JPS59222838A - 欠陥修正装置 - Google Patents

欠陥修正装置

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JPS59222838A
JPS59222838A JP58097559A JP9755983A JPS59222838A JP S59222838 A JPS59222838 A JP S59222838A JP 58097559 A JP58097559 A JP 58097559A JP 9755983 A JP9755983 A JP 9755983A JP S59222838 A JPS59222838 A JP S59222838A
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JP
Japan
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light
pattern
correction
shielding
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JP58097559A
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JPH0466020B2 (ja
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Toyoji Nishimoto
西本 豊司
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Toppan Inc
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Toppan Printing Co Ltd
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C11/00Auxiliary processes in photography

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ーン群の欠陥を修正する装置に係わり、特に遮光すべき
パターンの一部または全部が光を透過する欠陥を有する
場合、その欠陥を修正する装置に関するものである。
従来、金属材の腐食加工等の露光工程で使用する写真原
版は透明フィルムまたはガラス板などの透光性基板上に
遮光性パターンを、ポジまたはネガの形態で形成したも
のであり、意図に反して、遮光すべき領域の一部の遮光
膜が形成されずに光を透過する欠陥が生じた場合は、使
用前に遮光性膜を該欠陥部亦に追加形成することにより
、欠陥の修正をおこなっていた。通常の修正方法(′!
.、修正者が遮光性パターンを拡大観察しつつ、墨を筆
先に付けて注意深く該当する欠陥部分を塗9つふすもの
である。しかし、上述の目視および手作業による修正に
おいては、修正者の熟練が不可欠である上、正確な修正
には概して長時間を要すること、また、長時間作業の疲
労による能率低下が避り゛られないこと等の問題点があ
る。しかも、近年、金属材の腐食加工の対象となるパタ
ーンの中で、精密なパターンに対する必要性がまずます
増加しており、それに伴って写真製版の欠陥修正の内容
も精密化し、困難に々る傾向がある。
本発明の目的は、従来の手作業による修正方法を改め、
少なくとも修正すべき部分を含むパターンの代表的位置
を自動的に計測し、欠陥について数値に基づく位置決め
を行なった後、あらかじめ設定した修正用ヘッドを用い
て修正する新規な装置を提供することにある。具体的に
は、カラーテレビ受e機用のシャドウマスクのように、
多数の同一形状の孤立パターンの繰り返しから成る金属
腐食板の製造に使用する写真原版の修正に上述の改良さ
れた修正装置を提供するものである。
本発明の特徴は、撮像装置による欠陥部分の拡大・計測
と修正用ヘッドによる正常形パターンの遮光膜形成とを
連結させ、高精度かつ容易に写真原版を修正できる装置
である。
すなわち、本発明の修正装置は、 a)写真原版を載置してX、Y方向およびZ方向に移動
する移動ステージ b)欠陥部分とその近傍を拡大してビデオ画像とする撮
像装置 C)  遮光性パターンの正常形と同一パターンを印写
できる修正ヘット d)前記撮像装置から入力された上記欠陥とその近傍の
遮光性パターン群の位置関係、または該欠陥を含む1個
のパターンの形状を開側して、上記欠陥の代表的位置を
算出する手段 e)算出された上記欠陥の代表的位置と前記修正用ヘッ
ドの印写位置とを合致させる手段f)修正用ヘッドを作
動させて正常形の遮光性パターンを形成させる手段 を備えてなることを特徴とする。
以下、本発明をシャドウマスク用写真原版の修正に適用
した場合を例として、図面に従って詳細に説明する。シ
ャドウマスク用写真原版(5)は第1図(a)、(1)
)に拡大して示すように、透光性基板(1)の片面に遮
光性パターン(2)が規則的に多数配置されており、ひ
とつの遮光性パターン(2)の一部が光を透過してしま
う欠陥(以下”欠け“と称する)(ロ)、または、一つ
の遮光性パターン(2)の全部が消失した欠陥(以下“
欠損“と称する)(4)が存在しがちである。
これら欠け(3)や欠損(4)の発見は、遮光性パター
ン(2)が規則的に配列していることもあって、目視検
査等で比較的容易に為しうる。例えば、透明フィルムに
基盤目状のラインを施した検査用シートを写真原版(5
)に重ね、−桝区画毎に拡大鏡で探すなどして容易に欠
陥を見い出すことができる。このような目視検査により
予め上述のシャドウマスク用写真原版(5)に存在する
欠陥の概略の位置を目印等を付しておき、続いて本発明
の修正装置にかけることになる。
第2図に従って、本発明の修正装置を説明するする拡大
レンズ(9)の直下近辺にくるように、写真原版(5)
を膜面を上にして、移動ステージ(6)十に載置固定す
る。欠陥の概略的な位置はあらかじめ目印等を付して知
れているので、欠陥部分を拡大して撮像装置(8)にと
らえることは容易である。移動ステージ(6)は、水平
方向(XSY方向)および垂直方向(Z方向)に移動で
きるよう、ステージ駆動装置(7)を三個備えるもので
あるが、図の実施例ではひとつに省略して示しである。
その他、写真原版(5)に対して透過照明(10)、反
射照明(I 11を設置し、両方の照明系を使えるよう
にしておく。対物レンズ(9)により拡大された像を撮
像装置(8)に入力し、2値化回路(12)を介して、
テレビ表示管(15)に表示する。
写真原版(5)は、本来、透光部分と遮光部分に明瞭に
区別できる2値化パターンであるが、撮像装置(8)か
らの出力は薄い汚れや光学系のシェーディング等が原因
による若干の濃度階調が加わり、アナログ信号と々って
いる。本発明では、その後の画像処理を容易にするため
