JPS5937540A - 感光性組成物及びその現像方法 - Google Patents
感光性組成物及びその現像方法Info
- Publication number
- JPS5937540A JPS5937540A JP14861382A JP14861382A JPS5937540A JP S5937540 A JPS5937540 A JP S5937540A JP 14861382 A JP14861382 A JP 14861382A JP 14861382 A JP14861382 A JP 14861382A JP S5937540 A JPS5937540 A JP S5937540A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive
- photosensitive composition
- film
- soln
- developing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/008—Azides
- G03F7/012—Macromolecular azides; Macromolecular additives, e.g. binders
- G03F7/0125—Macromolecular azides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the macromolecular azides
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマー
ル又（ケボリ酢酸ビニルと、有機溶剤に用済なアシド化
合物とを含有する感光性組成物、及びその現像方法に関
するものであり、さらに詳細には感光皮膜が強靭で水系
現像液で現像可能な黒丸性組成゛吻及びその現１欧）５
去すご「何するものである。
ル又（ケボリ酢酸ビニルと、有機溶剤に用済なアシド化
合物とを含有する感光性組成物、及びその現像方法に関
するものであり、さらに詳細には感光皮膜が強靭で水系
現像液で現像可能な黒丸性組成゛吻及びその現１欧）５
去すご「何するものである。
従４ｉｕ 、！：す、高分子化合物と芳香族アジド化合
物とを含有する感光性組成物が知られており、例えば理
化コムと芳香族アジド化合物の甜合せ、アルカリ可溶性
ホル・す７／議合樹脂と芳香族アンド化合物の組合せな
どがある。これらはツメトレーンスト、フォトレリーフ
などの用、余し・ζ利用されている。
物とを含有する感光性組成物が知られており、例えば理
化コムと芳香族アジド化合物の甜合せ、アルカリ可溶性
ホル・す７／議合樹脂と芳香族アンド化合物の組合せな
どがある。これらはツメトレーンスト、フォトレリーフ
などの用、余し・ζ利用されている。
しか１−なから環化ゴムと−“−°ｉ香族アジド化合物
の組合せでは耐蝕性、密着性にはすぐれているが、有１
幾ｌｄ剤によって現像されるため人体′＼の毒性、引火
性等、作東環境の面からみて、好ましいとは再えない。
の組合せでは耐蝕性、密着性にはすぐれているが、有１
幾ｌｄ剤によって現像されるため人体′＼の毒性、引火
性等、作東環境の面からみて、好ましいとは再えない。
又アルカリ可溶性ホルマリン罹合、１さ４’ｌｉ盲と芳
香族了シト１ヒ合物の組合せでは、アルカリ水Ｒり〆８
で現像可能であるが、感光皮膜が脆く、きすがつきやす
いなど機械的強度が不充分である。
香族了シト１ヒ合物の組合せでは、アルカリ水Ｒり〆８
で現像可能であるが、感光皮膜が脆く、きすがつきやす
いなど機械的強度が不充分である。
本発明の目的は、こｎ、らのｒ￥１題点會解決し、感尼
用ｆｉ’４ ’ｔ、’バ強靭でしかも水系現１家液で現
像可能な感光性組成物及び、その現（累方法を提供する
１ことにちる、 本・ネ明者は、前記の問題点を解決すべく＠怠研究を進
めた。債鬼、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマ
ール、又はポリ酢酸ビニルと、有機溶剤に可溶なアンド
化合物とを含有する感光性組成物を使用するときは前記
目的を達成し得ることを発見し、化、本発明はかかる知
見に基づいごなされたものである。
用ｆｉ’４ ’ｔ、’バ強靭でしかも水系現１家液で現
像可能な感光性組成物及び、その現（累方法を提供する
１ことにちる、 本・ネ明者は、前記の問題点を解決すべく＠怠研究を進
めた。債鬼、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマ
ール、又はポリ酢酸ビニルと、有機溶剤に可溶なアンド
