JPS59231042A - 2置換エタン及びその液晶材料、液晶装置、液晶材料の製造における利用 - Google Patents

2置換エタン及びその液晶材料、液晶装置、液晶材料の製造における利用

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JPS59231042A
JPS59231042A JP59100357A JP10035784A JPS59231042A JP S59231042 A JPS59231042 A JP S59231042A JP 59100357 A JP59100357 A JP 59100357A JP 10035784 A JP10035784 A JP 10035784A JP S59231042 A JPS59231042 A JP S59231042A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、2置侠エタンと、液晶材料及び液晶装置そし
て液晶材料の製造における該エタンの利用に係る。
デジタル計J4器、時針、計器及び間車な百饋辰示器の
工うなディスプレイ装置における電気光学的効果?持つ
液晶材料の利用については良く知られている。しかしな
がら、液晶材料が全ての点で理想的なものではないとい
うことが知られており、近年当該技術分野では液晶材料
の特性を改善するような多くの研究が行わnている。
液晶材料は通常特別に選択した混合組成物から成り、改
善された特性のffi盆せt有する新しい混合物を調製
することにエフ液晶材料が改良されている。
本発明によると、先ずjg1番目に、式の液晶化合物の
製造に適した新規カルボン酸が゛提供される。
dX2番目に、本@明にニジ、上記式Iの化合物の使用
方法、即ち、前記酸又はその肪導体を適当なアルコール
でエステル化することに工って得られる式1の酸のエス
テルである液晶化曾物の製造方法が提供される。
第3番目に、本発明により第2番目に述べた方法で生成
されるF記載の液晶エステルが提供さ扛る。
ReC&、C)hXΣXC0,0−x  式M(式中、
Xは適宜置換されたアリール又は脂猿式譲構造でろLR
はアルキルである。) 好ましくは、弐1のXは適宜置換されたフェニル、ビフ
ェニル、シクロヘキシル、ビシクロヘキシル、シクロヘ
キフルフェニル、&ヒビシクロ−オクチル基力為ら選択
さする。
Xの特に好ましい構造を次に示す: Qt  Qm ここでR2は水累、アルキル、アルコキシ、ハロゲン又
はシアンから選択され、QlとQ2とは各々独立して水
素、ハロゲン、シアン、ニトロから選択さn、a。
a Q4 ここで、R1は上記したのと同義であり、Qmと−は各
々独立して水素およびフッ素から選択される。
弐厘のXの基に関する他の可能な群を次に示す:ここで
R1は上記に示さnており、へ灰Σはトランス−1,4
−2置侯シクロヘキサン壌を示し1@−ハ1.4−2g
@ヒシ10 (2,2,2)iクメン4を示す。
R4は特に好ましくはアルキルノよびシアノ基である。
R又はR,がアルキル基であるか、アルキル基を含有し
ている場合、該アルキル基は例えばキラル甲心を含むよ
うな分枝mw持つ基でもめシうるが、好ましくは1乃至
12の炭素原子を持っn−アルキルである。
R3がハロゲンである場合には、フッ素又は塩素が好°
ましい。
式■のカルボン酸は、七扛に対応するシアン化合物(英
[#h′f7gz o z a t a 6131tD
主d)(D例えば戚の1?[甲での加水分解で得らnる
。このシアン化合物を次に示す: 弐1の戚を弐X−01((Xは上記の通り)の適当なア
ルコールと共に反応場せ、既知のいかなるエステル化法
、例えば無水トリフル副口昨ぼ又【言J罵り戚と硫収の
触媒作用のFでのエステル化法にLシ、成層の所要エス