、適当々しき与値により2値化して、デジタル画像処理
を適用する。
この表示画像を利用して、移動ステージ(6)を適当に
移動(X、YおよびZ方向)することにより、テレビ表
示管OFJの画面のほぼ中央に正しい焦点で欠け(3)
または欠損(4)とその周辺の遮光性パターン(2)を
表示することができる。2値化回路(12)からの信号
は中央演算処理装置(以下単にCP Uという)0滲に
も入力し、欠け(3)または欠損(4)の代表的位置を
計測算出する。この場合の代表的位置とは、いづれも欠
け(3)または欠損(4)の元と々る遮光性パターンの
中心位置に相当する。欠け(6)の代表的位置は、欠け
(3)が存在する孤立パターンの残りの形状を計測して
求めることも可能であるが、欠損(4)と同様に、正常
な周辺のパターンとの相互位置関係の計測に基づいて算
出しても良い。画面内で算出された欠陥の代表的位置に
、移動ステージ(6)上の位置を考慮して、適当な座標
系での欠陥の代表的位置を定義し直すととができる。
この点を、図面の第6図(al〜(l〕)を用いて、具
体例を述べると、第3図(alK示すように欠陥が欠け
(6)の状態にあり、しかも遮光性パターン(2+の完
全形状が充分に予測される程度の軽微な欠けである場合
には、移動ステー”&(6)を微動させてテレビμ・:
、、。
示管(15)の画面中央部に設けられたカーソル目盛(
画によって囲まれるエリアの中火に欠け(6)を移動さ
せる。欠け(6)を中央部に移動させた時点で、この位
置情報をCP U (141にインプットすれば、C1
,) IJ(+4Jにおいて、移動ステージ(6)の位
置を踏まえて、適当な座標系で欠陥の代表的位置を算出
するものである。
欠けC3)の代表的位置のより正確な算11暑ま、次の
方法でも可能である。
即ち、遮光性パターンの正常形が本例に示すような円形
の場合、欠け(ロ)の正常なエッヂのうち、任意の6点
を順次にカーソルエリアの中心点に移動して各点の位置
情報をCP U (Mlにインプットする。
CI) U (14+において円の中心点座標を算出L
、移動ステージ(6)の位置を踏まえて、適当々座標系
で欠陥の代表的位置を算出する。
欠陥が、欠損(4)の場合、あるいは欠けであっても欠
けの程度が大きいため遮光性パターンの完全形を予測で
きない場合には、第6図(blに示すような手段が汎用
性があり、便利である。すなわち、欠陥の種類がなんで
あっても同様であるが、欠損の場合について言えば、本
来的に遮光性)くターンが存在すべき場所に無いのが欠
損であるから、欠損の代表的位置を割り出すには、周辺
の遮光性ノくターンとの関係を用いる。第3図(1〕)
において、左右に隣接する遮光性パターンの最近接点A
、BKよって規定される線分の中点Cを求めればそれが
欠損パターンの代表的位置である。また、異なる角度で
隣近する遮光性パターンの最近接点11. Eのなす線
分DBと線分ABとの交点を求めろことにより、代表的
位置を算出することもできる。これらの手段は、遮光性
パターン群の配列の仕方によって当然異なってくるが、
いずれにしても配列に規則性がある以上、CPU04J
によって代表的位置を自動的に計測算出できる性質のも
のである。
上述の方法で求まった座標値を適宜、数字表示器(16
)に表示する。一方、修正用ヘッド(131を撮像装置
(8)から一定距離の位置に予め設置し−Cおき、欠陥
の代表的位置を移動ステージ(6)を作動させて該修正
用ヘッド(+3]K対応する位置に合わせろことにより
、該欠陥の代表的位置を該修正用ヘッド(13)の直下
に設定することができる。その後、該修正用ヘッド(1
3)を作動させて孤立パターンと同一の形状に遮光膜を
形成した後、該遮光膜を乾燥固化すれば、欠陥の修正が
完了する。ここで使用ずろ修正用ヘット責13)として
は、ヘッド先端に修正液吐出部を有し、該吐出部が孤立
した遮光性パターンの形状と同一のものを用いろ。修正
用ヘッドを欠陥の代表的位置の直上に設定し、ヘッドを
写真原版(5)の表面に達する迄下降した後、該吐出部
より修出液を吐出する。修正液として、熱硬化性樹脂ま
たは紫外線硬化性樹脂に遮光性を有する色素を含ませた
ものを使用する。これにより、形成された遮光膜を乾燥
・固化する前の除去・再修正が容易で、かつ、乾燥・固
化後の付着性が良好な遮光膜とすることができるので、
通常の水溶性の墨やインキによる遮光膜よりも望ましい
。修正用ヘッド03)には、その支持体に高精度で安定
して固定されることが修正位置の精度にとって重要であ
るが、上記吐出部をそれぞれの対応したパターンを有す
るものに取り替える場合は、高精度の維持が一般に困i
fLである。従って、実用にあたっては、修正用ヘッド
の位置を必要に応じてキーボード07)からCPU(1
4)に入力し、補正された座標値を数字表示器(I6)
に表示できるようにすると良い。
以上説明したごとく、本発明による写真原版の欠陥修正
装置によれば、従来の手作業による修正方法に比べて、
短時間に精密なパターンの修正を確実に行なう半自動化
が可能となる。特にシャドウマスク用写真原版のように
精密な孤立パターンが非常に多数個存在する場合には、
従来の手作業による修正方法が適用できる欠陥の程度お
よび個数の範囲は大変小さく、手作業による修正カー極
めて困難なために写真用原版を作り直す例が多かつた。
しかるに本発明の装置は、修正可能な写真用原版の範囲
を拡げることがてきるため、写真用原版製造工程におけ
る収率い向上に多大の効果をもブこ ら ず。
なお、本発明は完全に孤立した遮光性パターン群につい
て適用されるという印象を与えるが、本発明の装置自体
は孤立パターン以外にも容易にJ珀が可能である。その
場合は、遮光性パターンの欠陥部の代表的位置の定義を
該パターンに応じて設定し直せば良い。
さらに、本発明は欠陥の位置決めから修正完了までを中
央演算処理装置の制御により完全に自動化することが可
能である。上記完全自動化のためには、欠陥の検出と位
置決めおよび遮光膜の乾燥同化をすべて自動化するため
の個別の方法を組み合わせれば良い。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)〜(l〕)は写真原版の一例であるシャド
ウマスク用原版の欠陥例を示す部分拡大図であり、第2
図は本発明の欠陥修正装置の一実施例を示す概略説明図
であり、第6図(a)〜(blは欠陥の代表的位置を割
り出す際の様子を示す説明図である。 (1)・・・透光性基板、(21・・・遮光性パターン
、(3)・・・欠け、(4)・・欠損、(5)・・・写
真原版、(6)・・・移動ステージ、(7)・・・ステ
ージ駆動装置、(8)・・・撮像装置、(9)・・・拡
大レンズ、(10)・・・透過照明、(111,−・・
反射照明、(12)・・・2値化回路、(13)・・・
修正用ヘッド、04)・・・中央演算処理装置f (C
I) U ) 、 (+51・・・テレビ表示管、(1
6)・・・数字表示器、(17)・・・キーボード 特許出願人