化合物とを含有する感光性組成物を使用するときは前記
目的を達成し得ることを発見し、化、本発明はかかる知
見に基づいごなされたものである。
本発明において使用する高分子化合物は、ポリビニルブ
チラール、ポリビニルホルマール、又ハポリ酢酸ビニル
よりなる群から選ばれた１種以−Ｌが用いられる。これ
ら高分子化合物は有機ｎ剤に可溶であれば使用可能であ
るが、その分子量が少なすぎると、皮膜強度が低下し、
父、分子量が太きすぎると、感光液が高粘度になり、そ
の調整が困難になるため好ましくない。ブチラール化度
及びホルマール化度については低すぎると耐水１生が怜
くなり、高すき゛ると水系現１象液−←゛の現像性が低
下する、以上の理由により、ポリビニルブチラールにお
いては平均分子ｔ １００００から２３１．） ０００
で、ブチラール化１！［が２０からｇＱｍｏ１％、ポリ
ビニルホルマールにおいては、平均分子量９０００から
１５０ ｉｌ ０ ｔｌでホルマール化度が２０から８
０ｍｏ１％、ポリ酢酸ビニルにおいては平均分子７１５
０００から２７ Ｕ ＯＯＯである高分子化合物が好ま
しい。
チラール、ポリビニルホルマール、又ハポリ酢酸ビニル
よりなる群から選ばれた１種以−Ｌが用いられる。これ
ら高分子化合物は有機ｎ剤に可溶であれば使用可能であ
るが、その分子量が少なすぎると、皮膜強度が低下し、
父、分子量が太きすぎると、感光液が高粘度になり、そ
の調整が困難になるため好ましくない。ブチラール化度
及びホルマール化度については低すぎると耐水１生が怜
くなり、高すき゛ると水系現１象液−←゛の現像性が低
下する、以上の理由により、ポリビニルブチラールにお
いては平均分子ｔ １００００から２３１．） ０００
で、ブチラール化１！［が２０からｇＱｍｏ１％、ポリ
ビニルホルマールにおいては、平均分子量９０００から
１５０ ｉｌ ０ ｔｌでホルマール化度が２０から８
０ｍｏ１％、ポリ酢酸ビニルにおいては平均分子７１５
０００から２７ Ｕ ＯＯＯである高分子化合物が好ま
しい。
又、本発明において使用する有機溶剤に可溶なアジド化
合物としては、４．４′−ジアジドカルコン、２．６−
ジ（４′−アジドペンデル）−シクロヘキサツノ、２′
、６−ジ（４′−アンドベンザル）′−４−メチルーン
クロヘキサノン、４．４′−ジアジドカルコン銀灯、４
′−ジアジドベンゾフェノン、Ｐ−フェニレンジアジド
、４．４′−ジアジドフェニルメタン等をあげることが
できる。
合物としては、４．４′−ジアジドカルコン、２．６−
ジ（４′−アジドペンデル）−シクロヘキサツノ、２′
、６−ジ（４′−アンドベンザル）′−４−メチルーン
クロヘキサノン、４．４′−ジアジドカルコン銀灯、４
′−ジアジドベンゾフェノン、Ｐ−フェニレンジアジド
、４．４′−ジアジドフェニルメタン等をあげることが
できる。
）
これら、有機溶剤に可溶なアジド化合物の、高分子化合
物に対する添加量は、重連で、通常ｌから６０％、好適
な添加量は４から３０％である。
物に対する添加量は、重連で、通常ｌから６０％、好適
な添加量は４から３０％である。
さらに、必要に応ｌ；、これらアンド化合物の増感剤、
染料、顔料／等を添加しても差支えない。
染料、顔料／等を添加しても差支えない。
又、使用目的に応じ、現像性、耐蝕性等の改善の必要が
有れば、ポリビニルブチラール、ボリビ、−ルホルマー
ル、又はポリ酢酸ビニルと相溶性のあるフェノール樹脂
、スチレン−マレイン酸共重合樹脂、アルヤツド圏脂、
エポキシ樹脂等をポリビニルブチラール、ポリビニルホ
ルマール、又ハポリ酢酸ビニルに対して等量まで添加し
ても良い。
有れば、ポリビニルブチラール、ボリビ、−ルホルマー
ル、又はポリ酢酸ビニルと相溶性のあるフェノール樹脂
、スチレン−マレイン酸共重合樹脂、アルヤツド圏脂、
エポキシ樹脂等をポリビニルブチラール、ポリビニルホ
ルマール、又ハポリ酢酸ビニルに対して等量まで添加し
ても良い。
本発明の感光性組成物は、一般的には有機溶剤に溶解し
、基材に塗布して使用する。有機溶剤の具体列としては
、アセト／、メチルエチルケト二／、シクロヘキサツノ
、メチルアルコール、エチルアルコール、フロビルアル
コール、トルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル
、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレング
リコールモノエチルＴＬ−チル、ジメチルホルムアミド
等、又はこれら有機溶剤の混合物をあげることができる
。
、基材に塗布して使用する。有機溶剤の具体列としては
、アセト／、メチルエチルケト二／、シクロヘキサツノ