テル全形成できる。−力、式1(1)酸は改塩化切の工
うな戚の誘導体に転戻さ扛得、その誘導体は塩基の存在
下にX−OHのアルコールと反応しうる。既知の手法目
体を宮υこの工うな手臘による式鳳のエステルの、11
1m例を以丁に示す。
式1のエステルは′屯気光学的ディスプレイに使用する
液晶材料(混合物)の重要な成分である。
典型的にすのエステルの透明点(clearlng p
aint )は高<、TN−1すなわち液晶から液体へ
の転移温度は例えば100℃以上であり、そのエステル
を添加する混合物の透明点を上昇させるのに有用である
このように、弐Iの戚は、個々の液晶エステル時に弐思
のエステルの貴重な前駆物質となる。
ネマチック又はキラルなネマチック液晶化合物の使用が
適していると仰られている電気光学的応用以外の他の応
用にも成層の化合物は使用できる。
例えば、英国特許出願/162083244A及び20
85585Aに記載されているような適用に使用するた
めの、温度感応性の、熱変色性材料の透明点の高い成分
として式lの化合物を組み入れることができる。
B、が水素、アルキル又はアルコキシで、Ql、Qマが
水素である成員の化合物は、一般に誘電異方性が比較的
小さく、なかんずく適当な誘電異方性を持つ混合物を調
装するために1正又は負の材料として知られており且つ
本明則書中この工うに称されている(=9大きい)正又
は負のtj ’ML異カ性の液晶材料に添加され得る。
当業者に良く矧らnている工うに、電気光学操作には液
晶材料のこの一′厄異方性が必要であり、与えられた周
波数に対するサインは液晶材料が使用さnることになる
電気光学装置dのhl類によって選択される。
亀カF 、 ct又はCNである酸層の化合物は一般に
正の#電異刀性を持つ(ル、がCN″′C:りる場合に
は強い正で必る)。
Qlお工び/又はらがF、C1又はONでるる式1(1
)の化合物は一般に負の材料でめり(Qlおよび/又は
Q、がCNである場合には云い負でろるり。同様に、Q
sお工び/又は偽がFでめる式jl 1it)の化合物
は一般に(弱いン負の材料でめる。
成層の化合*1−い正の材料に離別する除には、例えば
材料の透明点を拡大するために、強い正の成分(誘電異
方性が′鴻いンとして融点が十分低い化合物を選択する
。例えば、次に示す既知の群の化合物が正の材料として
:a当である:上記式中、各R1は独立してn−アルキ
ル又はn−アルコキシでワク、谷R人は独立してn−ア
ルキルである。
一力、あるいは更に、既知の誘電異方性の小さい化合物
に成田の化合物全混和日し、例えば混片物全体の透明点
を上昇させることができる。十分に融点が低く、一般的
に誘電異方性の小さい既知の化合物のνりは次の群でめ
る: RAべ=X(少−RB          式IVig
A@−C1(=NR:E)−=R1式IVjRBX工X
O−gx          式[Vlに1 上記式中、%R,は独立してn−アルキル又はn−アル
コキシで6 り 、% RAは独立してn−アルキルで
るり、各R1は独立してn−アルキル+n−アルコキシ
又はハロゲンでhり、Xsは水素又はフッ素であL Q
はハロゲン例えば塩バ又はフッ素である。
典型的には、1つ以上の式1aからIiの化合物に、適
宜1つ以上の式■からIVpの化合物と共に、1つ以上
の弐]の化合物全添加でさる。
更に、賜い透明点の化合物を、例えばf記の群から選択
さnる1つ以上の化合物が使用さnうる工うな混合物に
追加してもよい。
上記式中、RII # RA # Xl  は上記に定
義した通シである。
一〇N (ここでRoは…−2−メチルブチルであシ、
RDはf−1−)−2−メチルブト牛シである〕のよう
なキラル碩加剤の如き他の%麓の既知添加剤全必要に応
じて混合物に組み入れてもよい。
弐]の化汗物と前記し7’C工9な他の群の化合物全混
和して得た液晶材料はf記のつらいずれかであり得る。
