JPS5924833A - Electromagnetic drive shutter - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To simplify a mechanism and make the mechanism easy to control, by arranging a shutter screen, where a conductive path is formed, in a magnetic field and driving directly the shutter screen by an electromagnetic force. CONSTITUTION:The mechanism is constituted of conductor coil patterns 1 and 2, the first substrate 3 constituting the first screen of the shutter, the second substrate 4 constituting the second screen, a mirror 5, fixed magnets 9 and 10, springs 11 and 12, etc. A current is flowed to conductor coil patterns 1 and 2 of the first substrate 3 through respective one ends S of springs 11 and 12 of conductive bodies by the operation of a shutter button. Then, a slit hole 6 of the substrate 3 is moved in the direction of an arrow 23 together with the substrate 3 in accordance with the Fleming's rule. Consequently, an incident light 27 reaches an image pickup element 8 through slit holes 6 and 7. Thus, the shutter screen is driven directly by an electromagnetic force, and the mechanism is simplified and is made easy to control.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、カメラ等に用いられる光学的シヤツタに関す
るものであり、特に、磁気記録再生装置と併用された撮
像素子の小型な電子式スチルカメラに用いて好適な電磁
駆動シヤツタに関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an optical shutter used in cameras, etc., and in particular to an electromagnetic shutter suitable for use in a small electronic still camera with an image sensor used in combination with a magnetic recording/reproducing device. It is related to shutters.

一般に、カメラ用のシヤツタとしで用いられているもの
としては、フォーカルプレーン・レンズシヤツタが挙げ
られ、その露光時間は、長時間から１／１０００〜１／
５００秒というような微小時間にまでわたつている。か
かる微小な露光時間を実現するには、高速度なシヤツタ
動作が必要とされる。Focal plane lens shutters are generally used as shutters for cameras, and their exposure times vary from long to 1/1000 to 1/1000
It spans as small as 500 seconds. In order to achieve such a short exposure time, a high-speed shutter operation is required.

フォーカルブレーンシヤツタは、シヤツタ動作の高速化
を図るのに適しており、カメラ内で感光材料の直前を移
動する第１の幕と第２の幕の相対運動によってスリツト
を作り出し、作り出された該スリツトの走行速度に依存
して微小な露光を感光材料に与えるものである。前記幕
としては、金属幕または布幕が用いられ、これらの幕が
上下方向、或いは左右方向に走行することにより走行ス
リツトを作り出し、これにより露光を与えるものである
が、その機構がきわめて複雑であるという欠点があつた
。Focal brain shutters are suitable for speeding up the shutter operation, and create a slit by the relative movement of a first curtain and a second curtain that move in front of the photosensitive material in the camera. The light-sensitive material is exposed to minute amounts of light depending on the speed at which the slit travels. A metal curtain or cloth curtain is used as the curtain, and these curtains run vertically or horizontally to create running slits, which provide exposure, but the mechanism is extremely complicated. There was a drawback.

第１図、第２図を参照して従来の金属幕式のフォーカル
ブレーンシヤツタの概要を説明する。An outline of a conventional metal curtain type focal brain shutter will be explained with reference to FIGS. 1 and 2.

第１図は従来のフォー力ルプレーンシヤツタを示す正面
図、第２図は同シヤツタを内蔵したカメラ本体の側断面
の概要図、である。FIG. 1 is a front view of a conventional four-force Leplane shutter, and FIG. 2 is a schematic side sectional view of a camera body incorporating the same shutter.

先ず第２図を参照する。同図において、４５はカメラ本
体、５はミラー、３はシヤツタを構成する第１幕、３２
は第１幕を駆動するソレノイド、４は同じく第２幕、３
１は第２幕４を駆動するソレノイド、８は感光材料、２
８はレンズ、２６はフレーム、２９はフアインダ、であ
る。First, refer to FIG. In the figure, 45 is the camera body, 5 is the mirror, 3 is the first curtain that constitutes the shutter, and 32
is the solenoid that drives the first curtain, 4 is the solenoid that drives the second curtain, and 3 is the solenoid that drives the first curtain.
1 is a solenoid that drives the second curtain 4; 8 is a photosensitive material; 2
8 is a lens, 26 is a frame, and 29 is a viewfinder.