、メチルアルコール、エチルアルコール、フロビルアル
コール、トルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル
、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレング
リコールモノエチルＴＬ−チル、ジメチルホルムアミド
等、又はこれら有機溶剤の混合物をあげることができる
。
本発明の感光性組成物の現像液としては、芳香族カル）
メン酸、芳香族スルホン酸、フェノール類、又はアルキ
ル硫酸のアルカリ金属塩化合物の水溶液を使用すること
ができる。これらの化合物の具体例を示せば、芳香族カ
ルボン酸としてはＰ−クロル安息香酸、サリチル酸、ア
ントラニル酸等、芳香族スルホン酸としては１−ナフト
ルー４−スルホン酸等、フェノール類としてはＰ−ヒ
ドロキシ安息香酸エチル、ペンタクロルフェノール等、
アル’ｆル・諏酸としてはシウリル〒鷹酸／等が有り、
これらの仕合物のナトリウム、カリウム等のアルカリ金
属塩化合物をあげることができ／）、、現像液の現像性
、安定性ノ等からみて、最も好ましいものとしては、Ｐ
−クロル安息香酸ナトリウム、サリチル酸ナトリウムを
あげることができる。現像液の濃度としては通常４から
４０重量係の水溶液として使用することができるが、現
像性を改善すル目的で、メチルアルコール イソプロピルアルコール、ベンジルアルコールを等の有
機溶剤をこれら現像液に対し重量で１から４０係添加す
ることもできる。
メン酸、芳香族スルホン酸、フェノール類、又はアルキ
ル硫酸のアルカリ金属塩化合物の水溶液を使用すること
ができる。これらの化合物の具体例を示せば、芳香族カ
ルボン酸としてはＰ−クロル安息香酸、サリチル酸、ア
ントラニル酸等、芳香族スルホン酸としては１−ナフト
ルー４−スルホン酸等、フェノール類としてはＰ−ヒ
ドロキシ安息香酸エチル、ペンタクロルフェノール等、
アル’ｆル・諏酸としてはシウリル〒鷹酸／等が有り、
これらの仕合物のナトリウム、カリウム等のアルカリ金
属塩化合物をあげることができ／）、、現像液の現像性
、安定性ノ等からみて、最も好ましいものとしては、Ｐ
−クロル安息香酸ナトリウム、サリチル酸ナトリウムを
あげることができる。現像液の濃度としては通常４から
４０重量係の水溶液として使用することができるが、現
像性を改善すル目的で、メチルアルコール イソプロピルアルコール、ベンジルアルコールを等の有
機溶剤をこれら現像液に対し重量で１から４０係添加す
ることもできる。
本発明の感光１・ＩＬ♀；１１成物およびｍ像方法によ
れば、皮膜が強靭でレリーフがシーヤープな良好な画像
が得られ、又有機溶剤を使用しないので作業性も良い。
れば、皮膜が強靭でレリーフがシーヤープな良好な画像
が得られ、又有機溶剤を使用しないので作業性も良い。
次に本発明を実施例によって更に詳細に説明する。なお
、本発明は以下の実施例によって制限を受けるものでは
ない。
、本発明は以下の実施例によって制限を受けるものでは
ない。
実情例に
１０ノー放′ｔＬ処理した厚さ１００μのポリエチレン
フタレートフィルム上に、下記組成の感光液を乾燥後の
塗膜が３μになるように塗布し、次いで乾４菜した。
フタレートフィルム上に、下記組成の感光液を乾燥後の
塗膜が３μになるように塗布し、次いで乾４菜した。
感光液
このようにして得られた感光性フィルトにネガ原稿を密
着させ２ ｋＷの超高圧水銀灯で１ｍの距離より１分間
露′Ｊｔ．を行った蕾、次に示した現像液で現ｌＩ４！
を行い未露光部を除去し鮮明なボン画像を得た。
着させ２ ｋＷの超高圧水銀灯で１ｍの距離より１分間
露′Ｊｔ．を行った蕾、次に示した現像液で現ｌＩ４！
を行い未露光部を除去し鮮明なボン画像を得た。
現像液
実施例２
１００／Ｚのポリエチレンフタレートフィルムの片面に
真空Ｍ＊ ６”よ！７ ｕ． ｓμのアルミニウム膜ヲ
設け、その上に下記組成感光液を乾燥後の塗膜が３μに
なる様に塗布し、乾燥した。
真空Ｍ＊ ６”よ！７ ｕ． ｓμのアルミニウム膜ヲ
設け、その上に下記組成感光液を乾燥後の塗膜が３μに
なる様に塗布し、乾燥した。
感光液
このフィルムにネガ原稿を摺着させ、２ｋＷの超高圧水
銀灯で１ｍの距離より２分間露光を行った後、次に示す
曳＋’求ｓ’ｉで、現像ケ行った。次いで５。
銀灯で１ｍの距離より２分間露光を行った後、次に示す
曳＋’求ｓ’ｉで、現像ケ行った。次いで５。
重ｉｔ係り／酸水Ｍ？＆で、アルミニウムのエツチング
を行った、、露光部の感光層は十分にレジストとしての
機能な果たし、画像遮光性の高い鮮明なアルミニウムの
ボン画像が得られた。