(1)多重化装置を含むねじ社ネマティック効実装置に
使用さする正のネマティック材料。このような装置の例
は後記する。
(11)  フレデリック効果の装置(負のネマティッ
ク型〕に使用される好ましくは多色性染料を含む負の材
料。この装置a内では、電場の印加にニジ分子配力がホ
メオトロピック配列(ONの状態ンからホモジニアス配
列(OFFの状態)に変りうる。
この工うrl装置は&a己する。
彌) フレデリック効果装置(正のネマティック型ンで
便用される好ましくは多色性染料を含む正のネマティッ
ク材料。この装置内では、電場の印加にニジ分子配力が
ホモジニアス配列(OFFの状態〕かもホメオトロピッ
ク配列(ONの状態〕に変りうる。
IIVI  コレステリック記憶モードの装置に使用さ
れる4尚な固有抵抗(約io”オーム−r−x ) G
DコVステリック(キラルなネマティック)な負の材料
この装置内では、電場の印加に:り分子配列がホモジニ
アス配列(OFFの状態〕から散乱した焦点性円錐配列
(scattering focal conic t
exture )(ONの状態)に変化しうる。
LVI  コレステリックーネマティンク相変化効釆装
置(正のコントラスト型)に使用される、好ましくは多
色性染料をも含んだコレステリンクである強い負の材料
。この装置内では、電場の印加により分子配列が散乱性
の弱いすなわち透明な表面配列のホメオトロピック配列
(OFFの状態)から強い散乱性のねじれたホモジニア
ス配列(ONの状態)に変化しうる。
IVD  コレステリツクーネマナイツクヘ相変化効実
装置(負のコントラスト型〕に使用される、好ましくは
多色性染料tも含ん疋ニレステリックでるる正の材料。
この装置内では、゛電場の印加によシ散乱性の焦点性円
錐配列(OFFO状態)から透明なホメオトロピック配
列(ONの状態〕へと分子配列が変化しうる。
(yii)動的敏乱効実装置内に使用される、]f!当
な固有抵抗(約109オーム−(、nL)f持つ負のネ
マティック材料。この装置内では、磁場の印加にエフ透
明なホメオトロピック配列(OFF’の状態)から乱れ
た散乱配列(ONの状態)に分子配列が変化しうる。
(v11υ 2つの周波数の切り替え効果装置(これは
ねじれネマティック装置でろ夛9るンに使用さnる正の
ネマティック材料。この装置内でを工、高周波数の電場
を印加することにLシ、この材料の誘電異方性は(低周
波数でのン正(OFFo吠態ンから負(ONの状態ンへ
と変化しうる。
(iXI  A国特許出1A168218821 ニg
agnた装置に4廿する材料。
上記装置の構造と操作及びこnらの装置に適した一般的
な材料は既知でるる。
ねじれネマティック効実装置、コレステリンク相からネ
マティック相への変化効果(負のコントラスト型プ装置
、又はフレデリック効果(正のネマティック型り装置に
用いら牡る液晶は上記のものを含有することが好ましい
: 成分へ二 1つ以上の成用の化合物と 成分B: 適宜1つ以上の上記の成分を含む1つ以上の
式1aからIfの化合物: 成分C: 1つ以上の式■からバpの化合物;成分J)
:  1つ以上の式VnからVJの化合物:成分E: 
1つ以上のキラル硝加物。
ねじ■ネマティック幼果及びフレテリツク(正のネマテ
ィック)効果には、材料中に上記の率で種々の成分を使
用する(各パーセントの総tik100Xにするジ。
成分A:  5〜95電黛%(典型的には5〜40重蓋
%ン 成分B: 5〜95殖産X(典型的には50〜8゜重盪
%) 成分C: 0〜90重量%(典型的には5〜25重量%
ン 成分D: 0〜30重量%(典型的には0〜15重蛍%
〕 成分g: 0〜5重童%(典型的には0〜1重量%) 相変化(負のコントラスト型)には、下記の比率を用い
得る: Jlt分AからD: 上記した割付 成分E: 2〜20mt%(典型的には4〜5嵐量′X