第２図において、入射光は矢印２７方向より与えられ、
レンズ２８を通してミラー５へ到達する。In FIG. 2, the incident light is given from the direction of arrow 27,
It reaches the mirror 5 through the lens 28.

ミラー５で反射された光は、フアインダ２９を介して目
視される。The light reflected by the mirror 5 is visually observed through the viewfinder 29.

使用者がシヤツタボタン（図示せず）を操作すると、ま
ずミラー５は破線５′に示す位置にはね上り、シヤツタ
を構成する第１幕３がソレノイド３２により駆動されて
先に矢印２３方向へ走行する。When the user operates the shutter button (not shown), the mirror 5 first springs up to the position shown by the broken line 5', and the first curtain 3 forming the shutter is driven by the solenoid 32 and first moves in the direction of the arrow 23. do.

つぎに、所定時間遅れて第２幕４が同様にソレノイド３
１により駆動されて矢印２３方向へ走行する。Next, after a predetermined time delay, the second act 4 similarly operates on the solenoid 3.
1 and travels in the direction of arrow 23.

幕３と４の走行の過程を第３図（イ）〜（ニ）に示す。The running process of curtains 3 and 4 is shown in Figures 3 (a) to (d).

すなわち第３図において、感光材料８の位置を中心とし
て、（イ）から（ニ）に至る順序で、幕３と４が前後し
て下方に移動し、それによりスリツト３０が形成され、
該スリツト３０を通して感光材料８に対する露光がなさ
れるわけである。That is, in FIG. 3, the curtains 3 and 4 move back and forth downward in the order from (a) to (d) centering on the position of the photosensitive material 8, thereby forming the slit 30.
The photosensitive material 8 is exposed through the slit 30.

次に第１図を参照する。同図において、第２図における
のと同じ物には同じ番号を付してある。Refer now to FIG. In this figure, the same parts as in FIG. 2 are given the same numbers.

そのほか、３３、３４はそれぞれ回動支点、３５、３６
はそれぞれ固定支点、３７、３８もそれぞれ固定支点、
３９、４０はそれぞれ溝、４１，４２はそれぞれピン、
４３、４４はそれぞれリンク、４６、４７もそれぞれリ
ンク、である。In addition, 33 and 34 are rotation fulcrums, 35 and 36, respectively.
are respectively fixed fulcrums, 37 and 38 are also fixed fulcrums,
39 and 40 are grooves, 41 and 42 are pins, respectively.
43 and 44 are links, and 46 and 47 are also links.

第１図は、第１幕３が始め感光材料８に相当する撮像枠
８′を遮光した状態からすでに矢印２３方向に降下し終
わった状態にある所を示す。FIG. 1 shows a state in which the first curtain 3 has already finished descending in the direction of the arrow 23 from a state in which the imaging frame 8' corresponding to the photosensitive material 8 is shielded from light.

第１図において、第２幕４は、固定支点３８でフレーム
２６へ回動可能に取り付けられたリンク４３に連結され
ている。さらに、リンク４３に設けられたピン４１は、
フレーム２６に対し固定支点３５で回動可能に取り付け
られたリンク４６の溝３９に摺動可能に係合されている
。リンク４６の他端は回動支点３３を介してソレノイド
３１へ連結されている。In FIG. 1, the second curtain 4 is connected to a link 43 which is rotatably attached to the frame 26 at a fixed fulcrum 38. Furthermore, the pin 41 provided on the link 43 is
It is slidably engaged in a groove 39 of a link 46 rotatably attached to the frame 26 at a fixed fulcrum 35 . The other end of the link 46 is connected to the solenoid 31 via the pivot point 33.

また、第１幕３も第２幕４の場合と同様に、リンク４４
、リンク４７を介してソレノイド３２に結合されている
。Also, in the first act 3, as in the case of the second act 4, the link 44
, is coupled to the solenoid 32 via a link 47.

第２幕４の上下方向への走行は、ソレノイド３１により
、リンク４５、４３を介して行なわれ、第１幕３の上下
方向への走行は、ソレノイド３２により、リンク４７、
４４を介して行なわれる。The vertical movement of the second curtain 4 is carried out by the solenoid 31 via links 45 and 43, and the vertical movement of the first curtain 3 is carried out by the solenoid 32 via the links 47 and 43.
44.