を行った、、露光部の感光層は十分にレジストとしての
機能な果たし、画像遮光性の高い鮮明なアルミニウムの
ボン画像が得られた。
現像液
実施レリｊ
１１すｌｏｏμのポリエチレンテレフタレートフィルム
上に下記の組成の皮膜形成液を乾燥後の膜厚が１０μに
なるように塗布、乾燥し、アルコール可溶性ポリアミド
層を形成した。
上に下記の組成の皮膜形成液を乾燥後の膜厚が１０μに
なるように塗布、乾燥し、アルコール可溶性ポリアミド
層を形成した。
皮膜形成液
次に上記ポリアミド層の上に下記１１成の感光液を乾燥
後の塗膜が；３μになるように堕布、乾燥して感光性フ
イルノ・を得た。
後の塗膜が；３μになるように堕布、乾燥して感光性フ
イルノ・を得た。
感光液
この感光性フィルムをポジ原稿と密着させ、超高圧水銀
灯２ ｋＷで１ｍの距離より、４０秒訂光を行った後、
実施例２で用いた現像液で処理することにより、感光層
の現像及びポリアミド層のエツチングを２液で行うこと
、ができ、良好なネガフィルム：う；冴らルだ。
灯２ ｋＷで１ｍの距離より、４０秒訂光を行った後、
実施例２で用いた現像液で処理することにより、感光層
の現像及びポリアミド層のエツチングを２液で行うこと
、ができ、良好なネガフィルム：う；冴らルだ。
実施例４
銅張り積層板上に下記組成の感光液を乾燥後の塗膜が４
μになるよう（・こ伍布し、乾・聰しＩ・−０これをネ
ガ原稿と密着させ２ ｋＷの超高圧水銀灯で１ｍの距離
より２分間露光を行った。実施例２で用いた現像液で現
像を行った後、４０重量係の塩化第二鉄水溶液に浸漬し
、非画線部の銅のエツチングを行ったが、露光部の感光
層は十分にｌ／シストとしての機能を果たした。その後
レジスト層の除去はジメチルホルムアミドに浸漬するこ
とにより簡単に行うことができた。
μになるよう（・こ伍布し、乾・聰しＩ・−０これをネ
ガ原稿と密着させ２ ｋＷの超高圧水銀灯で１ｍの距離
より２分間露光を行った。実施例２で用いた現像液で現
像を行った後、４０重量係の塩化第二鉄水溶液に浸漬し
、非画線部の銅のエツチングを行ったが、露光部の感光
層は十分にｌ／シストとしての機能を果たした。その後
レジスト層の除去はジメチルホルムアミドに浸漬するこ
とにより簡単に行うことができた。
実施例５
実施例１で露光まで行ったフィルムを、次に示した現（
埃液１〜３で現像を行ったが、現隊液１−３のいずれに
よっても実施例１と同様鮮明なポジ画像が得られた。
埃液１〜３で現像を行ったが、現隊液１−３のいずれに
よっても実施例１と同様鮮明なポジ画像が得られた。
現像液１
現像液２
現（象液、３
比較例
実施例３で製造したアルコール可溶性ポリアミド１￥を
有するポリエチレ／デレフタレー トフイルノ、のポリ
アミド層の上に、下記組成の公知の感光Ｊ（坂を乾燥後
の塗膜が３μになるように塗布、乾燥して感光性フィル
ムを得た。
有するポリエチレ／デレフタレー トフイルノ、のポリ
アミド層の上に、下記組成の公知の感光Ｊ（坂を乾燥後
の塗膜が３μになるように塗布、乾燥して感光性フィル
ムを得た。
感光液
この感光性フィルムをポジ原稿と密着させ超高圧水銀灯
２ ｋＷで１ｍの距離より１コシト３０秒露光を行った
・隣、１重量係水酸化ナトリウム水溶液で感光層の現像
全行った。次いで実施例２で用いた現像液でポリアミド
層のエツチングを行つ／ｌが、感光層に亀裂が生じ、亀
裂が生じた部分のポリアミド層までエツチングが行：ｂ
れてしまい、実施例３のような良好なネガフィルムが・
謙られなかった。
２ ｋＷで１ｍの距離より１コシト３０秒露光を行った
・隣、１重量係水酸化ナトリウム水溶液で感光層の現像
全行った。次いで実施例２で用いた現像液でポリアミド
層のエツチングを行つ／ｌが、感光層に亀裂が生じ、亀
裂が生じた部分のポリアミド層までエツチングが行：ｂ
れてしまい、実施例３のような良好なネガフィルムが・
謙られなかった。
代理人 弁理士 守 谷 −建
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 高分子化合物としてポリビニルブチラール、ポリ
ビニルホルマール、又はポリ酢酸ビニルよりなる群から
選ばれた１種以上と、有機溶剤に可！得なアンド化合物
とをＡ有することを特徴とする感光性組成・物。 ２、 ポリビニルブチラールが平均分子量１００００か
ら２３００００で、ブチラール化度が２０から８０ｍｏ
ｌ・％である特許請求の範囲第１項に記載の感光性組成
物。 ３、 ポリビニルホルマールが平均分子ｆｉ９０ＱＯか
ら１５０００１）で、ホルマール化度が２０から８０ｍ
ｏｌ係である特許請求の範囲第１項に記載の感光性組成