) フレデリック(正のネマティック)及び相変化(負のコ
ントラスト型〕効釆には、全混合物の1.5〜15%の
多色性染料を液晶材料に添加することが好ましい。適当
な染料は英国峙肝出HA 42081736A、J62
08219Aj?↓び、−162093475Aに記載
されている。典型的には、組み人nられfC谷染料化合
物は全混合物の1〜3重量%となる。
既知の手法、例えば全部を等力性液体にする正しい重量
比で成分の化合物を一緒に(例えば約i o o′c)
で熱するという間車な力性で、式Iの化合物?含有する
液晶材料が得らnる。
本発明金具体化する混合物のよシ一般的な例は、1つ以
上の上記の用途(実際の用途は混合物の特性に依存する
)に使用さnる次に示す既知の族のらnる。
ビシクロ(2,2,2)オクタン環でろムX )! 1
.4ス−1,4−2tftlAシクロヘキサン猿でおp
、Y1tマCN 、 R’ 、ノーログン、 、COO
−X−Yl(YlをよCN又を言R′又はOR’であり
、RとR′はアルキル基である)又はこの誘導体でろっ
て1つのベンゼン環にお〜1でHがハロゲン例えばFで
置換されて(・るものを示す。
好ましくは、式nの化合物が混合物中の5〜95瓜瀘%
となる。
本発明に1牡ば、第4番目に、液晶装置力1提供され、
該液晶装置は2つの杷ti&基板を言んでおり、そのう
ちの少なくとも1つは光学的に透明でろシ、−気元学的
幼果を得るために゛厄場が液晶材料層を横切ることtI
li工能にするように基板と基板の内表面のt儂の間に
液晶材料l−を挟持し、液晶材料が上記式■−る化付物
から成るか、又は該化合物t’8んでいることt特徴と
する (以1・余白) 本発明の前記装置は、ねじれネマティック効実装置(多
重化様式で操作してもよいし、しなくてもよい)、コレ
ステリック−ネマティック相変化効果装置、7レデリツ
ク効実装置又は2周波転換効果装置、その他上記したよ
うな他の装置のいずれかであシ得る。これらの装置はす
べて既知の方法で構成され得る。
これらの装置で式■のエステルが利用される種々の方法
は以上に概説したとおシであシ、当業者には更に自明で
ある。
以下、式■および■の化合物の製゛造例と特性を示す。
fルシクロヘキシル)エチル〕安JiL8!(式I。
R=n−CsHo) 1−(4−シアノフェニル)−2−()ランス−4−n
−ペンチルシクロヘキシル)エタン(i’oクラム。
35.3ミリモル)を硫酸(70チw/w 70 ml
 )に添加し、その混合物を攪拌し、125〜135℃
で18時間加熱した。その後温度を170℃とし、混合
物を170℃で3時間攪拌した。この時点では、薄層ク
ロマトによシ混合物の中に出発物質を検出できなかった
。冷却した混合物に水(120m)を添加し、30分間
攪拌した。
粗生成物を済過して除き、水(100FIL/りで洗浄
し、50℃で真空下で乾燥させた。収量は10.6グラ
ム(理論の99%)であった。
氷酢酸(50TLl)で生′成物を再結晶した。生成物
の結晶を水(20QmJ)で洗浄し、40℃で真空下で
乾燥させた。収量は9.4グラム(理論の88チ〕、融
点は201℃であった。
ロヘキシル)エチル〕安息香酸の調製 (式I 、 R=CzHs) 出発材料として1−(4−シアノZエニk ) −2−
()lンスー4−エチルシクロヘキシル)エタンを用い
、実施例1と同様の手法を用いた。生成物の収量は理論
の989!Iであシ、融点は215〜200℃であった
実施例3   :   4−n−プロピルフェニル 4
−[:2−(トランス−4−エチルシクロヘキシル)工
子ル〕ベンゾエイトの調製。
(式Il w R=C2H5+ X=Rgワ−CaHy
−n )実施例2で調整した4−(2−(トランス−4
−エチルシクロヘキシル)エチル〕安息香酸(10,5