このように従来のフォーカルブレーンシヤツタは、部品
点数が多く構造が複雑である上、幕の走行はソレノイド
による機械的駆動によっているため、シヤツタ速度の高
速化を図ることが困難であるという事情があった。As described above, conventional focal-brain shutters have a large number of parts and a complex structure, and the movement of the curtain is mechanically driven by a solenoid, which makes it difficult to increase the shutter speed. there were.

本発明は、上述のような従来の技術的事情にかんがみな
されたもんであり、従って本発明の目的は、部品点数が
少なく構造が簡単である上、シヤツタ速度の高速化を図
ることの容易な、フォーカルプレーンシヤツタの如き、
シヤツタを提供することにある。The present invention has been made in view of the conventional technical circumstances as described above, and therefore, an object of the present invention is to provide a simple structure with a small number of parts, and to easily increase the shutter speed. , like a focal plane shutter,
The aim is to provide the shutters.

上記目的を達成するため、本発明においては、シヤツタ
を構成するシヤツタ幕に導電路を設けた後、磁場中に配
置し、該導電路を流れる電流と磁場中の磁束との相互作
用により生じる電磁力（フレミングの左手の法則による
）によつてシヤツタ幕を走行させるようにした。In order to achieve the above object, in the present invention, a conductive path is provided in the shutter curtain constituting the shutter, and then the shutter curtain is placed in a magnetic field, and electromagnetic waves are generated by the interaction between the current flowing through the conductive path and the magnetic flux in the magnetic field. The shutter curtain was made to run by force (based on Fleming's left hand rule).

次に図を参照して本発明の一実施例を説明する。Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

第４図は本発明の一実施例を示す正面図（但し前ヨーク
２１を除去して示す）、第５図は同側面図、第６図は中
央部での同断面図、第７図は同じく本発明の一実施例を
示す分解斜視図、である。FIG. 4 is a front view showing one embodiment of the present invention (however, the front yoke 21 is removed), FIG. 5 is a side view of the same, FIG. 6 is a sectional view of the same at the center, and FIG. It is an exploded perspective view showing one example of the present invention.

これらの図において、１、２はそれぞれ導体コイルパタ
ーン、３は第１幕を構成する第１の基板、４は第２幕を
構成する第２の基板、５はミラー、６，７はそれぞれス
リツト、９，１０はそれぞれ固定磁石、１１，１２はそ
れぞれスプリング、１３〜１５はぞれぞれガイド溝、１
６〜１８はそれぞれガイド軸、１９、２０はそれぞれス
プリング、２１は前ヨーク、２２は後ヨーク、２６′は
溝、２７は入射光方向、４８，４９はそれぞれ導体コイ
ルパターン、である。In these figures, 1 and 2 are conductor coil patterns, 3 is a first substrate constituting the first curtain, 4 is a second substrate constituting the second curtain, 5 is a mirror, and 6 and 7 are slits, respectively. , 9 and 10 are fixed magnets, 11 and 12 are springs, 13 to 15 are guide grooves, and 1
6 to 18 are guide shafts, 19 and 20 are springs, 21 is a front yoke, 22 is a rear yoke, 26' is a groove, 27 is a direction of incident light, and 48 and 49 are conductor coil patterns, respectively.

第４〜７図において、第１幕を構成する第１の基板３は
、非導電性であり、しかも遮光性を持ち、その厚さは０
．４ｍｍ以下で軽量なプラスチツク等の材料で作られ、
導体コイルパターン１、２が数十巻線位でその両面にプ
リントされている。さらに、その全体の重さは、１〜２
ｇ、大きさは、５０×６０ｍｍである。基板３には、さ
らにスリツト孔６が設けられ、それと隣接してミラー５
が固定されている。ミラー５は、ポリエステル、アクリ
ル等で軽量に（１ｇ以下）表面性状の良い材料で構成さ
れ斜面部は、アルミ蒸着により鏡面状に仕上げられてい
る。In FIGS. 4 to 7, the first substrate 3 constituting the first curtain is non-conductive, has light blocking properties, and has a thickness of 0.
．． Made of lightweight material such as plastic with a diameter of 4 mm or less,
Conductor coil patterns 1 and 2 are printed on both sides of the coil, each having several tens of windings. Furthermore, its total weight is 1 to 2
g, the size is 50 x 60 mm. The substrate 3 is further provided with a slit hole 6, and a mirror 5 is provided adjacent to the slit hole 6.
is fixed. The mirror 5 is made of a lightweight (1 g or less) material with good surface quality, such as polyester or acrylic, and the sloped portion is finished into a mirror-like finish by aluminum vapor deposition.

