JPS59171017A - Manufacture of magnetic head - Google Patents
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- JPS59171017A JPS59171017A JP4424283A JP4424283A JPS59171017A JP S59171017 A JPS59171017 A JP S59171017A JP 4424283 A JP4424283 A JP 4424283A JP 4424283 A JP4424283 A JP 4424283A JP S59171017 A JPS59171017 A JP S59171017A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は磁気ヘッドの製造方法に関するもので、とくに
、ビデオヘッドのように高周波信号の記録再生に適した
磁気ヘッドを提供するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Application of the Invention] The present invention relates to a method of manufacturing a magnetic head, and in particular to providing a magnetic head suitable for recording and reproducing high frequency signals such as a video head.
磁気記録技術の高度化、とくに、磁気記録の高密度化に
対する火謂は、今日きわめて強いものがある。この要請
に応じるためには、磁気記録媒体の高保磁力化、高磁夷
密度化、低雑音化とともに、磁気ヘッドの記録特性、再
生感度の大幅な改良が大きな課題となっている。BACKGROUND OF THE INVENTION There is an extremely strong demand for the advancement of magnetic recording technology, especially for increasing the density of magnetic recording. In order to meet this demand, major challenges include increasing the coercive force, increasing magnetic density, and reducing noise of magnetic recording media, as well as significantly improving the recording characteristics and reproduction sensitivity of magnetic heads.
高密度磁気記録再生装置においては、磁気記録媒体の保
磁力Ｉｎ：を大きくすれはイ）利であることはよく知ら
れているが、高保磁力の磁気記録媒体に情報を記録する
ためには、強さが犬きく、かつ分布の銃い磁場が必要と
なる。ところが、現在用いられているフェライト材は、
その飽和磁束密度Ｂｓが４０００〜５０００ガウス程度
であるため、得られる記録磁界の強さに限度があり、磁
気記録媒体（磁気テープ）の保磁力ＨＣが１０００エル
ステツドを越える場合には、記録が不十分になるという
欠点がある。In high-density magnetic recording and reproducing devices, it is well known that it is advantageous to increase the coercive force In of the magnetic recording medium, but in order to record information on a magnetic recording medium with high coercive force, A magnetic field of great strength and distribution is required. However, the ferrite materials currently used are
Since its saturation magnetic flux density Bs is about 4000 to 5000 Gauss, there is a limit to the strength of the recording magnetic field that can be obtained, and if the coercive force HC of the magnetic recording medium (magnetic tape) exceeds 1000 Oersteds, recording will fail. It has the disadvantage of being enough.
上記問題を解決するために、フェライト材よりもＢｓの
大きいｆｉ’ ｅ −Ａ Ｌ−Ｓ ｊ系合金（センダス
ト合金と称されている）、パーマロイ等の結晶質磁性合
金、あるいは非晶質磁性合金を用いた磁気ヘッドが提案
されている。これらの磁気ヘッドにおいて、磁性合金は
、記録トラック幅を規制するため、あるいは渦電流損失
を低減するために、薄板の状態で用いられる。磁性合金
の薄板を得る方法として、バルク材を切断あるいは圧延
する方法あるいは液体急冷（スプラットクーリング）に
よる方法が実用化されている。しかし近年の高密度磁気
記録の進展に伴なって、記録トラック幅の小さな磁気ヘ
ッドへの要求が高まるにつれ、上記の磁性合金薄板の製
造方法では記録トラック幅の寸法精度が不十分となって
来た。このため、スパッタリングあるいは蒸泗などの薄
膜形成技術により磁性合金薄膜を基板上に精度よく形成
し、これを磁気ヘッドとする方法が提案されるに至った
。この−例を第１図に示した。すなわち、非磁性基板１
０に、第１図（ｂ）において磁性合金薄膜１１をスパッ
タリングあるいは蒸着等の薄膜形成技術により形成し、
第１図（Ｃ）において非磁性材１２を接治する。次に二
点鎖線部で切断して第１図（ｄ）に示した磁気ヘッドコ
ア半休１３．１３’を得、巻線窓用溝１４を加工し、ギ
ャップ突き合わせ面１５および１５′を鏡面研摩し、さ
らに該突き合わせ面にギャップ材を被着し、次にヘッド
コア半体１３゜１３′を第１図（ｅ）のように接合して
磁気ヘッド１６とする。この方法は、記録トラック幅Ｔ
Ｗを磁性合金薄膜の膜厚で制御するため、狭小な記録ト
ラック幅を高精度で作ることが出来る。さらに、第１図
（ｆ）に示したように（ここでは磁気ヘッドのテープ摺
動面を示した）、磁性合金薄膜１１と、高電気抵抗を有
する物質の薄膜１７を交互に積層することにより渦電流
損失を押え、高周波における良好な特性を得ることが出
来る。しかし上記の磁性合金薄膜を薄膜形成技術により
生成し磁気ヘッドを作製する方法は、従来のフェライト
を用いたビデオヘッドの製造方法と比較して格段に量産
性において劣るという問題がある。従来のフェライトを
用いたビデオヘッドの製造方法の一例を第２図に示す。In order to solve the above problem, we have developed a fi' e -A L-S j alloy (referred to as Sendust alloy), which has a larger Bs than the ferrite material, a crystalline magnetic alloy such as permalloy, or an amorphous magnetic alloy. A magnetic head using a magnetic head has been proposed. In these magnetic heads, the magnetic alloy is used in the form of a thin plate in order to regulate the recording track width or to reduce eddy current loss. As methods for obtaining thin plates of magnetic alloys, methods of cutting or rolling bulk materials or methods using liquid quenching (splat cooling) have been put into practical use. However, with the recent development of high-density magnetic recording, the demand for magnetic heads with small recording track widths has increased, and the dimensional accuracy of the recording track width has become insufficient with the above-mentioned method of manufacturing magnetic alloy thin plates. Ta. For this reason, a method has been proposed in which a magnetic alloy thin film is precisely formed on a substrate using a thin film forming technique such as sputtering or vapor deposition, and the film is used as a magnetic head. An example of this is shown in FIG. That is, the nonmagnetic substrate 1
0, in FIG. 1(b), a magnetic alloy thin film 11 is formed by a thin film forming technique such as sputtering or vapor deposition,