グラム、 40.38ミリモル)を塩化チオ=v (6
0ml)で1時間還流した。過剰な塩化チオニルを蒸留
して除き、4−C2−()/Fンスー4−エテルシクロ
ヘキシル)エチル〕ベンゾイル塩化物(il、2グラム
、理論の100チ)を得た。
上記の酸塩化物(1,5グ2ム、5.39ミリモル)を
4−n−プロピルフェニル(0,73グラム、5.39
ミリモル)、トリエチルアミン(3コ)、ジクロロメタ
ン(4omt)中で1時間半還流した。冷却した混合物
を水(40mJ)に入れて分離し、塩酸(40m6.2
0%)と水(40−)で洗浄した。粗生成物の収量は1
.8グ2ム(理論の88.5%〕であった。
シリカダル(5グラム)と塩化アルミナ(10グラム)
と溶剤として石油ニジクロロメタンの1:1混合液(2
00ml)を含むカラムに粗生成物を通した。収量は1
.6グラム(理論の79チ)であった。エタノール(1
8M)で再結晶し、4−二一プロビルフェニル 4−(
2−(1二とスー4−r−チルシクロヘキシル)エチル
ツーベンゾエイト1.3グラム(理論の64%ンを得た
。生成物のTK−N (融点あるいは結晶からネマティ
ックへの転移温度)は59.4℃=TN−i’(透明点
)は130.9℃であった。
実施例4  :  4−n−プロピルフェニル 4−(
2−(トランス−4−n−ペンチルシクロヘキシル)エ
チル〕ベンゾエイトの調製。(式■、 R= n −C
IIHII *X=()cs Ht −n ) 出発物質として実施例1で調製した4 −(2−(トラ
ンス−4−n−ペンチルシクロへキシルクエチル〕−安
息香酸を用い、実施例3と同様の手法を用いた。
生成物のT  (結晶からスメクテインク液に−8 晶への転移温度〕は50℃ITS−Nは117℃。
TN−Iは151.5℃であった。
実施例5   :  4−n−ブチロキシフェニル 4
−〔2−トランス−n−ペンチルシクロヘキシル)エチ
ルツーベンゾエイトの調製。(式[:  R: n −
CI)Hll *X=※))QC4He −n ) 出発材料として4−[:2−(ト9ンスー4−n−ペン
チルシクロへキシル)エチル]安息香酸と4−n−ブチ
ロキシフェノールを用い、実施例3と同様の手法を行っ
た。生成物のTK−8は60℃。
TS−N(スメクテイツクからネマティックへの転移温
度)は144℃、TN−〇は167.4℃でらった。
実施例6  :  4−シアノフェニル 4−(2−(
)ランス−4−n−ペンチルシクロヘキシル)エチルツ
ーベンゾエイトの調製。(式■: R= n −C5H
II vX=OCN) 出発材料として4−シアンフェノールを用い、実施例5
と同様の手法を行った。
生成物のT  は79.2℃、T  は189.4に−
N               N−ILであった。
実施例7  : 4−フルオロフェニル 4−(2−(
12ンスー4−n−エチルシクロヘキシル少エチル〕−
ベンゾエイトの調製。
(式II : R=02出、XりぐΣとF)出発材料と
して4−(2−()、Fンスー4−n−エチルシクロヘ
キシル)エチルクー安息香酸と4−フルオロフェニルを
用い、実施例3と同様の手法を行った。
生成物のTK−N(融点又は結晶からネマティックへの
転移温度)は75.0→75.2℃。
TN−エ〔透明点〕は110.7℃であった。
実施例3の生成物は式■のエステルの有用性を示してい
る。
B D HChemicals Ltd (英国、 P
oole市)から供給された市販の液晶材料E7に10
重量%(添加する材料の重量に対して)の実施例3の生
成物を添加した所、添加によυTN−0の値は60℃か
ら65.5℃へ上昇した。
添付の図を参照して発明を具体化する材料と装置の例を
示す。
図1から4のディスプレイは、セル1.スペーサー4に
よシ各々約7μm離されている前と後の2つのガラスス
ライド2,3から成υ、この偏光板5を置き、その偏光