また、基板３には、軟磁性材料で作られた前ヨーク２１
と後ヨーク２２の間を連結する３本のガイド軸１６，１
７．１８とそれぞれ係合するガイド溝１３，１４．１５
が設けられている。係合した状態においては、ガイド軸
１６，１７，１８と溝１３゜１４．１５とはそれぞれ相
対的に滑らかに摺動可能である。またスプリング１１．
１２の各一端Ｓは基板３の上下の各突起に結合されてい
るが、他端Ｆは、基板３外の図示せざる固定点に結合さ
れ、それにより基板３はスプリング１１．１２の弾性力
により矢印２４方向へ２０〜３０ｇの力で引っ張られて
いる。また基板３の一面に形成された導体コイルパター
ン１の一端に、導電体で弾性のあるりん青銅等で作られ
た前記スプリング１１の一端Ｓに結線され、コイルパタ
ーン１の他端は、同じく基板３の同じ面に形成された導
体コイルパターン２の一端に接続され、該コイルパター
ン２の他端はスプリング１２の一端Ｓに結合されている
。The board 3 also includes a front yoke 21 made of soft magnetic material.
and the three guide shafts 16, 1 connecting between the rear yoke 22 and the rear yoke 22.
Guide grooves 13 and 14.15 that engage with 7.18, respectively
is provided. In the engaged state, the guide shafts 16, 17, 18 and the grooves 13.degree. 14.15 can each slide relatively smoothly. Also spring 11.
12, one end S of each is coupled to each of the upper and lower protrusions of the substrate 3, while the other end F is coupled to a fixed point (not shown) outside the substrate 3, whereby the substrate 3 is supported by the elastic force of the springs 11 and 12. is pulled in the direction of arrow 24 with a force of 20 to 30 g. Further, one end of the conductive coil pattern 1 formed on one surface of the substrate 3 is connected to one end S of the spring 11 made of conductive and elastic phosphor bronze, etc. 3, and the other end of the coil pattern 2 is connected to one end S of a spring 12.

従ってスプリング１１の一端Ｓとスプリング１２の一端
Ｓとの間から、コイルパターン１と２へ電流を流し込む
ことができる。Therefore, current can flow into the coil patterns 1 and 2 from between one end S of the spring 11 and one end S of the spring 12.

第２幕を構成する第２の基板４についても、基板３と同
様に、導体コイルパターン４８．４９が形成されている
。そしてスプリング１９，２０により基板４は矢印２４
方向へ２０〜３０ｇの力で引っ張られている。そしてス
プリング２０の一端Ｓとスプリング１９の一端Ｓとから
、導体コイルパターン４８と４９へ直列に電流を流し込
めるようになっている。Similarly to the substrate 3, conductive coil patterns 48 and 49 are formed on the second substrate 4 constituting the second curtain. Then, the springs 19 and 20 cause the board 4 to move as indicated by the arrow 24.
direction with a force of 20 to 30 g. A current can be applied in series from one end S of the spring 20 and one end S of the spring 19 to the conductive coil patterns 48 and 49.

さらに、撮像素子を示す破線枠８′の巾８．８ｍｍ．高
さ６．６ｍｍに対し基板４に形成したスリツト孔７が巾
１０ｍｍ，高さ８ｍｍ位の大きさで開けられている。Furthermore, the width of the broken line frame 8' indicating the image sensor is 8.8 mm. Although the height is 6.6 mm, the slit hole 7 formed in the substrate 4 has a width of about 10 mm and a height of about 8 mm.

