JPS592230A - フロッピー磁気ディスク記録媒体の製造方法 - Google Patents

フロッピー磁気ディスク記録媒体の製造方法

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JPS592230A
JPS592230A JP57109528A JP10952882A JPS592230A JP S592230 A JPS592230 A JP S592230A JP 57109528 A JP57109528 A JP 57109528A JP 10952882 A JP10952882 A JP 10952882A JP S592230 A JPS592230 A JP S592230A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は信号の垂直磁化記録に適した実用性の高いフロ
ッピー磁気記録媒体に関する。
〔発明の技術的背景とその問題点〕
近時、磁気記録媒体面の垂直方向に残留磁化を形成して
高密度な信号記録を行う垂直磁化記録が注目されている
。この高密度な信号記録は、記録密度の増加に伴う記録
媒体内の減磁界の減少を利用して行われるもので、この
種の磁気記録媒体として、記録面に垂直な方向に磁化容
易軸を有するス・!ツタリング形成されfr−co−C
r系薄膜層が知られている。しかして垂直磁化記録用の
磁気記録媒体として、従来よりポリイミドやポリエステ
ル等の高分子フィルムを支持基板とし、その基板面に上
記Co−Cr系薄膜層を形成してなる磁気テープやフロ
ッピー磁気ディスクへの応用が考えられている。
ところで、この種の高分子フィルムの片面にCo−Cr
系薄膜層をスパッタリング形成した場合、上記薄膜層形
成面を凸とする非常に大きいフィにム・カールが生じる
。このフィルム−カールの大きさは上記スパッタリング
の際の基板温度と密接な関係があり、基板温度を低くす
れば上記フィルム・カールを低く抑えることができる。
然し乍ら、Co−Cr系スパッタ薄膜層における高出力
を得る為に必要な記録媒体面に垂直な方向の保磁力H1
−’ も上記基板温度に密接な関係があシ、基板温度を
低くして前記Co−Cr系薄膜層を形成すると、上記保
磁力HcLが著しく低下すると云う記録媒体にとって相
反する問題を有している。
そこで従来、高分子フィルム基板の両面にそれぞれCo
−Cr系薄膜層を形成し、これによって両面フロッピー
磁気ディスクを実現すると共に、一方の薄膜層によって
生じるフィルムカールを他方の薄膜層によって生じるフ
ィルムカールによって相殺せんとすることが考えられて
いる。
然し乍ら、実際上単に同じ厚みの薄膜層を高分子フィル
ム基板の両面に形成しただけでは、」二記フィルムカー
ルを効果的に相殺することができないことが本発明者ら
の実験により見出された。つまり、成る程度のフィルム
カールの抑圧効果が期待されるが、完全なフラットネス
(平坦性)を確保するには至らないと云うことが明らか
となった。このようなフラットネスの問題は垂直磁化記
録による高密度な信号記録において非常に大きな問題と
なシ、例えば僅かなフィルムカールであっても再生出力
の低下やエンベロープの劣化を招き、高密度信号記録の
妨げとなった。これ故、高密度な記録を可能とする為に
、前記フィルムカールをなくシ、そのフラットネスを確
保することがフロッピー磁気ディスク記録媒体を得る上
で最大の課題となっている。
〔発明の目的〕
本発明はこのような事情を考慮してなされたもので、そ
の目的とするところは、凧直磁化記録再生に適合する高
い保磁力を有し、しかも平坦性に優れた実用性の高いフ
ロッピー磁気ディスク記録媒体を提供することにある。
〔発明の概要〕
本発明は可撓性高分子基板の一面に最初に形成する第1
の磁気記録層の膜厚よりも上記基板の他面に次に形成す
る第2の磁気NC録層の膜厚を厚く、好ましくは2〜1
0チ厚くしたものである。
〔発明の効果〕
このように第2の磁気記録層の膜厚を増加すると、この
第2の磁気記録層形成によって生ずるフィルムカールが
大きくなり、第1の磁気記録層形成によって生ずるフィ
ルムカールを効果的にキャンセルすることができるよう
になる。
従って本発明によると磁気記録面の平坦性を十分高くす
ることができる。捷た本発明によれば、高分子基板の温
度を熱損傷を受けない程度に高くすることができるので
、垂直磁化記録に必要な十分高い保磁力を持たせて磁気
記録層を形成することができる。従って、本発明に係る
フロッピー磁気ディスク記録媒体によれば、磁気ヘッド
とのスペーシングを小さく且つ、一定に保つことができ
、その高い保磁力を利用して高密度な垂直磁化記録を行
い得る。またその構造も簡単であシ、製作も容易で安定
供給できるので実用性が高い等の効果を奏する。
〔発明の実施例〕
以下、図面を参照して本発明の実施例につき説明する。
第1図は実施例に係るフロッピー磁気ディスク記録媒体
の断面構造を示す模式図である。図中1はポリイミドや
ポリエステル等の可撓性高分子材料からなるフィルム基
板であって、このフィルム基板1の一面に第1の磁気h
C録層2がスパッタリング形成され、これに引続いて前
記フィルム基板1の他面に第2の磁気記録層3がスパッ
タリング形成されている。これらの第1および第2の磁
気記録層2,3は、フィルム基板J ic Co−Cr
 系薄Mをスノやツタリングすることによシ形成される
もので、第1の磁気記録層2は0.5〜1.0μmの厚
さに、また第2の磁気記録層3は上記第1の磁気記録層
2に比して2〜1゜チ厚く形成されている。
通常、スフ4ツタリングにょシ磁性膜を形成する場合、
大きなパワーが印加されるためフィルム基板1はそのま
までは非常に高温になp熱損傷を受ける。このため上記
