JP2993772B2 - カラーフィルタの共通欠陥検査方式 - Google Patents
カラーフィルタの共通欠陥検査方式Info
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- JP2993772B2 JP2993772B2 JP18464391A JP18464391A JP2993772B2 JP 2993772 B2 JP2993772 B2 JP 2993772B2 JP 18464391 A JP18464391 A JP 18464391A JP 18464391 A JP18464391 A JP 18464391A JP 2993772 B2 JP2993772 B2 JP 2993772B2
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- Optical Filters (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、撮像管或いは固体撮像
装置用の色分解フィルタ及び液晶表示装置用のカラーフ
ィルタを製造する工程において、カラーフィルタの共通
欠陥を検査する方式に関する。
装置用の色分解フィルタ及び液晶表示装置用のカラーフ
ィルタを製造する工程において、カラーフィルタの共通
欠陥を検査する方式に関する。
【０００２】
【従来の技術】先ず、図４によりカラーフィルタの製造
方法の１例について説明する。ガラス等の透明基板１上
に線幅６０μｍ、ピッチ２００μｍ程度のストライブ状
パターンからなるブラック遮光層２を形成する（Ａ）。
このブラック遮光層は設けなくてもよい。次に、ブラッ
ク遮光層２の上から、１色目、例えばレッドの着色用感
材を塗布した後、フォトマスクを配置し露光した後、現
像を行いレッドパターン層３を形成し（Ｂ）、２色目以
降は、例えば、グリーン、ブルーの着色用感材を塗布し
た後、フォトマスクを配置し露光した後、現像を行いグ
リーン、ブルーのパターン層４、５を形成する（Ｃ、
Ｄ）。次に、物理化学的保護、表面の整面化、平坦化を
目的として、カラーパターン層の上に保護膜層６を形成
する（Ｅ）。さらに、保護膜層６の上に透明電極層７を
形成して、カラーフィルタを製造する（Ｆ）。
方法の１例について説明する。ガラス等の透明基板１上
に線幅６０μｍ、ピッチ２００μｍ程度のストライブ状
パターンからなるブラック遮光層２を形成する（Ａ）。
このブラック遮光層は設けなくてもよい。次に、ブラッ
ク遮光層２の上から、１色目、例えばレッドの着色用感
材を塗布した後、フォトマスクを配置し露光した後、現
像を行いレッドパターン層３を形成し（Ｂ）、２色目以
降は、例えば、グリーン、ブルーの着色用感材を塗布し
た後、フォトマスクを配置し露光した後、現像を行いグ
リーン、ブルーのパターン層４、５を形成する（Ｃ、
Ｄ）。次に、物理化学的保護、表面の整面化、平坦化を
目的として、カラーパターン層の上に保護膜層６を形成
する（Ｅ）。さらに、保護膜層６の上に透明電極層７を
形成して、カラーフィルタを製造する（Ｆ）。
【０００３】上記カラーパターンの製造工程において
は、カラーパターンに欠陥があると、撮像した映像や表
示する映像の欠陥になり、カラーフィルタを使用した製
品が不良になってしまうため、カラーフィルタの製造途
中又は製造後に検査を行い、欠陥のあるカラーフィルタ
を除外しなければならない。ところで、カラーフィルタ
側の原因で欠陥が生じる場合には、欠陥を有するカラー
フィルタのみを除外すれば済むが、フォトマスク側の原
因で欠陥が生じる場合、例えば図５に示すように、フォ
トマスク９の透過孔にゴミ等の異物１０が付着している
場合には、この部分に対応する透明基板１上にカラーパ
ターン３が形成されず白欠陥部１１として残ることにな
り、この欠陥をカラーフィルタ製造後に発見すれば、こ
のフォトマスクで製造した全てのカラーフィルタを除外
しなければならない。このようなカラーフィルタの共通
欠陥の検査は、従来、数１０枚に１枚程度のサンプル検
査で、顕微鏡検査、照明を用いた目視検査によって行わ
れている。
は、カラーパターンに欠陥があると、撮像した映像や表
示する映像の欠陥になり、カラーフィルタを使用した製
品が不良になってしまうため、カラーフィルタの製造途
中又は製造後に検査を行い、欠陥のあるカラーフィルタ
を除外しなければならない。ところで、カラーフィルタ