固定磁石９、１０は、それぞれ磁場の強さの点から優れ
た磁石、例えば希土類マグネツト等を用い、後ヨーク２
２に固定され、それぞれＳ極とＮ極の２極に着磁されて
いる。また、このとき前ヨーク２１と固定磁石９、１０
とでできるエアギヤツプは、１．２ｍｍ位、磁束密度は
３Ｋガウス程度であり、磁束は第７図において、磁石９
のＮ極から発して、コイルパターン４８の左側、コイル
パターン１の左側を通って前ヨーク２１の左上部に達し
、微小空隙Ｇを通って前ヨーク２１の右上部からコイル
パターン１の右側、コイルパターン４８の右側を通って
磁石９のＳ極に戻る。従ってコイルパターン４８または
１においててＩ方向に電流を流せば、フレミングの左手
の法則によりＶ方向に力が作用する。The fixed magnets 9 and 10 are made of magnets that are superior in magnetic field strength, such as rare earth magnets, and are attached to the rear yoke 2.
2 and are each magnetized into two poles, an S pole and an N pole. Also, at this time, the front yoke 21 and the fixed magnets 9, 10
The air gap formed by this is about 1.2 mm, and the magnetic flux density is about 3K Gauss.
, passes through the left side of the coil pattern 48 and the left side of the coil pattern 1, reaches the upper left of the front yoke 21, passes through the microgap G, and goes from the upper right of the front yoke 21 to the right side of the coil pattern 1, and the coil It passes through the right side of the pattern 48 and returns to the south pole of the magnet 9. Therefore, if a current flows in the I direction in the coil pattern 48 or 1, a force will act in the V direction according to Fleming's left hand rule.

後ヨーク２２における磁石１０についても、全く同様に
、磁束はそのＮ極から導体コイルパターン４９の左側、
同パターン２の左側、を通って前ヨーク２１の左下部に
達し、更に該ヨーク２１の右下部からコイルパターン２
の右側、同パターン４９の右側を通ってＳ極に戻る。従
ってコイルパターン４９または２において、Ｉ方向に電
流を流すことにより、基板４または２において、Ｖ方向
の力を作用させることができる。Similarly, for the magnet 10 in the rear yoke 22, the magnetic flux flows from its N pole to the left side of the conductor coil pattern 49,
The coil pattern 2 passes through the left side of the same pattern 2 to reach the lower left of the front yoke 21, and then from the lower right of the yoke 21.
It passes through the right side of the pattern 49 and the right side of the same pattern 49 and returns to the south pole. Therefore, by passing current in the I direction in the coil pattern 49 or 2, a force in the V direction can be applied to the substrate 4 or 2.

次に第８図（イ）〜（ニ）を参照して本発明の一実施例
のシヤツタ動作を説明する。なお、第８図は、（イ）第
８図（イ）において磁路の方向を破線で示してある。Next, the shutter operation of one embodiment of the present invention will be explained with reference to FIGS. 8(a) to 8(d). In addition, in FIG. 8, (a) the direction of the magnetic path is shown by a broken line in FIG. 8 (b).

シヤツタボタン（図示せず）の操作によりまず第１の基
板３の導体コイルパターン１、２に導電体であるスプリ
ング１１．１２の各一端Ｓを介して電流を流す。これに
よって、基板３のスリツト孔６は、フレミングの法則に
従って基板３と共に矢印２３方向へ移動する（移動後の
状態を第８図（ロ）に示す）。したがって、入射光２７
はスリツト孔６および７を通じて撮像素子８′へ到達す
る。By operating a shutter button (not shown), a current is first applied to the conductor coil patterns 1 and 2 of the first substrate 3 through one end S of each spring 11, 12, which is a conductor. As a result, the slit hole 6 of the substrate 3 moves together with the substrate 3 in the direction of the arrow 23 according to Fleming's law (the state after the movement is shown in FIG. 8(b)). Therefore, the incident light 27
reaches the image sensor 8' through the slit holes 6 and 7.