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1,1透光性基板上に遮光性パターンが規則的に多数
    配列されてなる写真原版に存在する光透過性の欠陥を修
    正する装置において、 a)写真原版を載置してX、Y方向およびZ方向に移動
    する移動ステージ b)欠陥部分とその近傍を拡大してビデオ画像とする撮
    像装置 c)  遮光性パターンの正常形と同一パターンを印写
    できる修正ヘッド d)前記撮像装置から入力された上記欠陥とその近傍の
    遮光性パターン群との位置関係、または該欠陥を含む1
    個のパターンの形状を計測して、上記欠陥の代表的位置
    を算出する手段 e)算出された上記欠陥の代表的位置と前記修正ヘッド
    の印写位置とを合致させる手段f)修正用ヘッドを作動
    させて正常形の遮光性パターンを形成する手段 を備えてなることを特徴とする写真製版の欠陥修正装置
JP58097559A 1983-06-01 1983-06-01 欠陥修正装置 Granted JPS59222838A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58097559A JPS59222838A (ja) 1983-06-01 1983-06-01 欠陥修正装置

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JP58097559A JPS59222838A (ja) 1983-06-01 1983-06-01 欠陥修正装置

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JPS59222838A true JPS59222838A (ja) 1984-12-14
JPH0466020B2 JPH0466020B2 (ja) 1992-10-21

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ID=14195589

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JP58097559A Granted JPS59222838A (ja) 1983-06-01 1983-06-01 欠陥修正装置

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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56100414A (en) * 1980-01-14 1981-08-12 Mitsubishi Electric Corp Correcting device for pattern of photomask
JPS56128946A (en) * 1980-03-14 1981-10-08 Fujitsu Ltd Photomask correcting method
JPS57118246A (en) * 1981-01-14 1982-07-23 Hitachi Ltd Method and device for correcting white spot defect of photomask

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56100414A (en) * 1980-01-14 1981-08-12 Mitsubishi Electric Corp Correcting device for pattern of photomask
JPS56128946A (en) * 1980-03-14 1981-10-08 Fujitsu Ltd Photomask correcting method
JPS57118246A (en) * 1981-01-14 1982-07-23 Hitachi Ltd Method and device for correcting white spot defect of photomask

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JPH0466020B2 (ja) 1992-10-21

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