In FIG. 1(C), the non-magnetic material 12 is bonded. Next, the magnetic head core half-holes 13 and 13' shown in FIG. 1(d) are cut by cutting along the two-dot chain line, the winding window groove 14 is machined, and the gap abutting surfaces 15 and 15' are polished to a mirror finish. Then, a gap material is applied to the abutting surfaces, and then the head core halves 13° and 13' are joined as shown in FIG. 1(e) to form the magnetic head 16. In this method, the recording track width T
Since W is controlled by the thickness of the magnetic alloy thin film, narrow recording track widths can be created with high precision. Furthermore, as shown in FIG. 1(f) (here, the tape sliding surface of the magnetic head is shown), by alternately laminating magnetic alloy thin films 11 and thin films 17 of a material having high electrical resistance. Eddy current loss can be suppressed and good characteristics at high frequencies can be obtained. However, the method of producing a magnetic head by producing the above-mentioned magnetic alloy thin film using thin film formation technology has a problem in that it is significantly inferior in mass productivity compared to the conventional method of producing a video head using ferrite. FIG. 2 shows an example of a conventional method for manufacturing a video head using ferrite.
すなわち、第２図（ａ）においてフェライトからなる磁
気へラドコア半休ブロック１８および１８′を用意し、
巻線窓１９を加工し、ギャップ突き合わせ面２０および
２０′を鏡面研摩し、さらに該突き合わせ面にギャップ
材を被着し、さらに第２図（ｂ）においてへラドコア半
休ブロック１８および１８′を接合して接合ブロック２
１を作判じ、二点鎖線部を切断して磁気ヘッド２２を得
る。このように従来のフェライトを用いたビデオヘッド
の製造方法は一旦接合ブロック２１を得、これを切断し
て多数の磁気ヘッドを得ることが出来るため量産性が極
めてずぐれている。一方、前述の磁性合金薄膜を用いた
磁気ヘッドの製造方法は、第１図に示１７たととく磁気
ヘッド−個ずつ接合するという方法であシ、手間がかか
り、かつ精度の高い狭ギャップ長を有する磁気ヘッドを
歩留まりよく得ることが困難である。That is, in FIG. 2(a), magnetic rad core semi-dead blocks 18 and 18' made of ferrite are prepared,
The winding window 19 is processed, the gap abutting surfaces 20 and 20' are polished to a mirror finish, a gap material is applied to the abutting surfaces, and the half-dead core blocks 18 and 18' are joined in FIG. 2(b). and join block 2
A magnetic head 22 is obtained by cutting out the magnetic head 1 and cutting along the two-dot chain line. As described above, in the conventional method of manufacturing a video head using ferrite, the bonding block 21 is once obtained, and the bonding block 21 is cut to obtain a large number of magnetic heads, so that mass productivity is extremely poor. On the other hand, the manufacturing method of the magnetic head using the magnetic alloy thin film described above is a method of bonding the magnetic heads one by one, as shown in FIG. It is difficult to obtain magnetic heads with a high yield.
本発明の目的は、かかる問題を解決し、磁性合金薄膜を
用いた磁気ヘッドを量産性良く製造する方法を提供する
ことにある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve this problem and provide a method for manufacturing a magnetic head using a magnetic alloy thin film with good mass productivity.
この目的を達成するために、本発明の磁気ヘッドの製造
方法では、非磁性基板に、ギャップ突き合わせ面となる
べき基板上面の垂直方向にズ・４して磁気ヘッドのアジ
マス角に相当する角度だけ傾むいた面を有する溝を複数
本平行に設け、載荷および基板上面に磁性合金薄膜を薄
膜形成技術により被着し、さらに該磁性合金薄膜を非磁
性材で保護し、巻線窓を加工し基板上面を鏡面研摩ｊ７
てギャップ突き合わせ面とした後、ギャップ材を被着し
て−＼ラッドア半休ブロックとＬ／、ａヘッドコア半休
ブロックを接合して接合ブロックを作製し、さらに該接
合ブロックを切断して個々の磁気ヘッドを製造する。こ
のように一旦接合ブロックを作製する方法をとることに
より精度の高いギヤツブ有する磁気ヘッドを量産性良く
製造することができ、かつ高飽和磁束密度を有する磁性
合金薄膜全薄膜作製技術により形成するととにより精度
の高い記録トラック幅を有する高性能磁気ヘッドを得る
ことが出来る。In order to achieve this object, in the method for manufacturing a magnetic head of the present invention, a non-magnetic substrate is coated at an angle corresponding to the azimuth angle of the magnetic head by 4 mm in the perpendicular direction of the upper surface of the substrate which is to be the gap abutting surface. A plurality of grooves with inclined surfaces are provided in parallel, a magnetic alloy thin film is deposited on the load and the upper surface of the substrate using thin film formation technology, the magnetic alloy thin film is further protected with a non-magnetic material, and a winding window is processed. Mirror polish the top surface of the board j7
After forming a gap butting surface, a gap material is applied and the -\rad door half-closed block and the L/, a head core half-closed block are joined to produce a joined block, and the joined block is further cut to form individual magnetic heads. Manufacture. By using this method of once manufacturing the joint block, it is possible to manufacture magnetic heads with highly accurate gears with good mass productivity, and by forming the magnetic alloy thin film with full thin film manufacturing technology that has a high saturation magnetic flux density. A high performance magnetic head having a highly accurate recording track width can be obtained.