側の原因で欠陥が生じる場合には、欠陥を有するカラー
フィルタのみを除外すれば済むが、フォトマスク側の原
因で欠陥が生じる場合、例えば図５に示すように、フォ
トマスク９の透過孔にゴミ等の異物１０が付着している
場合には、この部分に対応する透明基板１上にカラーパ
ターン３が形成されず白欠陥部１１として残ることにな
り、この欠陥をカラーフィルタ製造後に発見すれば、こ
のフォトマスクで製造した全てのカラーフィルタを除外
しなければならない。このようなカラーフィルタの共通
欠陥の検査は、従来、数１０枚に１枚程度のサンプル検
査で、顕微鏡検査、照明を用いた目視検査によって行わ
れている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記カラーフィルタに
おける共通欠陥を検査する上での課題は、カラーパター
ンの形成が数段階の露光及び着色層形成工程を経るため
に、フォトマスクの欠陥を早期に発見して正常なフォト
マスクと交換することである。特に、１色目のパターン
形成工程で発見できない場合にはそれまでの工程が全て
無駄になってしまうので、これを早期に発見することで
ある。しかしながら、図６で示すように、１色目及び２
色目のパターン３、４を形成した段階で、上記白欠陥部
１１が存在すると、これを目視で発見することは容易で
あるが、図７で示すように、１色目のパターン３を形成
した段階で白欠陥部１１が存在しても、周囲の白部分か
らの透過光の影響により白欠陥部１１を目視で発見する
ことは極めて困難であるという問題を有している。な
お、４′、５′は２色目及び３色目のパターンが形成さ
れる領域を示している。
おける共通欠陥を検査する上での課題は、カラーパター
ンの形成が数段階の露光及び着色層形成工程を経るため
に、フォトマスクの欠陥を早期に発見して正常なフォト
マスクと交換することである。特に、１色目のパターン
形成工程で発見できない場合にはそれまでの工程が全て
無駄になってしまうので、これを早期に発見することで
ある。しかしながら、図６で示すように、１色目及び２
色目のパターン３、４を形成した段階で、上記白欠陥部
１１が存在すると、これを目視で発見することは容易で
あるが、図７で示すように、１色目のパターン３を形成
した段階で白欠陥部１１が存在しても、周囲の白部分か
らの透過光の影響により白欠陥部１１を目視で発見する
ことは極めて困難であるという問題を有している。な
お、４′、５′は２色目及び３色目のパターンが形成さ
れる領域を示している。
【０００５】本発明は、上記問題を解決するものであっ
て、カラーパターン形成工程の早期に共通欠陥としての
白欠陥部を検出し、正常なフォトマスクと自動的に交換
することにより、歩留まりを向上させることができるカ
ラーフィルタの共通欠陥検査方式を提供することを目的
とする。
て、カラーパターン形成工程の早期に共通欠陥としての
白欠陥部を検出し、正常なフォトマスクと自動的に交換
することにより、歩留まりを向上させることができるカ
ラーフィルタの共通欠陥検査方式を提供することを目的
とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】そのために本発明のカラ
ーフィルタの共通欠陥検査方式は、塗布装置２１、露光
装置２２および現像装置２３を備え、透明基板１上にカ
ラーパターンを形成するカラーフィルタの製造工程にお
いて、前記露光装置２２内のフォトマスクを交換するマ
スク自動交換装置２６を設けると共に、前記現像装置２
３の後段に共通欠陥検査装置２４を配設し、該共通欠陥
検査装置２４において検査用フォトマスク２９によりカ
ラーパターンのみに光を照射させ、カラーパターンの白
欠陥部１１を光学的に検出し、白欠陥部１１が検出され
ると、この信号をマスク自動交換装置２６にフィードバ
ックし、露光装置２２内のフォトマスクを正常なマスク
と交換することを特徴とする。
ーフィルタの共通欠陥検査方式は、塗布装置２１、露光
装置２２および現像装置２３を備え、透明基板１上にカ
ラーパターンを形成するカラーフィルタの製造工程にお
いて、前記露光装置２２内のフォトマスクを交換するマ
スク自動交換装置２６を設けると共に、前記現像装置２
３の後段に共通欠陥検査装置２４を配設し、該共通欠陥
検査装置２４において検査用フォトマスク２９によりカ
ラーパターンのみに光を照射させ、カラーパターンの白
欠陥部１１を光学的に検出し、白欠陥部１１が検出され