このとき基板３を移動させるのに必要な力は、以下の様
になる。必要なストローク長を撮像素子８′の大きさ８
．８ｍｍに対し１０ｍｍ，移動時間を１／６０秒とする
と移動速度ｖは、 ｖ＝１０÷１／６０＝６００ｍｍ／ｓｅｃとなる。基板
３始動時の立上り時間を２ｍｓｅｃ、重さを２ｇとする
と、実質的に必要な力Ｆ′は、Ｆ′＝２／９８０・６０
×１０００／２＝６０ｇとなる。よつて基板を移動させ
るのに必要な力Ｆは、スプリングの強さ２０〜３０ｇを
加えて、８０〜９０ｇとなる。つまり、この力以上の力
が電磁力駆動によつて基板に与えられればよいことにな
る。The force required to move the substrate 3 at this time is as follows. The required stroke length is determined by the size of the image sensor 8'.
．． If 10 mm is used for 8 mm, and the moving time is 1/60 seconds, the moving speed v is v=10÷1/60=600 mm/sec. Assuming that the startup time of the board 3 is 2 msec and the weight is 2 g, the practically required force F' is F' = 2/980·60.
×1000/2=60g. Therefore, the force F required to move the substrate is 80 to 90 g, including the spring strength of 20 to 30 g. In other words, it is sufficient if a force greater than this force is applied to the substrate by electromagnetic drive.

次に、所定時間Δｔだけ遅れて基板４の導体コイルパタ
ーン４８、４９へ導電体のスプリング２０および１９の
各一端Ｓを通じて電流を流す。すると基板４のスリツト
孔７は、基板４と共に矢印２３方向へ移動する（移動後
の状態を第８図（ニ）に示す）。Next, after a delay of a predetermined time Δt, current is applied to the conductor coil patterns 48 and 49 of the substrate 4 through one end S of each of the conductor springs 20 and 19. Then, the slit hole 7 of the substrate 4 moves in the direction of the arrow 23 together with the substrate 4 (the state after the movement is shown in FIG. 8(d)).

よつて入射光２７は、基板４によって遮光が開始されス
リツト３０が形成される。そして、この遅らせた時間を
１ｍｓｅｃとすれば、これが露光時間となる。Therefore, the incident light 27 begins to be blocked by the substrate 4, and a slit 30 is formed. If this delayed time is 1 msec, this becomes the exposure time.

さらに、各コイルパターンに電流を流し続ければ基板３
と４は移動を続け、最後には第８図（ニ）に示す状態に
達する。すなわら、第７図において、ガイド溝１３、１
４、１５の許容限度いっぱいまで、基板３および４は、
スプリングのカに拡して移動したことになる。Furthermore, if current continues to flow through each coil pattern, the board 3
and 4 continue to move, and finally reach the state shown in FIG. 8(d). That is, in FIG. 7, the guide grooves 13, 1
4, up to the full tolerance limit of 15, the substrates 3 and 4 are
This means that the force of the spring expands and moves.

以上の動作において、基板３における導体コイルパター
ン１，２に流す電流の波形を第９図（イ）に、基板４に
おける導体コイルパターン４８、４９に流す電流の波形
を第９図（ロ）にそれぞれ示した。両波形は時間Δｔだ
けずれていることが判るであろう。In the above operation, the waveform of the current flowing through the conductor coil patterns 1 and 2 on the board 3 is shown in FIG. 9(a), and the waveform of the current flowing through the conductor coil patterns 48 and 49 on the board 4 is shown in FIG. 9(b). shown respectively. It will be seen that both waveforms are shifted by a time Δt.

また第９図（ハ）は、基板３の移動量ｘ３と基板４の移
動量ｘ４の時間的変化を示したグラフである。Further, FIG. 9(c) is a graph showing temporal changes in the moving amount x3 of the substrate 3 and the moving amount x4 of the substrate 4.

なお、第１０図は前ヨーク２１の正面図であり、第１１
図は、本発明の一実施例の動作時における基板３と４の
移動過程を、（イ）〜（ニ）の順に示した説明図である
が、これらについては、もはや説明の必要はないあろう
。Note that FIG. 10 is a front view of the front yoke 21, and the 11th
The figure is an explanatory diagram showing the movement process of the substrates 3 and 4 in the order of (a) to (d) during the operation of one embodiment of the present invention, but there is no need to explain these. Dew.