物。 ４、 ポリ酢酸ビニルが平均分子−１１５０００カラ２
７０ （ｌ ＯＯである特許請求の範囲第１項に記載の
感光性組成物。 ５、アンド化合物の高分子化合物に対する詑加営が１か
ら６０ ＴＬ ’瞳係である特許請求の範囲第１項、第
２項、第３項又は第４項いずれかに記載の感光性組成物
。 ６、 高分子化合物としてポリビニルプチジ・−ル、ポ
リビニルホルマール、又はポリ酢酸ビニルよりなる群か
ら選ばれた１種以上と、有機溶剤に可ｔ４なアジド化合
物とを含有する感）′を性５８、ｌ酸物を露光してた硬
化きせ、次いで水系現四液で現像すること′、Ｉ−特徴
とする感光性組成物の現像方法。 ７、水系現像液が芳香族カルボン酸、芳香族スルホン酸
、フェノール類、又はアルキ１ル疏酸のアルカリ金属順
化合物の水溶液である特許請求の範囲第６項に記載の現
像方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14861382A JPS5937540A (ja) | 1982-08-26 | 1982-08-26 | 感光性組成物及びその現像方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14861382A JPS5937540A (ja) | 1982-08-26 | 1982-08-26 | 感光性組成物及びその現像方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5937540A true JPS5937540A (ja) | 1984-03-01 |
| JPH0361938B2 JPH0361938B2 (ja) | 1991-09-24 |
Family
ID=15456694
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14861382A Granted JPS5937540A (ja) | 1982-08-26 | 1982-08-26 | 感光性組成物及びその現像方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5937540A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02173645A (ja) * | 1988-12-26 | 1990-07-05 | Konica Corp | 画像形成方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4825518A (ja) * | 1971-08-02 | 1973-04-03 | ||
| JPS5936245A (ja) * | 1982-08-25 | 1984-02-28 | Hitachi Ltd | 感光性組成物 |
-
1982
- 1982-08-26 JP JP14861382A patent/JPS5937540A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4825518A (ja) * | 1971-08-02 | 1973-04-03 | ||
| JPS5936245A (ja) * | 1982-08-25 | 1984-02-28 | Hitachi Ltd | 感光性組成物 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02173645A (ja) * | 1988-12-26 | 1990-07-05 | Konica Corp | 画像形成方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0361938B2 (ja) | 1991-09-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4555469A (en) | Process of preparing light-sensitive naphthoquinonediazidesulfonic acid ester | |
| US4308368A (en) | Photosensitive compositions with reaction product of novolak co-condensate with o-quinone diazide | |
| US4458000A (en) | Light-sensitive mixture and light-sensitive copying material prepared therefrom wherein image produced therein is visible under yellow safety light | |