ると、この信号をマスク自動交換装置２６にフィードバ
ックし、露光装置２２内のフォトマスクを正常なマスク
と交換することを特徴とする。
【０００７】なお、上記構成に付加した番号は、理解を
容易にするために図面と対比させるためのもので、これ
により本発明の構成が何ら限定されるものではない。
容易にするために図面と対比させるためのもので、これ
により本発明の構成が何ら限定されるものではない。
【０００８】
【作用】本発明においては、図１に示すように、塗布装
置２１において、透明基板上に１色目、例えばレッドの
着色用感材を塗布し、露光装置２２においてフォトマス
クを配置し露光した後、現像装置２３において現像を行
いレッドパターン層を形成し、次いで、共通欠陥検査装
置２４において後述する方法で白欠陥部があるか否か検
査して、白欠陥部がなければ基板収納装置２５に収納さ
れ、以下前記工程を繰り返し２色目以降の例えば、グリ
ーン、ブルーのパターン層を形成してゆく。共通欠陥検
査装置２４において白欠陥部が検出されると、この信号
をマスク自動交換装置２６にフィードバックし、露光装
置２２内のゴミの付着したフォトマスクを正常なマスク
と交換する。
置２１において、透明基板上に１色目、例えばレッドの
着色用感材を塗布し、露光装置２２においてフォトマス
クを配置し露光した後、現像装置２３において現像を行
いレッドパターン層を形成し、次いで、共通欠陥検査装
置２４において後述する方法で白欠陥部があるか否か検
査して、白欠陥部がなければ基板収納装置２５に収納さ
れ、以下前記工程を繰り返し２色目以降の例えば、グリ
ーン、ブルーのパターン層を形成してゆく。共通欠陥検
査装置２４において白欠陥部が検出されると、この信号
をマスク自動交換装置２６にフィードバックし、露光装
置２２内のゴミの付着したフォトマスクを正常なマスク
と交換する。
【０００９】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照しつつ説
明する。図１は本発明のカラーフィルタの共通欠陥検査
方式の１実施例を示す構成図、図２は本発明に係わる共
通欠陥検査装置の１実施例を示し、（Ａ）は模式的断面
図、（Ｂ）は基板の平面図、図３は検査フローを説明す
るための図である。
明する。図１は本発明のカラーフィルタの共通欠陥検査
方式の１実施例を示す構成図、図２は本発明に係わる共
通欠陥検査装置の１実施例を示し、（Ａ）は模式的断面
図、（Ｂ）は基板の平面図、図３は検査フローを説明す
るための図である。
【００１０】図１に示すように、塗布装置２１におい
て、透明基板上に１色目、例えばレッドの着色用感材を
塗布した後、露光装置２２においてフォトマスクを配置
し露光した後、現像装置２３において現像を行いレッド
パターン層を形成し、共通欠陥検査装置２４において後
述する方法で白欠陥部があるか否か検査した後、白欠陥
部がなければ基板収納装置２５に収納され、以下前記工
程を繰り返し２色目以降の例えば、グリーン、ブルーの
パターン層を形成してゆく。共通欠陥検査装置２４にお
いて白欠陥部が検出されると、この信号をマスク自動交
換装置２６にフィードバックし、露光装置２２内のゴミ
の付着したフォトマスクを正常なマスクと交換する。
て、透明基板上に１色目、例えばレッドの着色用感材を
塗布した後、露光装置２２においてフォトマスクを配置
し露光した後、現像装置２３において現像を行いレッド
パターン層を形成し、共通欠陥検査装置２４において後
述する方法で白欠陥部があるか否か検査した後、白欠陥
部がなければ基板収納装置２５に収納され、以下前記工
程を繰り返し２色目以降の例えば、グリーン、ブルーの
パターン層を形成してゆく。共通欠陥検査装置２４にお
いて白欠陥部が検出されると、この信号をマスク自動交
換装置２６にフィードバックし、露光装置２２内のゴミ
の付着したフォトマスクを正常なマスクと交換する。
【００１１】図２は前記共通欠陥検査装置の１実施例を
示し、光源２７、マスクフレーム２８上に載置される検
査用フォトマスク２９、検査用ステージ３０上に載置さ
れる基板１、ＣＣＤラインセンサ３１からなり、基板１
の周囲には基準ピン３２、プッシュピン３３が配置され
る。検査用フォトマスク２９は、検査すべきカラーパタ
ーンのみに光が照射するように位置決めされ、もし図５
で説明した白欠陥部１１があれば、光が基板１を透過す
ることになり、これをＣＣＤラインセンサ３１のスキャ
ンにより検出するものである。なお、ＣＣＤラインセン