以上説明した如く、本発明により１／１０００秒の高速
シヤツタが容易に実現できる。シヤツタを閉じた後初期
位置へ戻すには、先に第１の基板３のコイルパターンへ
印加していた電流を切り、後に第２の基板４のコイルパ
ターンに印加していた電流を切れば良い。前ヨーク２１
の形状を示した第１０図から分るように前ヨーク２１に
は溝２６′が設けられており、シヤツタが閉じていると
きの入射光は、ミラー５の斜面部によつて反射され上方
のフアインダに導かれる。As explained above, according to the present invention, a high-speed shutter of 1/1000 seconds can be easily realized. To return the shutter to its initial position after closing, first turn off the current applied to the coil pattern on the first board 3, and then turn off the current applied to the coil pattern on the second board 4. . front yoke 21
As can be seen from FIG. 10, which shows the shape of Guided by Huainda.

さらに、シヤツタの速度、スリツト孔の幅等は、第１の
基板３、第２の基板４の移動タイミングを変えることに
よって従来のフォーカルブレーンシヤツタの場合と同様
に可変にすることができる。Further, the speed of the shutter, the width of the slit hole, etc. can be varied by changing the movement timing of the first substrate 3 and the second substrate 4, as in the case of the conventional focal brain shutter.

また、本実施例では左右方向に第１の基板、第２の基板
を移動させるものとして説明したが、上下方向に移動さ
せる場合でも同様に構成することができる。Further, although this embodiment has been described as moving the first substrate and the second substrate in the left-right direction, the same structure can be used even when the first substrate and the second substrate are moved in the vertical direction.

さらに、本実施例では、可変スリツトとするため基板（
シヤツタ幕）を２枚用いて構成したが１枚基板で固定ス
リツトとすることも同様に可能である。Furthermore, in this example, the substrate (
Although the structure was constructed using two shutter curtains, it is also possible to use a single substrate with fixed slits.

以上述べた様に、本発明によれば、シヤツタ幕を直接に
電磁力駆動するようにしたので、機構が簡単で制御のし
易いシヤツタを提供できるという利点がある。As described above, according to the present invention, since the shutter curtain is directly driven by electromagnetic force, there is an advantage that a shutter having a simple mechanism and easy to control can be provided.

