウムを沢過して除き
、５規定の硫酸リチウム水溶液としたものを使用した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ リチウム含有鉱物又は炭酸リチウムと硫酸を反応せ
しめて硫酸リチウムを得、これを隔膜法により電解せし
める事により、陰極側に水酸化リチウムを、陽極側に硫
酸を生成せしめ、得られた硫酸はリチウム含有鉱物又は
炭酸リチウムと反応せしめて硫酸リチウムを得る工程へ
循環使用する事を特徴とする水酸化リチウムの製造方法
。 ２ リチウム含有鉱物はスポジユメン、レピドライト、
アンブリゴナイト、ペタライトから選ばれた少なくとも
一種である特許請求の範囲１記載の水酸化リチウムの製
造方法。 ３ 隔膜法電解に供せられる硫酸リチウムの濃度は０．
１〜６Ｎである特許請求の範囲１記載の水酸化リチウム
の製造方法。 ４ 隔膜法による電解は電解電圧３〜６Ｖ、電流密度１
〜１００Ａ／ｄｍ＾２で実施する特許請求の範囲１記載
の水酸化リチウムの製造方法。 ５ 隔膜法による電解に用いられる隔膜は含弗素陽イオ
ン交換樹脂膜である特許請求の範囲１記載の水酸化リチ
ウムの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52109451A JPS5948870B2 (ja) | 1977-09-13 | 1977-09-13 | 水酸化リチウムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52109451A JPS5948870B2 (ja) | 1977-09-13 | 1977-09-13 | 水酸化リチウムの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5443174A JPS5443174A (en) | 1979-04-05 |
| JPS5948870B2 true JPS5948870B2 (ja) | 1984-11-29 |
Family
ID=14510561
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP52109451A Expired JPS5948870B2 (ja) | 1977-09-13 | 1977-09-13 | 水酸化リチウムの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5948870B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20200145845A (ko) * | 2013-10-23 | 2020-12-30 | 네마스카 리튬 인코포레이션 | 리튬 카보네이트의 제조방법 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS58157370A (ja) * | 1982-03-15 | 1983-09-19 | Sony Corp | 電源回路 |
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-
1977
- 1977-09-13 JP JP52109451A patent/JPS5948870B2/ja not_active Expired
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20200145845A (ko) * | 2013-10-23 | 2020-12-30 | 네마스카 리튬 인코포레이션 | 리튬 카보네이트의 제조방법 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5443174A (en) | 1979-04-05 |
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