サ３１の代わりに、基板１を透過した光をレンズで集光
させこれをシリコンフォトセルで電圧の変化として検出
するようにしてもよい。
示し、光源２７、マスクフレーム２８上に載置される検
査用フォトマスク２９、検査用ステージ３０上に載置さ
れる基板１、ＣＣＤラインセンサ３１からなり、基板１
の周囲には基準ピン３２、プッシュピン３３が配置され
る。検査用フォトマスク２９は、検査すべきカラーパタ
ーンのみに光が照射するように位置決めされ、もし図５
で説明した白欠陥部１１があれば、光が基板１を透過す
ることになり、これをＣＣＤラインセンサ３１のスキャ
ンにより検出するものである。なお、ＣＣＤラインセン
サ３１の代わりに、基板１を透過した光をレンズで集光
させこれをシリコンフォトセルで電圧の変化として検出
するようにしてもよい。
【００１２】図３は検査フローを示し、先ずステップ
において基板１を検査用ステージ３０に搬入し、ステッ
プにおいて、プッシュピン３３を駆動させ基板１を基
準ピン３２に押しつけて基板１のアライメントを行い、
ステップにおいて、検査用ステージ３０のバキューム
を行って基板１を固定し、ステップにおいて検査用ス
テージ３０を上昇させ、ステップにおいて、検査用フ
ォトマスク２９と基板との間のギャップを調整した後、
ステップにおいて前記した検査がおこなわれる。前記
フローは、各カラーパターンの現像の後に繰り返して行
われるもので、検査用フォトマスク２９は、検査すべき
カラーパターンのみに光が照射するように移動される。
において基板１を検査用ステージ３０に搬入し、ステッ
プにおいて、プッシュピン３３を駆動させ基板１を基
準ピン３２に押しつけて基板１のアライメントを行い、
ステップにおいて、検査用ステージ３０のバキューム
を行って基板１を固定し、ステップにおいて検査用ス
テージ３０を上昇させ、ステップにおいて、検査用フ
ォトマスク２９と基板との間のギャップを調整した後、
ステップにおいて前記した検査がおこなわれる。前記
フローは、各カラーパターンの現像の後に繰り返して行
われるもので、検査用フォトマスク２９は、検査すべき
カラーパターンのみに光が照射するように移動される。
【００１３】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、塗
布装置、露光装置および現像装置を備え、透明基板上に
カラーパターンを形成するカラーフィルタの製造工程に
おいて、前記露光装置内のフォトマスクを交換するマス
ク自動交換装置を設けると共に、前記現像装置の後段に
共通欠陥検査装置を配設し、該共通欠陥検査装置におい
て検査用フォトマスクによりカラーパターンのみに光を
照射させ、カラーパターンの白欠陥部を光学的に検出
し、該白欠陥部が検出されると、この信号をマスク自動
交換装置にフィードバックし、前記露光装置内のフォト
マスクを正常なマスクと交換するようにするため、カラ
ーパターン形成工程の早期に共通欠陥としての白欠陥部
を検出し、正常なフォトマスクと自動的に交換すること
により、歩留まりを向上させることができる。
布装置、露光装置および現像装置を備え、透明基板上に
カラーパターンを形成するカラーフィルタの製造工程に
おいて、前記露光装置内のフォトマスクを交換するマス
ク自動交換装置を設けると共に、前記現像装置の後段に
共通欠陥検査装置を配設し、該共通欠陥検査装置におい
て検査用フォトマスクによりカラーパターンのみに光を
照射させ、カラーパターンの白欠陥部を光学的に検出
し、該白欠陥部が検出されると、この信号をマスク自動
交換装置にフィードバックし、前記露光装置内のフォト
マスクを正常なマスクと交換するようにするため、カラ
ーパターン形成工程の早期に共通欠陥としての白欠陥部
を検出し、正常なフォトマスクと自動的に交換すること
により、歩留まりを向上させることができる。
【図１】本発明のカラーフィルタの共通欠陥検査方式の
１実施例を示す構成図
１実施例を示す構成図
【図２】本発明に係わる共通欠陥検査装置の１実施例を
示し、（Ａ）は模式的断面図、（Ｂ）は基板の平面図
示し、（Ａ）は模式的断面図、（Ｂ）は基板の平面図
【図３】検査フローを説明するための図
【図４】カラーフィルタの製造方法を説明するための拡
大断面図
大断面図
【図５】白欠陥部を説明するための断面図
【図６】発明の課題を説明するための平面図
【図７】発明の課題を説明するための平面図
１…透明基板、３…カラーパターン、１１…白欠陥部、