なお、本発明のよるシヤツタは、特に、電子式スチルカ
メラのように撮像素子が小型でシヤツタ、ミラー機構、
フアインダ部等のための所要スペースの少ないものに適
する。Note that the shutter according to the present invention is particularly suitable for electronic still cameras in which the image sensor is small and the shutter, mirror mechanism,
Suitable for those requiring less space for a winder section, etc.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第１図は従来のフォー力ルプレーンシヤツタを示す正面
図、第２図は同シヤツタを内蔵したカメラ本体の断面図
の概略図、第３図（イ）〜（ニ）はシヤツタを構成する
二つの幕のシヤツタ動作時における走行過程を示す説明
図、第１図は本発明の一実施例を示す正面図（但し前ヨ
ーク２１を除去しで示す）、第５図は同側面図、第６図
は中央部での同断面図、第７図は同じく本発明の一実施
例を示す分解斜視図、第８図は上端面から見た本発明の
一実施例の動作説明図、第９図（イ）、（ロ）は本発明
の一実施例の動作時において、各導体コイルパターンに
印加される電流波形を示す波形図、第９図（ハ）は名基
板の移動量の時間的変化を示したグラフ、第１０図は前
ヨークの正面図、第１１図は本発明の一実施例の動作時
における基板３と４の移動過程を（イ）〜（ニ）の順に
示した説明図、である。 符号説明 １、２……導体コイルパターン、３……第１幕、４……
第２幕、５……ミラー、６，７……スリツト、８……感
光材料、９、１０……固定磁石、１１、１２……スブリ
ング、１３，１４，１５…ガイド溝、１６、１７、１８
……ガイド軸、１９、２０……スプリング、２１……前
ヨーク、２２……後ヨーク、２６……フレーム、２６′
……溝、２７……入射光方向、２８……レンズ、２９…
…フアインダ、３０……スリツト、３１……ソレノイド
、３２……ソレノイド、３３、３４……回動支点、３５
．３６……固定支点、３７、３８……固定支点、３９、
４０……溝、４１、４２……ピン、４３．４４……リン
ク、４５……カメラ本体、４６、４７……リンク、４８
，４９……導体コイルパターン 代理人　力゛埋土　並　木　１１（」　　夫第４図 第５図　　　　　第６図 溶８図 第９図Figure 1 is a front view showing a conventional four-force plane shutter, Figure 2 is a schematic cross-sectional view of the camera body incorporating the shutter, and Figures 3 (a) to (d) are configurations of the shutter. An explanatory view showing the traveling process of the two curtains during shutter operation. Fig. 1 is a front view showing one embodiment of the present invention (however, the front yoke 21 is removed), Fig. 5 is a side view of the same, and Fig. 5 is a side view of the same. 6 is a cross-sectional view of the same at the center, FIG. 7 is an exploded perspective view showing an embodiment of the present invention, FIG. Figures (A) and (B) are waveform diagrams showing the current waveforms applied to each conductor coil pattern during operation of an embodiment of the present invention, and Figure 9 (C) is a waveform diagram showing the amount of movement of the substrate over time. A graph showing the changes, FIG. 10 is a front view of the front yoke, and FIG. 11 is an explanation showing the movement process of the substrates 3 and 4 in the order of (a) to (d) during operation of an embodiment of the present invention. Figure. Code explanation 1, 2...Conductor coil pattern, 3...Act 1, 4...
Second curtain, 5... Mirror, 6, 7... Slit, 8... Photosensitive material, 9, 10... Fixed magnet, 11, 12... Subring, 13, 14, 15... Guide groove, 16, 17, 18
... Guide shaft, 19, 20 ... Spring, 21 ... Front yoke, 22 ... Rear yoke, 26 ... Frame, 26'
... Groove, 27 ... Incident light direction, 28 ... Lens, 29 ...
...Finder, 30...Slit, 31...Solenoid, 32...Solenoid, 33, 34...Rotation fulcrum, 35
．． 36... fixed fulcrum, 37, 38... fixed fulcrum, 39,
40...Groove, 41, 42...Pin, 43.44...Link, 45...Camera body, 46, 47...Link, 48
, 49...Conductor coil pattern agent Force ゛ Buried soil Row of trees 11 ('' Fig. 4 Fig. 5 Fig. 6 Fig. 8 Fig. 9

Claims (1)

【特許請求の範囲】 １）導電路を形成されたシヤツタ幕を磁場の中に配置し
て成り、前記導電路を流れる電流と磁場中の磁束との相
互作用によって生じる電磁力によりシヤツタ幕を駆動し
て露光するようにしたことを特徴とする電磁駆動シヤツ
タ。 ２）特許請求の範囲第１項に記載の電磁駆動シヤツタに
おいて、前記シヤツタ幕が、導体コイルパターンを形成
されると共に一部にスリツト孔をあけられた第１および
第２の遮光性基板から成り、前記第１の基板に形成され
た導体コイルパターンに通電する時間と第２の基板に形
成された導体コイルパターンに通電する時間をずらし、
それぞれスリツト孔をあけられている該第１の基板と第
２の基板を相対的に駆動し、それにより生じる前記二つ
のスリツト孔の相対移動により露光するようにしたこと
を特徴とする電磁駆動シヤツタ。[Scope of Claims] 1) A shutter curtain formed with a conductive path is placed in a magnetic field, and the shutter curtain is driven by an electromagnetic force generated by the interaction between the current flowing through the conductive path and the magnetic flux in the magnetic field. An electromagnetic drive shutter characterized in that it is configured to expose to light. 2) In the electromagnetic drive shutter according to claim 1, the shutter curtain is made up of first and second light-shielding substrates on which a conductive coil pattern is formed and a slit hole is formed in a part. , staggering the time when the conductor coil pattern formed on the first substrate is energized and the time when the conductor coil pattern formed on the second substrate is energized;
An electromagnetic drive shutter characterized in that the first substrate and the second substrate each having a slit hole are driven relative to each other, and exposure is performed by the relative movement of the two slit holes caused thereby. .