| US4217407A (en) | Light-sensitive O-quinone diazide containing copying material | |
| US4266000A (en) | Photosensitive copying composition | |
| US3634082A (en) | Light-sensitive naphthoquinone diazide composition containing a polyvinyl ether | |
| JP2000321760A (ja) | 顔料着色された放射線感応性層を有する記録材料 | |
| CA1085212A (en) | Use of volatile carboxylic acids in improved photoresists containing quinone diazides | |
| US4661432A (en) | Light-sensitive, diazonium group-containing polycondensation product, process for its production, and light-sensitive recording material containing this polycondensation product | |
| US4457999A (en) | Light-sensitive 1,2 quinone diazide containing mixture and light-sensitive copying material prepared therefrom wherein imaged produced therein is visible under yellow safety light | |
| JPS5876837A (ja) | 露光感光性のネガで作用する複写層の現像液 | |
| US3417055A (en) | Process for preparation and separation of light sensitive stabilized diazo resins | |
| US4628020A (en) | Light-sensitive compound mixture and copying material comprising o-naphthquinonediazide compound | |
| US5275908A (en) | Radiation-sensitive mixture and recording material comprising as a binder a copolymer having hydroxybenzyl(meth)acrylate groups or derivatives thereof | |
| JPS6244257B2 (ja) | ||
| JPS58122533A (ja) | 感光性材料 | |
| US4409314A (en) | Light-sensitive compounds, light-sensitive mixture, and light-sensitive copying material prepared therefrom | |
| JPS5937540A (ja) | 感光性組成物及びその現像方法 | |
| JPH0339301B2 (ja) | ||
| US4871644A (en) | Photoresist compositions with a bis-benzotriazole | |
| JPS60240715A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| JPH0680462B2 (ja) | 感光性フィルム及びその現像方法 | |
| JPS59187340A (ja) | 感光性組成物 | |
| US5143815A (en) | Light-sensitive mixture based on 1,2-naphthoquinone-diazides, and reproduction material produced with this mixture | |
| WO2013115189A1 (ja) | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 |