軸は水平軸に合せる。反射鏡7はスライド3の後に儂く
。後の偏光板6又はアナライザーをスライド3と反射鏡
7の間に置く。
典型的には100λの厚さの薄い酸化物である電極8,
9は完全な層としてのスライド2.3の内表面上に置き
、図3,4に示した形にエッチする。ディスプレイには
デジット10毎に/ζ−7本を具備し各デジット間に1
つの小数点11を具備する。図3に示すように、後の電
極構造は3つの電極XI + X2 + X3となる。
同様に、前の電極構造はデジット及び小数点についてY
x + )’2 T ’!s・・・・の3つの電極とな
る。デジットについての6つの電極の検査は適当なX、
X電極に適した電圧をかけることによシ、8このエレメ
ントは各々独立してそこにかかった電圧を保持できるこ
とを示した。
組み立てに先立ち、電極をささえるスライド2゜3は清
浄化し、0.2重量%のポリビニルアルコール(PVA
)水溶液に入れる。乾燥した時にスライドを一方向に歌
いティッシュ−でこすシ、その後、偏光板が交叉するよ
うに、互いに直角な方向や各々隣接する偏光板の光学軸
に平行な方向にとすシながら組み立てる。ネマティック
液晶材料12をスライド2.3の間に導入すると、スラ
イド表面の分子はスライド間で徐々にねじれ、それぞれ
のこすった方向にそってならぶ。
セル1にO電圧を印加すると、光は前の偏光板5を通シ
、セル1(90°回転した偏光面を持つ)を通り、後の
偏光板6から反射鏡7を通シ、そこで観察者へ反射して
戻る(図1にスライド2,3の面のX、Y軸に対し垂直
なz軸に対する45°の角を示す)。2つの電極8,9
にしきい値以上の電圧を印加すると、液晶層12はその
光学活性を失い、スライド2,3に垂直に、すなわちz
軸にそって分子は再配列される。このように、この場合
の光は反射鏡7に届かず、デジット10の1つ以上の横
線のある暗いディスプレイを見ている観察者には反射し
てゆかない。
ラインスキャン様式では3つの連続した時間の間隔で図
5.6.7に示されるように電圧を印加する。3V/2
の電気ポテンシャルを、例えばスキャンダラシし、各X
電極に対し交互に印加すると、残シのX電極に−V/2
が印加される。一方、−3V/2又はV/2をX電極に
印加する。交点で3V/2と一3V/2が同時に存在す
ることにより液晶層12を横断して3vの電圧が発生す
る。いずれの場所でも電圧はV又は−■である。このよ
うにして、3V/2がX電極をスキャンダウンしながら
適当なX電極に一3V/2を印加することによシ、黒い
丸で示されるように選択された交点はONになる。電圧
Vは例えば 100Hzの矩形波のaeシグナルで、そ
のサインは相を示している。
ON と OFFの交点の間又はディスプレイエレメン
トの間に電極が分けられているため、図1から7に示し
た装置がマルチゾレツクスディスプレイであることは、
当業者には明白であろう。
上記の装置の液晶材料12として使用するに適した本発
明を具体化する液晶材料を下記の表7に示す(混合物l
)。
表7=混合物1 化合物    重量メ CgHg+CN15 n −C4H9+CN   15 CIHI %cN15 n C4Is +CN   15 液晶層の分子を好ましくねじるために少量の光学的に活
性な液晶材料をネマティック材料に添力口+きる。この
添加及び適当なスライド表面処理によシ、英S特許番号
1,472,247と1,478,592におけるディ
スプレイのノリチネスの問題は取シ除かれる。
適当な光学活性のある液晶材料は、 C)Is (+) CHs+−CH寓・CH,CH*%CN・・・
・・・CtsHs (ト)−CHs・C山・CI(、C山べ=〉(司トCN
・・・CBs5で。
C饅は約0.1〜0.5重量%、 CH腸は約0.01
〜0.05重i′チとなる。
ディスプレイのコントラストを増強するために、少量の