近年の磁気記録密度の向上により、一般的に家庭で使用
されている２ヘツドヘリ力ルスギヤン型ＶＴＲでは、＠
接トラックよりの１計号もれをｖノぐために磁気ヘッド
にいわゆるアジマス角を付与して用いられている。アジ
マス角とは、第３区１（ａ） 。Due to improvements in magnetic recording density in recent years, the two-head helical force-controlled VTR commonly used at home has
A so-called azimuth angle is given to the magnetic head and used to eliminate one signal leakage from the contact track. The azimuth angle is Section 3, Section 1 (a).
（ｂ）の磁気ヘッドのテープ摺動面のように、矢印のヘ
ッドの進行方向の垂直方向に対して作動ギャップ２３．
２３’が傾むいた角Ｉ屍日を指す。このようなアジマス
角を南する磁気ヘッドを作製するために、本発明では第
４図（ａ）の非磁性基板２４に、該基板の上面の垂直力
向に対してアジマス角たけ傾むいた面ｚ５を有する溝を
設は載面に磁性合金薄膜を薄膜作成技術により被着し、
該面上の該磁性合金薄膜を磁気−′〜ラッド磁路とする
。本発明の方法によれば薄膜作成装置内で第４図中矢印
で示した磁性合金を構成する原子の流れの方向と面２５
のなす角が、第４図（１））に示した非磁性基板２４′
の面２６となす角より太きいため、面２５上の磁性合金
薄膜の成長速度は面２７上の磁性合金薄膜の成長速度よ
り大きいという利点がある。Like the tape sliding surface of the magnetic head in (b), the operating gap 23.
23' indicates the tilted corner I. In order to fabricate a magnetic head with such an azimuth angle south, in the present invention, the non-magnetic substrate 24 shown in FIG. A groove having a diameter of z5 is formed by depositing a magnetic alloy thin film on the mounting surface using thin film production technology.
The magnetic alloy thin film on the surface is used as a magnetic −′ to Rad magnetic path. According to the method of the present invention, the direction of flow of atoms constituting the magnetic alloy and the plane 25 shown by the arrow in FIG.
The angle formed by the non-magnetic substrate 24' shown in FIG.
Since the angle is larger than the angle formed with the surface 26, there is an advantage that the growth rate of the magnetic alloy thin film on the surface 25 is faster than the growth rate of the magnetic alloy thin film on the surface 27.
本発明の方法以外に、第４図（ｂ）に示した非磁性基板
２４′を使用し、基板側面２７をギャップ突き合わせ面
とする磁気ヘッドの製造方法があるが、本発明の方法は
磁性合金薄膜の成長速度の点で前記方法より有第１」で
ある。さらに磁性合金薄膜の成長速度を増加させるため
に、薄膜作成装置内で非磁性基板２４を傾け、面２５の
一方の面と磁性合金を構成する原子の流れの方向との角
度をさらに犬としてもよい。In addition to the method of the present invention, there is a method of manufacturing a magnetic head using a non-magnetic substrate 24' shown in FIG. This method is superior to the above methods in terms of the growth rate of the thin film. Furthermore, in order to increase the growth rate of the magnetic alloy thin film, the non-magnetic substrate 24 is tilted in the thin film forming apparatus, and the angle between one of the surfaces 25 and the direction of the flow of atoms constituting the magnetic alloy is further increased. good.
本発明では非磁性基板に磁性合金薄膜を被着した後に、
該溝中に非磁性材を充填して磁性合金薄膜を保護し、磁
気ヘッドに、磁性合金薄膜が非磁性基板材と非磁性材に
は烙まｒした構造をとる。本発明の方法では該非磁性材
としてガラスなどを加熱溶融して該溝中に充填する方法
、あるいは該非磁性材を薄膜形成技術により溝中に堆積
する方法をとる。いずれの場合も該非磁性材部基板に設
けられた溝を完全に充填する必要はなく該非磁性材の厚
さは磁気ヘッドのコア厚が所望のくｊ“法となるような
厚さであれはよい。該非磁性相を薄膜形成技術で堆積す
る場合には、堆積速度を増加するために、薄膜作成装置
内で基板を傾むけてもよい。In the present invention, after depositing a magnetic alloy thin film on a non-magnetic substrate,
The groove is filled with a non-magnetic material to protect the magnetic alloy thin film, and the magnetic head has a structure in which the magnetic alloy thin film is attached to the non-magnetic substrate material and the non-magnetic material. The method of the present invention employs a method in which glass or the like is heated and melted as the non-magnetic material and filled into the groove, or a method in which the non-magnetic material is deposited in the groove by a thin film forming technique. In either case, it is not necessary to completely fill the groove provided in the non-magnetic material substrate, and the thickness of the non-magnetic material may be such that the core thickness of the magnetic head is as desired. If the non-magnetic phase is deposited by thin film deposition techniques, the substrate may be tilted within the thin film deposition apparatus to increase the deposition rate.