２１…塗布装置、２２…露光装置、２３…現像装置、２
４…共通欠陥検査装置、２６…マスク自動交換装置、２
９…検査用フォトマスク。
２１…塗布装置、２２…露光装置、２３…現像装置、２
４…共通欠陥検査装置、２６…マスク自動交換装置、２
９…検査用フォトマスク。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平５−26644（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−129844（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G01B 11/00 - 11/30
Claims (1)
- 【請求項１】塗布装置、露光装置および現像装置を備
え、透明基板上にカラーパターンを形成するカラーフィ
ルタの製造工程において、前記露光装置内のフォトマス
クを交換するマスク自動交換装置を設けると共に、前記
現像装置の後段に共通欠陥検査装置を配設し、該共通欠
陥検査装置において検査用フォトマスクによりカラーパ
ターンのみに光を照射させ、カラーパターンの白欠陥部
を光学的に検出し、該白欠陥部が検出されると、この信
号をマスク自動交換装置にフィードバックし、前記露光
装置内のフォトマスクを正常なマスクと交換することを
特徴とするカラーフィルタの共通欠陥検査方式。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18464391A JP2993772B2 (ja) | 1991-07-24 | 1991-07-24 | カラーフィルタの共通欠陥検査方式 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18464391A JP2993772B2 (ja) | 1991-07-24 | 1991-07-24 | カラーフィルタの共通欠陥検査方式 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0526642A JPH0526642A (ja) | 1993-02-02 |
| JP2993772B2 true JP2993772B2 (ja) | 1999-12-27 |
Family
ID=16156825
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18464391A Expired - Lifetime JP2993772B2 (ja) | 1991-07-24 | 1991-07-24 | カラーフィルタの共通欠陥検査方式 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2993772B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6080044A (ja) * | 1983-10-07 | 1985-05-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 換気装置 |
| JP4515739B2 (ja) * | 2003-09-30 | 2010-08-04 | 大日本印刷株式会社 | カラーフィルタの製造方法 |
| EP1774620B1 (en) | 2004-06-23 | 2014-10-01 | Peregrine Semiconductor Corporation | Integrated rf front end |
| US7890891B2 (en) | 2005-07-11 | 2011-02-15 | Peregrine Semiconductor Corporation | Method and apparatus improving gate oxide reliability by controlling accumulated charge |
-
1991
- 1991-07-24 JP JP18464391A patent/JP2993772B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0526642A (ja) | 1993-02-02 |
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