多色性染料を添加する。例えば英国特許2093475
 A号明細書には2重i俤の染料混合物2が明記されて
いる。この例では1つの偏光板は除いた。
その他の具体例では、発明の第2点を具体化する混合物
をフレブリックス効果のセル中に使用した。上記装置に
おけると同様にその内表面上に電極フィルムを持りガ2
ススライド間に液晶材料(挾持することによシこのよう
なセルが作られる。
しかし、この場合には偏光板は必要でなく、ガニススラ
イドの内表面をレシチンでコート化処理(液晶材料は負
の材料であシ、その分子は0FF(<状態ではレシチン
コーティングによシスライドJ板(ホメロトロビツク配
列)に垂直に配向する。
ON状態で液晶材料を横切る適洛な電場を用い−と、分
子はスライド表面に平行に再配列される(ホモジニアス
配列)。液晶材料に多色性染料(組み入れるとONとO
FFとの間の=ントラス1が増強される。
上記方法で作られた7レデリツク効果セルに]記の混合
物3を組み入れることができ、セルのプきさけ10μm
となる。
ヒ   表9二混合物3 う ) 配置−CtHs()C&偽+COO舎Cs& n 20
混合物3(混合物3の3重i−チまで)にと CN CN 化合物Aを負の添加剤として適宜添加できる。
化合物Aの調製法は英国特許出願番号2061256( Aに記載されている。染色した混合物を得るために混合
物3に対し、上述した染料混合物を約1重量%添加でき
る。(混合物3A) セルを横切って電圧をかけると、色彩は弱い吸収状態か
ら強い吸収状態へと変化する。
発明のもう1つの具体例では、(コレステリックからネ
マティックへの)相変化効果装置に上記甑義した材料を
組み込んでいる。
上述したねじれネマティックセルにおけると同様に、電
極をささえるガラススライド間に挾持された長いラセン
状ピッチのコレステリック材料を持つようセルを調製す
る。
しかし、この場合偏光板やホモジニアス配列を得るため
の表面処理、例えばSiOによるガラススライド表面の
処理は使用しない。
゛ガラスス2イドを処理せず液晶材料が正の誘電異方性
(Δt)を持つ時には、光を散乱するOFF状態で液晶
材料はねじれた焦点性円錐の分子配列となる。ガラスス
ライドの各内表面上にある1組の電極の間に印加した電
場は、電極の間にある液晶材料の部分を、OFF状態に
比し散乱の少ないホメオトロピックなネマティック配列
であるONの状態に変える。これは相変化効果装置の1
負のコントラスト型である。
ガラススライド表面に垂直な配列をさせるために、N、
tばレシチンコーティングの様なものでガラススライド
の内表面を処理し、又液晶材料が負のΔ8を持つと、O
FF状態の材料は投射光に対し散乱効果を持たないホメ
オトロピック配列となる。
ガラススライドの各内表面上の1組の電極間に電場を印
加すると、電極間の液晶材料の部分は光を散乱する(O
Nの状態)のねじれたホモジニアス配列に変化する。こ
れは相変化効果装置の6正のコントラスト”型である。
液晶材料に少量の適当な多色性染料(例えばΔaが正で
ある例で上記した染料混合物をlN量%)添加すること
により、各側における2つの状態間のコントラストは増
強される。
本発明を具体化する、相変化効果(負のコントラスト型
)装置に使用する適当な正の誘電異方性材料、混合物4
を表10に示す。
表1O:混合物4 化合物    重量% CBII$ =Rc%CN(R−+J−2−メテルブT
ル)    4本発明を具体化する、相変化効果(正の
コントラスト型)装置に使われる適当な負の誘電異方性
材料、混合物5を次に示す: 表11:混合物5 物質     重量% 混合物399 Rc%COO合R,1 (Rc=(イ)−2−メチルブチル) 表11に示したキラル化合物′の替シに、式lのキラル
化合物も使用できる。
【図面の簡単な説明】