本発明の方法では磁気ヘッドの磁路として磁性合金薄膜
を用いているが、過電流を低減し良好な高周波特性を得
るために、磁性合金薄膜と磁性合金薄膜より膜厚の小な
る高電気抵抗を有する物質の薄膜を交互に積層して磁路
と−することが出来る。In the method of the present invention, a magnetic alloy thin film is used as the magnetic path of the magnetic head, but in order to reduce overcurrent and obtain good high frequency characteristics, a magnetic alloy thin film and a high electrical resistance film with a smaller thickness than the magnetic alloy thin film are used. It is possible to form a magnetic path by alternately stacking thin films of a material having .
本発明には磁性合金薄膜として非晶質磁性合金あるｂは
結晶質磁性合金の薄膜が用いられる。非晶質磁性合金と
は、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎ ｉ、Ｓｏ、Ｐ。In the present invention, a thin film of an amorphous magnetic alloy or a crystalline magnetic alloy is used as the magnetic alloy thin film. Amorphous magnetic alloys include Fe, Co, Ni, So, and P.
Ｃ，Ｂ、Ａｔ、Ｇｅ、Ｚｒｔ ’Ｉ’ ｉ、ｖ、Ｍｎ。C, B, At, Ge, Zrt 'I' i, v, Mn.
Ｃｒ、Ｎｂ、 Ｍｏ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｙ、希土類など
の成分から成り、例えばＦｅ５Ｃｏ７ｏ ５ｊ１２ Ｂ
１３ ＊あるいはＣｏｇ。ＭＯ＋ｏＺｒ＋ｏ Ｉいずれ
もｂλ子比）などの組成を有している。結晶質磁性合金
にはパーマロイ、Ｆｅ−Ａ２−８ｊ系合金（センダスト
）、ｌｉ”６−Ａｔ系合金（アルパーム）、Ｆｅ−８ｊ
系合金などがあげられる。これらの非晶質および結晶質
磁性合金は磁気特性あるいは耐食性、耐摩耗性改善のた
めに各種元素を深加して用いられる場合もある。これら
の非晶質磁性合金および結晶質磁性合金の薄膜は、高周
波スパッタリング、直流スパッタリング、マグネトロン
スパッタリング等のスパッタリング法、あるいは真空蒸
着法、イオンブレーティング法等の、いわゆる薄膜作製
技術により作製される。Consists of components such as Cr, Nb, Mo, Hf, Ta, W, Y, and rare earth elements, such as Fe5Co7o 5j12 B
13 *Or Cog. It has a composition such as MO+oZr+oI (all have a bλ molecular ratio). Crystalline magnetic alloys include permalloy, Fe-A2-8j alloy (Sendust), li"6-At alloy (Alperm), and Fe-8j
Examples include alloys. These amorphous and crystalline magnetic alloys are sometimes used by adding various elements to improve magnetic properties, corrosion resistance, and wear resistance. Thin films of these amorphous magnetic alloys and crystalline magnetic alloys are produced by sputtering methods such as high frequency sputtering, direct current sputtering, and magnetron sputtering, or by so-called thin film fabrication techniques such as vacuum evaporation methods and ion blating methods.
本発明に用いられる非磁性基板は種々のセラミックス、
カラス、あるいは非磁性もしくはキュリ一温度が室温以
下のフェライトである。非磁性基板は非磁性椙料であれ
ば使用可能であるが、好ましくは空隙等の欠陥が少ない
こと、電気抵抗が高いこと、加工性に優れること、熱膨
張係数が磁性合金薄膜の熱膨張係数に近いこと、耐摩耗
性、耐食性に優れること、等の性質を有するものが望ま
しい。The non-magnetic substrate used in the present invention can be made of various ceramics,
It is glass, non-magnetic, or ferrite with a Curie temperature below room temperature. The non-magnetic substrate can be used as long as it is a non-magnetic material, but it is preferable that it has few defects such as voids, has high electrical resistance, has excellent workability, and has a thermal expansion coefficient similar to that of the magnetic alloy thin film. It is desirable that the material has properties such as being close to that of steel, having excellent wear resistance, and corrosion resistance.
本発明に用いられる非磁性材は種々のセラミックス、カ
ラス、あるいけ非磁性もし２くはキュリ一温度が室温以
下のフェライトであり、非磁性材を基板中の溝に加熱溶
融して充填する場合には、核非磁性材の軟化温度は非磁
性基板材の軟化温度より低いことが必要である。The non-magnetic material used in the present invention is various ceramics, glass, non-magnetic materials, or ferrite whose Curie temperature is below room temperature. For this purpose, it is necessary that the softening temperature of the core non-magnetic material is lower than that of the non-magnetic substrate material.
非磁性材を薄膜形成技術により堆積する場合には、特に
上記の制限はない。磁気ヘッドを摺動した時の摺動面の
不均一な摩耗、磁気ヘッド製造プロセス中に加熱されて
導入される歪などを低減するために、非磁性基板材と非
磁性材は同種の物質であるか、硬度、熱膨張係数の近い
物質であることが望ましい。When the non-magnetic material is deposited by a thin film formation technique, there is no particular limitation as described above. The non-magnetic substrate material and the non-magnetic material are made of the same type of material in order to reduce uneven wear on the sliding surface when the magnetic head slides and to reduce distortion introduced by heating during the magnetic head manufacturing process. It is desirable that the material has a similar hardness and thermal expansion coefficient.
以下に本発明を実施例によって詳細に説明する。The present invention will be explained in detail below by way of examples.
実施例１
第５図（ａ）〜（ｇ）に本発明の一実施例としての磁気
ヘッドの製造方法の工程図を示す。非磁性基板として非
磁性フェライトＺｎＦｅｚＯ４を用い、第５図（ａ）に
示したような非磁性基板のブロック２８を用意した。非
磁性基板としてはこのほかに種々のセラミックス、ガラ
ス、あるいは非磁性もしくはキュリ一温度が室温以下の
フェライトを用いることが出来る。該非磁性基板に、第
５図（ｂ）に示したように、非磁性基板上面２９の垂直
方向に対して磁気ヘッドのアジマス角θに相当する角度
だけ傾むいた面を有する溝３０を複数本平行に形成した
。Embodiment 1 FIGS. 5(a) to 5(g) show process diagrams of a method for manufacturing a magnetic head as an embodiment of the present invention. A nonmagnetic substrate block 28 as shown in FIG. 5(a) was prepared using nonmagnetic ferrite ZnFezO4 as the nonmagnetic substrate. As the non-magnetic substrate, various ceramics, glasses, or non-magnetic materials or ferrites having a Curie temperature below room temperature can be used. As shown in FIG. 5(b), the non-magnetic substrate is provided with a plurality of grooves 30 each having a surface inclined at an angle corresponding to the azimuth angle θ of the magnetic head with respect to the perpendicular direction of the upper surface 29 of the non-magnetic substrate. formed in parallel.
次に第５図（Ｃ）において該非磁性基板全体に、磁性合
金薄膜３１を高速スパッタリング（三極プラズマスパッ
タ）により被着した。本実施例では、Ｆｅ８４Ａｔ６Ｓ
ｉｌＯ［重量パーセント）の組成を鳴するターゲットを
用いて結晶質磁性合金薄膜を作製し、これを磁性合金薄
膜３１として用いた。このほかにＦｅｓ Ｃｏｙｏ Ｓ
’１２ Ｂ１３ 、あるいはＣ０５ｏ ＭＯｔｏ Ｚ
ｒｌｏ （原子）く−セント）などの組成を有するタ
ーゲットを使用して非晶質磁性合金薄膜を作製してこれ
を磁性合金薄膜３１として用いたり、あるいはパーマロ
イ、ｐｅ−ｓｉ系合金、Ｆｅ−Ａｔ系合金のターゲット
を用いて結晶質磁性合金薄膜を作製し、これを磁性合金
薄膜３１として用いてもよい。さらに、磁性合金薄膜の
作製方法どして三極プラズマ高速スパッタリング法のほ
かに、マグネットロン高速スパッタリング法などの高速
スパッタリング法、あるいは通常の高周波スパッタリン
グ法、直流スパッタリング法、イオンビームスパッタリ
ング法などのスパッタリング法、あるいは真空蒸着法、
イオンブレーティング法等の、いわゆる薄膜作製技術を
用いることが出来る。Next, in FIG. 5(C), a magnetic alloy thin film 31 was deposited on the entire nonmagnetic substrate by high speed sputtering (triode plasma sputtering). In this example, Fe84At6S
A crystalline magnetic alloy thin film was prepared using a target having a composition of ilO (weight percent), and this was used as the magnetic alloy thin film 31. In addition to this, Fes Coyo S
'12 B13 or C05o MOto Z
An amorphous magnetic alloy thin film is prepared using a target having a composition such as rlo (atomic) cent), and this is used as the magnetic alloy thin film 31, or permalloy, PE-Si alloy, Fe-At A crystalline magnetic alloy thin film may be produced using a target of a system alloy, and this may be used as the magnetic alloy thin film 31. Furthermore, in addition to the triode plasma high-speed sputtering method, the magnetic alloy thin film can be produced using high-speed sputtering methods such as magnetron high-speed sputtering method, or sputtering methods such as ordinary high-frequency sputtering method, DC sputtering method, and ion beam sputtering method. method, or vacuum evaporation method,
A so-called thin film manufacturing technique such as ion blating method can be used.
次に第５図（ｄ）において非磁性材としてガラス３２を
溶融して溝３０に充填した。このようにして磁性合金薄
膜と非磁性相からなる複合ブロック３３が得られた。こ
こで用いたガラスは軟化温度が６００Ｃのす８１６１ガ
ラス（米国コーニング社製品の商品名）である。磁性合
金薄膜３１として非晶質磁性合金を用いる場合にはガラ
スの溶融、充填は非晶質磁性合金の結晶化温度以下で行
なう必要がある。一般に、非晶質磁性合金の結晶化温度
Ｖ′１４５０〜６００Ｃ程°度であり、低軟化点ガラス
としてｉｔ輪輪部温度３４０〜４００ＣＯＰｂを７０〜
８０重量パーセント含むガラスを用いることができる。Next, in FIG. 5(d), glass 32 as a non-magnetic material was melted and filled into the groove 30. In this way, a composite block 33 consisting of a magnetic alloy thin film and a non-magnetic phase was obtained. The glass used here is Su8161 glass (trade name, manufactured by Corning, Inc., USA), which has a softening temperature of 600C. When an amorphous magnetic alloy is used as the magnetic alloy thin film 31, it is necessary to melt and fill the glass at a temperature below the crystallization temperature of the amorphous magnetic alloy. In general, the crystallization temperature of an amorphous magnetic alloy is about 1450~600°C, and the ring temperature is 340~400COPb as a low softening point glass.
Glass containing 80 weight percent can be used.
次に第５図（ｄ）の複合ブロック３３の、上面３３′金
非磁性基板２８が出る壕で研削し、さらに鏡面研摩して
ギャップ突き合わせ面とした。次に該複合ブロック３３
を第５図（ｄ）の二点鎖線部より切断し、第５図（ｅ）
に示したように磁気へラドコア半休ブロック３４及び３
４′を作製し、一方の磁気へラドコア半休ブロック３４
に巻線窓用溝３５を設けた。さらに接合用溝３６．３６
’を設けた。次にギャップ突き合わせ面３７．３”７’
に８１０２をスパッタリングにより被着してギャップ材
とした。Next, the upper surface 33' of the composite block 33 shown in FIG. 5(d) was ground in the trench where the gold nonmagnetic substrate 28 appeared, and further mirror-polished to form a gap abutting surface. Next, the composite block 33
is cut from the two-dot chain line in Fig. 5(d), and the result is shown in Fig. 5(e).
As shown in FIG.
4' and one magnetic core semi-dead block 34.
A winding window groove 35 was provided in the winding window. Furthermore, the joining groove 36.36
' was established. Next, the gap butting surface 37.3"7'
8102 was applied by sputtering to form a gap material.
次に第５図（ｆ）において、磁気へラドコア半休ブロッ
ク３４および３４′を、ギャップ材を介して磁性合金薄
膜が相対峙するように接合し、接合用溝に接合用接層剤
３８としてカラスを充填し、加熱・溶融し磁気へラドコ
ア半休ブロック３４おより
び３４′を一体化して接合ブロン３９を得た。接＾
台用接着剤３８として用いるガラスとじでシ」゛、第５
図（ｄ）において用いたカラス３２よりも軟化温度の低
いガラスが好捷しく、具体的にｔま前述のＰ ））を主
成分とした低軟化点ガラスを用いることが出来る。寸だ
、硬化温度が１００〜２００Ｃの熱硬化性有機接着剤も
用いることが出来る。さらにＪ５図（ｅ）において接合
用溝３６．３６’を設けずに、ギャップ突き合わせ面の
一部あるいは全部に接合用接着剤としてカラスをスパッ
タリングにより？ＬＡし、第５図（ｆ）において接合し
７、加熱して該ガラスを溶融・固化して、接合ブロック
３９を得てもよい。Next, in FIG. 5(f), the magnetic helad core semi-dead blocks 34 and 34' are bonded with a gap material in between so that the magnetic alloy thin films face each other, and a bonding adhesive 38 is applied to the bonding grooves. was filled, heated and melted to integrate the magnetic held core semi-dead blocks 34 and 34' to obtain a joining bronze 39. 5.Glass binding material used as adhesive 38 for the table.
Glass having a lower softening temperature than the glass 32 used in Figure (d) is preferable, and specifically, a low softening point glass containing the above-mentioned P)) as a main component can be used. In fact, a thermosetting organic adhesive having a curing temperature of 100 to 200C can also be used. Furthermore, in Fig. J5 (e), without providing the bonding grooves 36 and 36', is it possible to sputter glass as a bonding adhesive on part or all of the gap abutting surfaces? The bonded block 39 may be obtained by LA, bonding 7 in FIG. 5(f), and heating to melt and solidify the glass.
次に第５図（ｆ）において一点鎖線部を切断して、第５
図（ｇ）に示したようにプラスおよびマイナスのアジマ
ス角θを有する磁気ヘッド４０および４０′を得た。Next, in Fig. 5(f), cut the dashed line part and
As shown in Figure (g), magnetic heads 40 and 40' having positive and negative azimuth angles θ were obtained.
なお、本実施例のほかに第５図（ｄ）においで複合ブロ
ック３３のギャップ突き合わせ面となるべき面３３’を
研削する工程、さらに収面を鏡面研摩する工程、二点鎖
線部を切断して磁気へソドコア半休を切断して磁気へラ
ドコア半休ブロックを得る工程、第５図（ｅ）において
巻線窓用溝を設ける工程、およびギャップ材をギャップ
突き合わせ面に被着する工程は各工程の順序を変更して
も特に本発明の効果に影響はない。In addition to this embodiment, in FIG. 5(d), there is a step of grinding the surface 33' of the composite block 33 which is to become the gap abutting surface, a step of mirror polishing the converging surface, and a step of cutting the two-dot chain line. The steps of cutting the magnetic heel core half-hole to obtain a magnetic heel core half-hole block, the step of providing a groove for the winding window in FIG. Changing the order does not particularly affect the effects of the present invention.
実施例２
第６図（ａ）〜（Ｃ）に本発明の他の実施例としての磁
気ヘッドの製造方法の工程図を示す。実施例１と同様に
、非磁性基板として非磁性フェライトｚｎＦｅ２０４を
用い、第６図（ａ）のように非磁性基板４１の上面４２
の垂直方向に対してアジマス角θ傾むいた面４３を１つ
有する溝４４を複数本平行に形成した。第６図（ｂ）に
おいて該非磁性基板をプレーナー型高速マグネトロンス
パッタリング装置中に、基板ホルダーに対してψ−１０
°傾むけて設置し、図中矢印で示した磁性合金薄膜を構
成する原子の流れと面４３とのなす角が大きくなるよう
にした。Embodiment 2 FIGS. 6(a) to 6(C) show process diagrams of a method for manufacturing a magnetic head as another embodiment of the present invention. As in Example 1, a non-magnetic ferrite znFe204 is used as the non-magnetic substrate, and the top surface 42 of the non-magnetic substrate 41 is
A plurality of grooves 44 having one surface 43 inclined at an azimuth angle θ with respect to the vertical direction were formed in parallel. In FIG. 6(b), the non-magnetic substrate is placed in a planar type high speed magnetron sputtering apparatus at a distance of ψ-10 relative to the substrate holder.
The magnetic alloy thin film was installed at an angle such that the angle formed by the flow of atoms constituting the magnetic alloy thin film and the plane 43 indicated by the arrow in the figure was large.
次に、ＣＯｓｏＣ０５ｏ Ｚｒ１Ｏ（原子パーセント）
の組成を有するターゲットを使用して、はぼ前記組成を
有する非晶質磁性合金薄膜４５を面４３および４４に被
着した。次いで同じ装置行内において、ＺｎＦｅ２Ｏ４
を高速マグネトロンスパッタリングにより面４３および
４４に堆積し、非磁性材４６とした。その後実施例１と
同様の方法により第６図＜Ｃ）のような接合ブロック４
７を得た。本実施例に用いた非晶質磁性合金薄膜の結晶
化温度は約５６０Ｃであるので、接合用接着剤４８とし
て軟化温度か約４００ＣのＰｂ系ガラスを用いた。次に
第６図（Ｃ）において一点鎖線部を切断して第６図（ｄ
）のようなアジマス角θを有する磁気ヘッド４９を得た
。Next, COsoC05o Zr1O (atomic percent)
An amorphous magnetic alloy thin film 45 having the above composition was deposited on surfaces 43 and 44 using a target having the above composition. Then in the same equipment row, ZnFe2O4
was deposited on surfaces 43 and 44 by high-speed magnetron sputtering to form a non-magnetic material 46. Thereafter, by the same method as in Example 1, a joint block 4 as shown in FIG.
I got a 7. Since the crystallization temperature of the amorphous magnetic alloy thin film used in this example is about 560C, Pb-based glass with a softening temperature of about 400C was used as the bonding adhesive 48. Next, in Fig. 6(C), cut the dashed line part and Fig. 6(d)
) A magnetic head 49 having an azimuth angle θ was obtained.
以上述べたように、本発明の磁気ヘッドの毀造方法は、
高磁気記録密度を有するＶ Ｔ Ｒに適しグこ、アジマ
ス角を有し、狭小な記録トラック幅、狭小なギャップ長
を有する磁気ヘッドを高精度で量産性よく製造する方法
を提供するものである。As described above, the method for damaging a magnetic head of the present invention includes:
The present invention provides a method for manufacturing a magnetic head with high accuracy and mass production efficiency, which is suitable for VTRs having high magnetic recording density, and has an azimuth angle, a narrow recording track width, and a narrow gap length. .
第１図および第２図は従来の磁気ヘッドの製造方法を示
す工程図、第３図は磁気ヘッドのアジマス角を説明する
だめの図、第４図は本発明の非磁性基板の形状を示す斜
視図、第５図および第６図は本発明による磁気ヘッドの
製造方法の一実施例を示す工程図である。
１０．２４．２４’ 、２８．４１・・・非磁性基板、
１１．３１．４５・・・磁性合金層膜、１２．３２゜４
６・・・非磁性＋２．１３．１３’ 、１８・１８′・
３４．３４’・・・磁気へラドコア半休、１４，１９゜
３５・・・巻線窓用溝、１５．１５’ 、２０．２０’
。
３７．３７’・・・ギャップ突き合わせ面、１６゜２２
．４０．４０’ 、４９・・・磁気ヘッド、１７・・・
高電気抵抗を有する物質の薄膜、２１，３９゜４７・・
・接合ブロック、２３．２３’・・・作動ギャップ、３
０．４４・・・溝、３３・・・複合ブロック、３６゜＼
延
（１９）
第１図
（久）（）））
（ＯＣｒＬ）
（ｅ） どイノ第
２図
（ｂ）（Ｃ）
第 、う 図
第 ５ ［ハ
（ｂ）
１） ６ 秒へ
（（Ｌ ） （ｂ’
（ｃ−）（ｄ、）
・あア
国分寺市東恋ケ窪１丁目２８０番
地株式会社日立製作所中央研究
所内
・、？■発 明 者 斎藤法利
国分寺市東恋ケ窪１ ”Ｔ Ｌ１２８０番地株式会社日
立製作所中央研究
所内
座）発 明 者 工藤實弘
国分寺市東恋ケ窪１−］’−目２８０番地株式会社日立
製作所中央研究
所内1 and 2 are process diagrams showing a conventional method of manufacturing a magnetic head, FIG. 3 is a diagram illustrating the azimuth angle of the magnetic head, and FIG. 4 shows the shape of the nonmagnetic substrate of the present invention. The perspective view, FIGS. 5 and 6 are process diagrams showing one embodiment of a method for manufacturing a magnetic head according to the present invention. 10.24.24', 28.41... non-magnetic substrate,
11.31.45...Magnetic alloy layer film, 12.32°4
6...Nonmagnetic +2.13.13', 18.18'.
34.34'...Magnetic helad core half-off, 14,19°35...Winding window groove, 15.15', 20.20'
. 37.37'...Gap butting surface, 16°22
．． 40.40', 49...magnetic head, 17...
Thin film of material with high electrical resistance, 21,39°47...
・Joint block, 23.23'...Operating gap, 3
0.44...groove, 33...composite block, 36°＼
Nobu (19) Figure 1 (ku) ())) (OCrL) (e) Doino Figure 2 (b) (C) Figure 5 [Ha (b) 1) To 6 seconds ((L ) (b' (c-) (d,) ・Aa Hitachi, Ltd., Central Research Laboratory, 1-280 Higashi-Koigakubo, Kokubunji-shi, Hitachi, Ltd. Inventor: Hori Saito 1-280 Higashi-Koigakubo, Kokubunji-shi Hitachi, Ltd. Inside the Central Research Laboratory, Hitachi, Ltd. Inventor Minoru Kudo 1-280 Higashikoigakubo, Kokubunji City, Central Research Laboratory, Hitachi, Ltd.
Claims (1)
蒸着法などの薄膜形成技術により形成し、該磁性合金薄
膜を磁路とする磁気ヘッドの製造方法において、 （１）該非磁性基板のギャップ突き合わせ面となるべき
面の垂直方向に対して磁気ヘッドのアジマス角だけ傾む
いた１つあるいは２つの面を有する溝を複数本平行に形
成する工程、（２＋ （１１の工程の後に、該非磁性
基板のギャップ突き合わせ而となるべき面および該溝中
の而にスパッタリング法、蒸着法などの薄膜形成技術に
より磁性合金薄膜を被着する工程、（３１（２１の工程
の後に該溝中に非磁性相を充填し、複合ブロックを作製
する工程、 （４１ｆ３＋の工程の後に、該複合ブロックのギャップ
突き合わせ面となるべき面を非磁性基板上が露出する１
で研削する工程と、ギャップ突き合わせ面を鎖面研摩す
る工程と、該複合ブロックを切断して磁気へラドコア半
休ブロックを得る工程と、巻線用溝を加工する工程を含
む工程と、該磁気ヘッドコア半休ブロックのギャップ突
き合わせ面にギャップ材を被着する工程を含む工程、 （５１（４）の工程の後に、磁気へラドコア半休ブロッ
クのギャップ突き合わせ面同志を接合し、磁性金薄膜が
ギャップ材を介して相対峙するように固着・一体化して
接合ブロックを得る工程、 （６１（５１の工程の後に、該接合ブロックを切断して
磁気ヘッドを得る工程、 を含むことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。 ２、特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッドの製造方法
において、上記（３）の工程の該非磁性材をスパッタリ
ング、蒸Ｎｆｔどの薄膜形成技術により枝溝中に堆積す
ることを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。 ３、特許請求の範囲第１項および第２項記載の磁気ヘッ
ドの製造方法において、上記（２）の工程の磁性合金薄
膜の代りに、磁性合金薄膜と該磁性合金薄膜より膜厚の
小なる高電気抵抗を有する物質の薄膜を交ξに積層する
ことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。[Claims] 1. A method of sputtering a magnetic alloy thin film on a non-magnetic substrate;
In a method for manufacturing a magnetic head formed by a thin film forming technique such as vapor deposition and using the magnetic alloy thin film as a magnetic path, (1) the magnetic head is formed in a direction perpendicular to the surface of the nonmagnetic substrate that is to be the gap abutment surface; A step of forming a plurality of parallel grooves having one or two surfaces inclined by an azimuth angle (2+ A step of depositing a magnetic alloy thin film using a thin film forming technique such as sputtering or vapor deposition, (31 (a step of filling the groove with a non-magnetic phase after the step of 21 to produce a composite block, (41f3+) After the process, the surface of the composite block that is to become the gap abutment surface is exposed on the non-magnetic substrate 1.
a step of grinding the gap abutting surface with a chain surface; a step of cutting the composite block to obtain a half-dead core block; a step of machining a winding groove; A process including a step of applying a gap material to the gap abutting surfaces of the half-closed blocks, (after the step of 51 (4), the gap abutting surfaces of the magnetic herad core half-closed blocks are bonded together, and the magnetic gold thin film is coated with the gap material through the gap material. 61 (After step 51, cutting the bonded block to obtain a magnetic head.) