JPS59219304A - 耐久性に優れる導電皮膜形成性エマルジヨン - Google Patents
耐久性に優れる導電皮膜形成性エマルジヨンInfo
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- JPS59219304A JPS59219304A JP9538983A JP9538983A JPS59219304A JP S59219304 A JPS59219304 A JP S59219304A JP 9538983 A JP9538983 A JP 9538983A JP 9538983 A JP9538983 A JP 9538983A JP S59219304 A JPS59219304 A JP S59219304A
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- emulsion
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は耐久性に優れる導電皮膜形成性エマルジョンに
関する。
関する。
近年の電子産業の発達に伴い、半導体素子も急速に進歩
しプラスチック化も進んできたが、それとともに静電気
帯電による半導体素子の破壊等の種々の問題も以前にも
均してクローズアップされ、様々な帯電防止剤が上布さ
れてきた。
しプラスチック化も進んできたが、それとともに静電気
帯電による半導体素子の破壊等の種々の問題も以前にも
均してクローズアップされ、様々な帯電防止剤が上布さ
れてきた。
これらの帯電防止剤のうち塗布クイズの帯電防止剤とし
ては■界面活性剤、■カーボン系粒子や金属系粒子を含
有した導電塗料が一般的である。
ては■界面活性剤、■カーボン系粒子や金属系粒子を含
有した導電塗料が一般的である。
また電解質ポリマーを利用することも各種の記録紙から
始って種々適用されている。
始って種々適用されている。
しかしながら、これらの帯電防止剤や低抵抗処理剤は耐
久性に欠けたり、黒色もしくは不透明塗膜を形成する等
の欠点がある。
久性に欠けたり、黒色もしくは不透明塗膜を形成する等
の欠点がある。
すなわち、界面活性剤はその塗工によυ導電性の単分子
膜を形成するが、長期間の使用中に揮発したυ、摩擦に
よシ簡単に脱離し、更には水や溶剤類によυ流出し、そ
の導電性能が低下もしくは消滅するという欠点を有して
いる。また前記■り導電性塗料はカーボン系粒子や金属
系粒子を高分子物質中に混入せしめた複合体であり、比
較的に耐久性能を有するが、透明性に欠は透視機能を果
せないばかシでなく被塗工材の外観を損ねたシ、印刷が
できない等の欠点を有している。更には、高分子′を解
質を商分子物貝中に尋人してエマルジョン塗料とする技
術の提案(特公昭57=22041号公@参照)がなさ
れておシ、この技術による塗1膜は、透明性が改良され
耐久性に於ても前記従来技術の■のものよシ向上が認め
られるが、まだ充分でなく実用に供し得ないものである
。
膜を形成するが、長期間の使用中に揮発したυ、摩擦に
よシ簡単に脱離し、更には水や溶剤類によυ流出し、そ
の導電性能が低下もしくは消滅するという欠点を有して
いる。また前記■り導電性塗料はカーボン系粒子や金属
系粒子を高分子物質中に混入せしめた複合体であり、比
較的に耐久性能を有するが、透明性に欠は透視機能を果
せないばかシでなく被塗工材の外観を損ねたシ、印刷が
できない等の欠点を有している。更には、高分子′を解
質を商分子物貝中に尋人してエマルジョン塗料とする技
術の提案(特公昭57=22041号公@参照)がなさ
れておシ、この技術による塗1膜は、透明性が改良され
耐久性に於ても前記従来技術の■のものよシ向上が認め
られるが、まだ充分でなく実用に供し得ないものである
。
本発明は、これら従来の欠点を解消し、導電性、透明性
、耐久性に優れた自己架橋性もしくは外部架橋可能な導
電皮膜形成性エマルジyンを提供するものである。
、耐久性に優れた自己架橋性もしくは外部架橋可能な導
電皮膜形成性エマルジyンを提供するものである。
すなわち、本発明の耐久性に優れる導電皮膜形成性エマ
ルジ目ンは、エチレン性不飽和基を有するイオン性電解
質モノマーと架橋可能な官能基とエチレン性不飽和基と
を併せもつ1株以上のモノマーとエチレン性不飽和基を
持つ1種以上の七ツマ−を乳化重合してなるものである
。
ルジ目ンは、エチレン性不飽和基を有するイオン性電解
質モノマーと架橋可能な官能基とエチレン性不飽和基と
を併せもつ1株以上のモノマーとエチレン性不飽和基を
持つ1種以上の七ツマ−を乳化重合してなるものである
。
本発明に使用するイオン性電解質モノマーとしては、ア
ニオン性、カチオン性の電解質基とエチレン性不飽和基
を併せもつものでおればいずれのものでも使用できる。
ニオン性、カチオン性の電解質基とエチレン性不飽和基
を併せもつものでおればいずれのものでも使用できる。
その代表的なものを掲げれば、スチレンスルホン酸ナト
リウム、メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモ
ニウムクロライド、2−ヒドロキシ−3−メタクリロイ
ルオキシグロビルトリメチルアンモニウムクロツイドな
どがあシ、スルホン酸基、4級アンモニウム基、スルホ
ニウム基、ホスホニウム基などの塩を持つエチレン性不
飽牙ロモノマーの全てを使用することができる。そして
、この電解質モノマーは、使用する全モノマーに占める
割合を5〜30%の範囲で使用することが好ましい。5
%以下の使用量では目的とする導電性が十分に発揮でき
ず、また30チ以上用いても導電性は平衡に達してしま
い、4亀性をより向上させることはできない。
リウム、メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモ
ニウムクロライド、2−ヒドロキシ−3−メタクリロイ
ルオキシグロビルトリメチルアンモニウムクロツイドな
どがあシ、スルホン酸基、4級アンモニウム基、スルホ
ニウム基、ホスホニウム基などの塩を持つエチレン性不
飽牙ロモノマーの全てを使用することができる。そして
、この電解質モノマーは、使用する全モノマーに占める
割合を5〜30%の範囲で使用することが好ましい。5
%以下の使用量では目的とする導電性が十分に発揮でき
ず、また30チ以上用いても導電性は平衡に達してしま
い、4亀性をより向上させることはできない。
架橋反応可能な官能基としては、N−メチロール基、ア
ルコキシメチル基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、
グリシジル基、アミド基などが掲げられる。架橋反応可
能な官能基とエチレン性不飽和基を併せ持つモノマーの
代表的なものとしてはN−メチロールあるいはアルコキ
シメチル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリル酸
、イタコン酸、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレ
ート、2−ヒドロキシグロビルアクリレート、ジメチル
アミノ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート
、グリシジル(メタ)アクリレート(メタ)アクリルア
ミドなどがある。エチレン性不飽和基を有するイオン性
電解質モノマーと架橋反応可能な官能基とエチレン性不
飽和基とを併せもつ1種以上のモノマーとエチレン性不
飽和基を持つ1種以上のモノマーを重合させたポリマー
は自己架橋あるいは外部架橋が可能であシ、架橋をさせ
ることによシ耐久性に優れた導電皮膜を形成できる。自
己架橋を促進させるために活性水素含有重合性モノマー
を組合せて使用することもできる。例えは、N−メチロ
ールアクリルアミドはそれ自身で自己架橋するため、単
独で使用しても良いがアクリル酸と組合せて使用しても
良い。イオン性電解質モノマーの中でヒドロキシル基を
持つものもこれらの官能性モノマーの1種とも考えるこ
とが出来、エチレン性不飽和基だけを持つイオン性電解
質モノマーよシも有用である。官能性モノマーのうち活
性水素とエチレン性不飽和基とを併せ持つモノマーとエ
チレン性不飽和基を有するイオン性電解質モノマーを使
用して重合させたポリマーはポリインシアネート、メラ
ミン−ホルマリン系や尿累−ホルマリン系熱硬化性初期
重合物などによシ外部架橋可能であり、外部架橋させる
ことにより耐久性に優れた導電皮膜を形成できる。
ルコキシメチル基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、
グリシジル基、アミド基などが掲げられる。架橋反応可
能な官能基とエチレン性不飽和基を併せ持つモノマーの
代表的なものとしてはN−メチロールあるいはアルコキ
シメチル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリル酸
、イタコン酸、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレ
ート、2−ヒドロキシグロビルアクリレート、ジメチル
アミノ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート
、グリシジル(メタ)アクリレート(メタ)アクリルア
ミドなどがある。エチレン性不飽和基を有するイオン性
電解質モノマーと架橋反応可能な官能基とエチレン性不
飽和基とを併せもつ1種以上のモノマーとエチレン性不
飽和基を持つ1種以上のモノマーを重合させたポリマー
は自己架橋あるいは外部架橋が可能であシ、架橋をさせ
ることによシ耐久性に優れた導電皮膜を形成できる。自
己架橋を促進させるために活性水素含有重合性モノマー
を組合せて使用することもできる。例えは、N−メチロ
ールアクリルアミドはそれ自身で自己架橋するため、単
独で使用しても良いがアクリル酸と組合せて使用しても
良い。イオン性電解質モノマーの中でヒドロキシル基を
持つものもこれらの官能性モノマーの1種とも考えるこ
とが出来、エチレン性不飽和基だけを持つイオン性電解
質モノマーよシも有用である。官能性モノマーのうち活
性水素とエチレン性不飽和基とを併せ持つモノマーとエ
チレン性不飽和基を有するイオン性電解質モノマーを使
用して重合させたポリマーはポリインシアネート、メラ
ミン−ホルマリン系や尿累−ホルマリン系熱硬化性初期
重合物などによシ外部架橋可能であり、外部架橋させる
ことにより耐久性に優れた導電皮膜を形成できる。
ポリイソシアネートとしてはすべてのポリイソシアネー
トが使用できるが、水溶性あるいは水分散性ポリイソシ
アネートの方がより有用で必る。
トが使用できるが、水溶性あるいは水分散性ポリイソシ
アネートの方がより有用で必る。
またこれらにはブロックトインシアネート(マスクドイ
ソシアネート)も含まれる。
ソシアネート)も含まれる。
乳化重合に主体的に使用される重合性・モノマーはエチ
レン性不飽和基を持つものなら何れも使用することがで
き、その代表的なものとしては、酢酸ビニノペスチレ/
、アクリル酸アルキル、メタクリル酸アルキル、エチレ
ン、グロビレン、塩化ビニル、アクリロニトリルなどが
あけられる。また、架橋反応可能な官能基とエチレン性
不飽オロ基とを有する七ツマ−も重合性モノマーとして
使用することができることはいうまでもない。
レン性不飽和基を持つものなら何れも使用することがで
き、その代表的なものとしては、酢酸ビニノペスチレ/
、アクリル酸アルキル、メタクリル酸アルキル、エチレ
ン、グロビレン、塩化ビニル、アクリロニトリルなどが
あけられる。また、架橋反応可能な官能基とエチレン性
不飽オロ基とを有する七ツマ−も重合性モノマーとして
使用することができることはいうまでもない。
本発明組成物による塗工皮膜は、導電性付与物をポリマ
ーの分子鎖中に共重合させ、更にはこのポリマーを架橋
させて、よυ強固な導電性の高分子皮膜を形成して、耐
水性、耐アルコール性耐摩耗性などの耐久性に優れる皮
膜とすることができた。
ーの分子鎖中に共重合させ、更にはこのポリマーを架橋
させて、よυ強固な導電性の高分子皮膜を形成して、耐
水性、耐アルコール性耐摩耗性などの耐久性に優れる皮
膜とすることができた。
次に本発明を実施例および比較例によって具体的に説明
する。
する。
実施例 1
還流冷却器、温度計、攪拌機、滴下ロート、窒素導入管
を装備した重合槽に水500部(重量部。
を装備した重合槽に水500部(重量部。
以下同様)、2ウリルトリメチルアンモニウムクロライ
ド10部、ポリオキンエチレンノニルフェノールエーテ
ル10部、2−ヒドロキシ−3−メタクリロイルオキシ
ゾロピルトリメチルアンモニウムクロライド74部(5
0%水溶液)、N−メチロールアクリルアミド8部を加
え、さらにスチレン80部、アクリル酸n−ブチル27
部、アクリル酸8部からなる混合モノマーの15部、2
,2′−アゾビス(2−アミジノプロパン)ハイドロク
ロ2イド0,6部を加え、窒素を導入しながら攪拌、加
熱し、80℃で30分間初期重合を行う。さらに液温を
80℃に沫ちながら、2.2−アゾビス(2−アミジノ
プロパン)ノ1イドロクロライドの5チ水溶液5部及び
混合モノマーの残り100部を1時間40分で滴下して
乳化重合を行った。滴下終了後さらに80℃で1時間攪
拌を続けた後室温まで冷却して導電皮膜形成性エマルジ
ョンを得た。
ド10部、ポリオキンエチレンノニルフェノールエーテ
ル10部、2−ヒドロキシ−3−メタクリロイルオキシ
ゾロピルトリメチルアンモニウムクロライド74部(5
0%水溶液)、N−メチロールアクリルアミド8部を加
え、さらにスチレン80部、アクリル酸n−ブチル27
部、アクリル酸8部からなる混合モノマーの15部、2
,2′−アゾビス(2−アミジノプロパン)ハイドロク
ロ2イド0,6部を加え、窒素を導入しながら攪拌、加
熱し、80℃で30分間初期重合を行う。さらに液温を
80℃に沫ちながら、2.2−アゾビス(2−アミジノ
プロパン)ノ1イドロクロライドの5チ水溶液5部及び
混合モノマーの残り100部を1時間40分で滴下して
乳化重合を行った。滴下終了後さらに80℃で1時間攪
拌を続けた後室温まで冷却して導電皮膜形成性エマルジ
ョンを得た。
得うれたエマルジョンは濃度24.91粘度760F、
XPH2,+7であった。
XPH2,+7であった。
実施例 2
イオン性成解質モノマーとして、メタクリロイルオキシ
エチルトリメチルアンモニウムクロライド46部(80
%水溶液)を使用したほかは全て実施例1と同様に乳化
重合を行い、導電皮膜形成性エマルジョンを得た。得ら
れたエマルジョンは濃度25.9qb、粘度850P、
PH2,9であった。
エチルトリメチルアンモニウムクロライド46部(80
%水溶液)を使用したほかは全て実施例1と同様に乳化
重合を行い、導電皮膜形成性エマルジョンを得た。得ら
れたエマルジョンは濃度25.9qb、粘度850P、
PH2,9であった。
実施例 3
実施例1と同様の重合槽に水500部、ラウリルトリメ
チルアンモニウムクロライド10部、ポリオキシエチレ
ンノニルフェノールエーテル10部、2−ヒドロキシ−
3−メタクリロイルオキシゾロピルトリメチルアンモニ
ウムクロライド74部を加え、さらにスチレン80部、
アクリル酸n−ブチル27部、2−ヒドロキシエチルア
クリレート8部、アクリル酸8部からなる混合モノマー
の23部、2.2’−アゾビス(2−アミジノプロパン
)ハイドロクロライド0,6部を加え、以下実施例1と
同様に乳化重合を行い導電皮膜形成性エマルジョンを得
た。得られたエマルジョンは濃度24.9%、粘度49
C!PX PH2,6であった。
チルアンモニウムクロライド10部、ポリオキシエチレ
ンノニルフェノールエーテル10部、2−ヒドロキシ−
3−メタクリロイルオキシゾロピルトリメチルアンモニ
ウムクロライド74部を加え、さらにスチレン80部、
アクリル酸n−ブチル27部、2−ヒドロキシエチルア
クリレート8部、アクリル酸8部からなる混合モノマー
の23部、2.2’−アゾビス(2−アミジノプロパン
)ハイドロクロライド0,6部を加え、以下実施例1と
同様に乳化重合を行い導電皮膜形成性エマルジョンを得
た。得られたエマルジョンは濃度24.9%、粘度49
C!PX PH2,6であった。
比較例 l
実施例1と同様の重合槽に水500部、ラウリルトリメ
チルアンモニウムクロライド8部、ポリオキシエチレン
ノニルフェノールエーテル8部、ケミスタツ)6300
(三洋化成工業株式会社製カチオン性高分子電解質3
0%水溶液)’123部を加え、さらにスチレン88部
、アクリル酸n −ブチル2′7部、アクリル酸8部か
らなる混合モノマーの23部、2,2′−アゾビス(2
−アミジノプロパン)ハイドロクロライド0.23部を
加えて窒素を導入しながら攪拌、加熱し、80’Cで3
0分間初期重合を行い、液温を80℃に保ちながら、2
.2′−アゾビス(2−アミジノプロパン)ハイドロク
ロライドの5%水溶液5部及び混合上ツマ−の残#)1
00部を1時間40分で滴下して乳化重合を行った。滴
下終了後さらに80℃で1時間攪拌を続けた後室温まで
冷却して導電皮膜形成性エマルジョンを得た。得られた
エマルジョンは濃度22.9チ、粘度’740F、、P
E(3,3であった。
チルアンモニウムクロライド8部、ポリオキシエチレン
ノニルフェノールエーテル8部、ケミスタツ)6300
(三洋化成工業株式会社製カチオン性高分子電解質3
0%水溶液)’123部を加え、さらにスチレン88部
、アクリル酸n −ブチル2′7部、アクリル酸8部か
らなる混合モノマーの23部、2,2′−アゾビス(2
−アミジノプロパン)ハイドロクロライド0.23部を
加えて窒素を導入しながら攪拌、加熱し、80’Cで3
0分間初期重合を行い、液温を80℃に保ちながら、2
.2′−アゾビス(2−アミジノプロパン)ハイドロク
ロライドの5%水溶液5部及び混合上ツマ−の残#)1
00部を1時間40分で滴下して乳化重合を行った。滴
下終了後さらに80℃で1時間攪拌を続けた後室温まで
冷却して導電皮膜形成性エマルジョンを得た。得られた
エマルジョンは濃度22.9チ、粘度’740F、、P
E(3,3であった。
比較例 2
実施例1と同様の重合槽に水500部、ラウリルトリメ
チルアンモニウムクロライド8部、ポリオキシエチレン
ノニルフェノールエ−f A/8 部、ケミスタット6
300 123部、N−メチロールアクリルアミド8部
を加え、さらにスチレン80部、アクリル酸n−ブチル
27部、アクリル酸8部からなる混合上ツマ−の15部
、2.2′−アゾビス(2−アミジノプロパン)ハイド
ロクロライド0.23部を加え、以下比較例1と同様に
乳化重合を行い導電皮膜形成性エマルジョンを得た。得
られたエマルジョンは濃度22,9%、粘1850F。
チルアンモニウムクロライド8部、ポリオキシエチレン
ノニルフェノールエ−f A/8 部、ケミスタット6
300 123部、N−メチロールアクリルアミド8部
を加え、さらにスチレン80部、アクリル酸n−ブチル
27部、アクリル酸8部からなる混合上ツマ−の15部
、2.2′−アゾビス(2−アミジノプロパン)ハイド
ロクロライド0.23部を加え、以下比較例1と同様に
乳化重合を行い導電皮膜形成性エマルジョンを得た。得
られたエマルジョンは濃度22,9%、粘1850F。
P H3,4であった。
比較例 3
混合モノマーとしてスチレン88s1アクリル酸n−ブ
チル19部、2−ヒドロキシエチルアクリレート8ff
15、アクリル酸8部を使用したほかは比較例1と同様
に乳化重合を行い、導電皮膜形成性エマルジョンを得た
。得られたエマルジョンは濃度22.9チ、粘度120
0P、PH2,5でめった。
チル19部、2−ヒドロキシエチルアクリレート8ff
15、アクリル酸8部を使用したほかは比較例1と同様
に乳化重合を行い、導電皮膜形成性エマルジョンを得た
。得られたエマルジョンは濃度22.9チ、粘度120
0P、PH2,5でめった。
比較ψす4
実施例1と同様の重合槽に水500部、ラウリルトリメ
チルアンモニウムクロライド10部、ポリオキシエチレ
ンノニルフェノールエーテル1゜部、2−ヒドロキシ−
3−メククリロイルオキシプロビルトリメチルアンモニ
ウムクロライド74部を加え、さらにスチレン88部、
アクリル酸n−グチル27部、アクリル酸8部からなる
混合モノマーの23部、2,2′−アゾビス(2−アミ
ジノプロパン)ハイドロクロライド0.23部を加え、
以下比較例1と同様に乳化重合を行い導電皮膜形成aエ
マルジョンを得た。得られたエマルジョンは濃度24.
9%、粘度450P、PH2,8であった。
チルアンモニウムクロライド10部、ポリオキシエチレ
ンノニルフェノールエーテル1゜部、2−ヒドロキシ−
3−メククリロイルオキシプロビルトリメチルアンモニ
ウムクロライド74部を加え、さらにスチレン88部、
アクリル酸n−グチル27部、アクリル酸8部からなる
混合モノマーの23部、2,2′−アゾビス(2−アミ
ジノプロパン)ハイドロクロライド0.23部を加え、
以下比較例1と同様に乳化重合を行い導電皮膜形成aエ
マルジョンを得た。得られたエマルジョンは濃度24.
9%、粘度450P、PH2,8であった。
比較例 5
電解質モノマーとして、メタクリロイルオキ/エチルト
リメチルアンモニウムクロライド46部を使用したほか
は全て比較例4と同様に乳化重合を行い、導電皮膜形成
性エマルジョンを得た。得うレタエマルジ四ンは濃度2
5.9%、粘度46CP1PH2,8であった。
リメチルアンモニウムクロライド46部を使用したほか
は全て比較例4と同様に乳化重合を行い、導電皮膜形成
性エマルジョンを得た。得うレタエマルジ四ンは濃度2
5.9%、粘度46CP1PH2,8であった。
〈試験及び結果〉
実施例1〜3、比較例1〜5によシ得られたエマルジョ
ンをそれぞれ濃度10チに希釈しく但し、実施例3と比
較例3によシ得られたエマルジョンの場合には、NCO
チ20.191+の水分散性ポリイソシアネートをイン
デックス110となるように強力攪拌しながら添加する
)、厚味80μのポリエステルフィルムに塗工しく塗工
厚約3μm)、いずれも80℃で5分間加熱乾燥後15
0℃で5分間熱処理して導電皮膜を得た。得られた導電
皮膜につき以下の試験を行った。結果は表に示す。
ンをそれぞれ濃度10チに希釈しく但し、実施例3と比
較例3によシ得られたエマルジョンの場合には、NCO
チ20.191+の水分散性ポリイソシアネートをイン
デックス110となるように強力攪拌しながら添加する
)、厚味80μのポリエステルフィルムに塗工しく塗工
厚約3μm)、いずれも80℃で5分間加熱乾燥後15
0℃で5分間熱処理して導電皮膜を得た。得られた導電
皮膜につき以下の試験を行った。結果は表に示す。
(1)密 着 性;ごばん目試験による。
(2)耐摩耗性;ナイロン布で100回とすシ、外観及
び電気抵抗値を測定 (3)硬 度:鉛筆硬度(三菱ユニ使用)をもって
測定 (4)耐 水 性;水中に24時間浸漬し、浸漬後の外
観及び電気抵抗値を測定 (5)耐アルコー;メタノール中に24時間浸漬し、ル
性 浸漬後の外観及び電気抵抗値を測定 (6)表面電気抵;東京電子株式会社製5TACK T
R抗値 −3を使用 評 価 二 〇は良好 Δはやや不良 ×は不良 伺(6)の電気抵抗値の測定は湿度を調節した密閉容器
中に1時間以上放置後そのままの条件下で行った。水及
びメタノールに浸漬した試料は室温で24時間以上風乾
した後前記と同じ条件で測定した。
び電気抵抗値を測定 (3)硬 度:鉛筆硬度(三菱ユニ使用)をもって
測定 (4)耐 水 性;水中に24時間浸漬し、浸漬後の外
観及び電気抵抗値を測定 (5)耐アルコー;メタノール中に24時間浸漬し、ル
性 浸漬後の外観及び電気抵抗値を測定 (6)表面電気抵;東京電子株式会社製5TACK T
R抗値 −3を使用 評 価 二 〇は良好 Δはやや不良 ×は不良 伺(6)の電気抵抗値の測定は湿度を調節した密閉容器
中に1時間以上放置後そのままの条件下で行った。水及
びメタノールに浸漬した試料は室温で24時間以上風乾
した後前記と同じ条件で測定した。
表に示した結果から明らかな様に本発明の導電皮膜は透
明性および耐久性に優れたものである。
明性および耐久性に優れたものである。
すなわち、比較例に示した様な製造法の導電皮膜tよ耐
水性、u「1アルコール性による抵抗変化が大きい。そ
のほかに透明性、密着性、耐摩耗性、硬度、耐水性、耐
アルコール性のいずれか1つ以上に欠点がある。
水性、u「1アルコール性による抵抗変化が大きい。そ
のほかに透明性、密着性、耐摩耗性、硬度、耐水性、耐
アルコール性のいずれか1つ以上に欠点がある。
本発明の導電皮膜は、低湿度での表面抵抗値が大きいが
、図に示すととく帯電防止機能の代表特性である静電圧
減衰速度がMIL規格(MIL−B−81705B、規
格値2.00秒以下)を充分満足するものであり、実用
上支障あるものではない。
、図に示すととく帯電防止機能の代表特性である静電圧
減衰速度がMIL規格(MIL−B−81705B、規
格値2.00秒以下)を充分満足するものであり、実用
上支障あるものではない。
44、図面の簡単な説明
図は本発明の耐久性に慶れた導電皮膜形成性エマルジョ
ンより形成した導電皮膜の静電圧減衰速度を示すもので
ある。
ンより形成した導電皮膜の静電圧減衰速度を示すもので
ある。
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特願昭58−95389号
2、発明の名称
耐久性に優れる導電皮膜形成性エマルジョン3、補正を
する者 事件との関係 出願人 (曇160) 東京都新宿区大京町22番地の5 4 補正命令の目付 自発的 (η 明細計第1頁第2行〜第3行に「耐アルコール性
耐摩耗性」とあるのを「耐アルコール性、耐摩耗性」と
訂正する。
する者 事件との関係 出願人 (曇160) 東京都新宿区大京町22番地の5 4 補正命令の目付 自発的 (η 明細計第1頁第2行〜第3行に「耐アルコール性
耐摩耗性」とあるのを「耐アルコール性、耐摩耗性」と
訂正する。
(2)明+14tl書第8貞第1行〜第2行にr 2.
2’−アゾビス(2−アミジノプロパン)ハイドロクロ
ライド」とちるのを「2.a’−アゾビス(2−アミジ
ノプロパン)ハイドロクロライド」と訂正する。
2’−アゾビス(2−アミジノプロパン)ハイドロクロ
ライド」とちるのを「2.a’−アゾビス(2−アミジ
ノプロパン)ハイドロクロライド」と訂正する。
(3)明細書第14頁の表中に「表面電気抵抗率」とあ
るのを「表面電気抵抗値」と訂正する。
るのを「表面電気抵抗値」と訂正する。
Claims (1)
- (1)エチレン性不飽和基を有するイオン性電解質モノ
マーと架橋反応可能な官能基とエチレン性不飽和基とを
併せもつ1種以上のモノマーとエチレン性不飽和基を有
する重合性モノマーとを乳化重合することを特徴とする
耐久性に優れる導電皮膜形成性エマルジョン。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9538983A JPS59219304A (ja) | 1983-05-30 | 1983-05-30 | 耐久性に優れる導電皮膜形成性エマルジヨン |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9538983A JPS59219304A (ja) | 1983-05-30 | 1983-05-30 | 耐久性に優れる導電皮膜形成性エマルジヨン |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59219304A true JPS59219304A (ja) | 1984-12-10 |
JPH0411561B2 JPH0411561B2 (ja) | 1992-02-28 |
Family
ID=14136290
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9538983A Granted JPS59219304A (ja) | 1983-05-30 | 1983-05-30 | 耐久性に優れる導電皮膜形成性エマルジヨン |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59219304A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61174364A (ja) * | 1985-09-17 | 1986-08-06 | Mori Kaneo | 永久磁石 |
US5501903A (en) * | 1994-07-29 | 1996-03-26 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Magnetic recording medium having a binder system including a non halogenated vinyl polymer and a polyurethane polymer each with specified pendant groups |
US5510187A (en) * | 1993-04-27 | 1996-04-23 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Magnetic recording medium whose magnetic layer incorporates nonhalogenated vinyl copolymer and specified polyurethane polymer |
US5674604A (en) * | 1995-03-31 | 1997-10-07 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Magnetic recording medium comprising magnetic particles, binder, and a non halogenated vinyl oligomer dispersant |
JP2002248716A (ja) * | 2001-02-26 | 2002-09-03 | Kimoto & Co Ltd | 改質プラスチックシート |
JP2012184384A (ja) * | 2011-03-08 | 2012-09-27 | Wakayama Prefecture | アクリレート系共重合体、およびそれを含む樹脂組成物、ならびにそれをコーティングした受容層付き基板 |
-
1983
- 1983-05-30 JP JP9538983A patent/JPS59219304A/ja active Granted
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61174364A (ja) * | 1985-09-17 | 1986-08-06 | Mori Kaneo | 永久磁石 |
US5510187A (en) * | 1993-04-27 | 1996-04-23 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Magnetic recording medium whose magnetic layer incorporates nonhalogenated vinyl copolymer and specified polyurethane polymer |
US5501903A (en) * | 1994-07-29 | 1996-03-26 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Magnetic recording medium having a binder system including a non halogenated vinyl polymer and a polyurethane polymer each with specified pendant groups |
US5712345A (en) * | 1994-07-29 | 1998-01-27 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Binder system for magnetic media |
US5674604A (en) * | 1995-03-31 | 1997-10-07 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Magnetic recording medium comprising magnetic particles, binder, and a non halogenated vinyl oligomer dispersant |
JP2002248716A (ja) * | 2001-02-26 | 2002-09-03 | Kimoto & Co Ltd | 改質プラスチックシート |
JP4675487B2 (ja) * | 2001-02-26 | 2011-04-20 | 株式会社きもと | 改質プラスチックシート |
JP2012184384A (ja) * | 2011-03-08 | 2012-09-27 | Wakayama Prefecture | アクリレート系共重合体、およびそれを含む樹脂組成物、ならびにそれをコーティングした受容層付き基板 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0411561B2 (ja) | 1992-02-28 |
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