第1図はねじれネマチックデジタルディスプレイの斜視
図であシ、 第2図は第1図に示されたディスプレイの断面図であシ
、 第3図は第1図の後部電極配列を示し、第4図は第1図
の前部電極配列を示し、第5.6.7図は第1〜4図の
装置に典型的なアドレス電圧を印加した時の説明図であ
る。 1・・・セ ル、2.3・・・ガラススライド、4・・
・スペーサー、5,6・・・偏光板、7・・・反射鏡、
8.9・・・電極、10・・・デジット、11・・・小
数点、12・・・液晶材料。 代理人弁聰士川  口  義  雄 図面の浄書(内容に変更なし) V’3VVV イギリス国ドーセット・プール ・ハムワースイ・フレッシュウ オーター・ドライヴ238 @発 明 者 ロパート・アンドリュー・スミス イギリス国ウスターシャー・マ ルヴアーン・ホウクラッド・ク ローズ27 ■出 願 人 ビーディーエイチ・ケミカルズ・リミテ
ッド イギリス国ドーセット・ビー・ エイチ124エヌ・エヌ・ブー ル・ブルーム・ロード(番地な し) 手i”j+’ン市rJ′:、f、l!”?許庁長官 志
賀 学 殿 1、事イ′1の表示   Ill i’(J 59年特
W[願第100357号2、発明の名称   2替換1
タン及びその液晶祠料、液晶装置、液晶祠斜の製造にa
3りる利用 3、補正をする者 事イ′1との関係  !lh訂出願人 名 称    イーYリス国 (1ffi /111名) 4、代 理 人   東京都新宿区新宿1丁口1番14
号 山田ビル5、補正命令の口f」   自 光 6、補正により増加する発明の数 7゜ 8、補正の内容 (1)願fB中、発明者3名の住所を別紙の通り補充す
る。 ■願書中、出願人(イギリス国)の代表者を別紙の通り
補充する。 (3)願書中、出願人(ビーディーエイヂ・ケミカルズ
・リミテッド)の住所及び 代表者を別紙の通り補充づる。 (4)正式図面を別紙の通り補充する。 (内容に変更なし) (5>委任状及び同訳文を別紙の通り補充する。 尚、同日付にて本願に関するり先権主張証明書差出書を
提出致しました。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)下記式 (式中、RはアルキルであLxは水素:QI  Qg 
        Qsにh 各R1は水素、アルキル、アルコキシ、ハロゲン。 シアンから選択され、各Q+ # Qg a Qs及び
    Q4は各各独立して水素とフッ素から選択さnる〕で表
    わさ扛る2置侠エメン。 (2)  ルが1乃至12個の炭素原子を待つn−アル
    キル基でめる籍肝請求の範囲第1項に記載のエタン。 の炭素原子を持つn−アルキル、1乃至12個の炭素原
    子?持つn−アルコキシ、シアン、フッ素。 塩素から選択さ扛る特許請求の範囲第2項に記載のエタ
    ン。 (4)特許請求の範囲第1項に1己載されている化学式
    に有するエタンの製造方法であって、(式中、Rは特許
    請求の範dg1項に記載のものと同義)の式を有する化
    合物の加水分解のステップを含んでいることt特数とす
    る前記製造方法。 を有するエタン。 するエタン。 C3Hv−nの式を有するエタン。 03山−nの式を有するエタン。 01H7−nの式を有するエタン。 αQ 少くとも1つが光学的に迭明である2つのe縁基
    板、基板間に挟持さnた液晶材料層、および印加されf
    c’**が液晶材料7m?r横切ることにニジ電気光学
    効果が得られるようにするための基板の内表面上の電極
    を具備する液晶装置でお9、液晶材料が特許請求の範囲
    第1項に記載の化合物(Xは水素ではない)會含んでい
    ること全特徴とする液晶装置。
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