第1、第2の磁気記録層2.3のスパッタリングはそれ
ぞれフィルム基板1を冷却しながら順次行われる。この
場合、冷却温度はフィルム基板1が熱損傷を受けない範
囲内で、できるだけ高い温度に保たれるように制御され
る。こうすることにより保磁力H−の高す磁気記録媒体
を得ることができる。
さて前述のように、本発明者らの種々の実験によると、
前記第1および第2の磁気記録層2゜3を同じ厚さにし
た場合、最初に形成した第1の磁気記録面2側が凸状に
、また第2の磁気記録面3側が凹状になることが実験的
に見出された。そこで、更に実験を進めたところ、第1
の磁気記録層2の厚さaに比して第2の磁気記録層3の
厚さを(δ+Δδ)と厚くしたときの厚みの増加量Δδ
あるいは磁気記録層の保磁力の大きさの違いによってフ
ィルムカール量との間に次のような関係が生じることが
見出された。
即ち、Δδの値が十分小さいとき、記録媒体は第2・図
に示すようにカールし、そのカール量を曲率ψで定義す
ると、曲率ψは ψ=1/R =ψ(Δδ/)、HeL) で示されるように、膜厚補正量Δδ/δと、保磁力Hc
−J−との関数となる。すなわちカール量は第2の磁気
記録層の膜厚と、保磁力に依存することがわかった。ま
た膜厚の補正を行わない場合、つまりΔδ=0の場合に
おける上記カール量の保磁力Ha”依存性について測定
したところ第3図に示す如き特性となシ、カール量ψ(
0、Hc’−)/ψ(0,1000)は保磁力H−が大
きくなるにしたがって大きくなることがわかった。同図
から保磁力a? として300θe(エルステッド)以
下のフロッピー磁気ディスク記録媒f*を得んとする場
合には、カール量が無視できる程度に小さいため膜厚補
正について考える必要がないが、上述したように垂直磁
化記録に適合して高密度な信号記録再生を行わんとする
場合に   1は、一般的に400〜1000θe程度
の高い保磁力H1=Lを確保することが必要であシ、従
ってこのような場合には上述したように膜厚補正を考慮
することが必要となってくる。そこでこのような高い保
磁力の範囲で膜厚補正量Δδ/δとカール量ψ(Δδ/
δ)/ψ(0)との関係を求めたところ第4図の如き関
係が得られることがわかった。すなわち第1の磁気記録
層2に対し2〜10%だけ第2の磁気記録層3の膜厚を
厚くすることにより、保磁力H詩が400〜1000θ
eの範囲で前述したカール量を零にすることができ、デ
ィスクのフラットネス性を確保することが可能となるこ
とがわかった。
つまシ、必要とする保磁力HC1に応じて膜厚補正量Δ
δを2チから10%に定めることにより、第1の磁気記
録層2を形成して生じたカールを、第2の磁気記録層3
の形成によって生じるカールにより相殺し、ここに殆ん
ど完全な平坦性を有するフロッピー磁気ディスク記録媒
体を得ることが可能となる。
かくして本発明によればフィルム基板1が熱損傷を受け
ない範囲でなるべく高い温度にして高い保磁力HoLを
有する第1および第2の磁気記録層2.3を形成し得る
と共に、第2の磁気記録層302〜10%の膜厚補正に
よって基板1に生じるカールを効果的に相殺し、その平
坦性を十分に高くすることができる。従って、磁気ヘッ
ドとの間のスペーシングを少なくシて、記録再生特性の
良好な高密度の垂直磁化記録が可能となる。しかも、こ
のような記録媒体を、例えばスパッタリング時間制御に
よる高精度な膜厚コントロール等によって簡易に且つ安
定に製作することができ、その実用的利点は極めて絶大
である。
尚、本発明は上記実施例にのみ限定されるものではない
。例えば第5図に示すように、フィルム基板1と磁気記
録層2,3との間にそれぞt’LFo−N1等の軟磁性
層4.5を配置した構造のフロッピ−磁気ディスク記録
媒体についても同様に適用できる。この場合、それらの
膜厚8人。
δBとその補正量ΔδA、ΔδBに対して、δ=δえ+
δ3 Δδ=Δδ9+ΔδB なる関係を満たすようにすればよい。以上要するに、本
発明はその要旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施す
ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示すフロ、ビー磁気ディス
ク記録媒体の断面構造を示す模式図、第2図は記録媒体
のカールを示す図、第3図は保磁力とカール量との関係
を示す図、第4図は磁気記録層の膜厚補正量とカール量
との関係を示す図、第5図は本発明の別の実施例を示す
図である。 1・・・可撓性高分子フィルム基板、2・・・第1の磁
気記録層、3・・・第2の磁気記録層、4,5・・・軟
磁性層

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)可撓性高分子基板と、この基板の一面に形成され
    た第1の磁気記録層と、この第1の磁気記録層を形成し
    てなる前記基板の他面に形成された上記第1の磁気記録
    層より膜厚の厚い第2の磁気記録層とを具備したこと′
    f:特徴とするフロッピー磁気fイスク記録媒体。
  2. (2)第1および第2の磁気記録層は、可撓性高分子基
    板面にスノや、タリング形成されるC0−Cr系薄膜層
    からなるものであって、第2の磁気記録層の膜厚は第1
    の磁気記録層の膜厚より2〜10%厚いものである特許
    請求の範囲第1項記載のフロッピー磁気ディスク記録媒
    体。
JP57109528A 1982-06-25 1982-06-25 フロッピー磁気ディスク記録媒体の製造方法 Granted JPS592230A (ja)

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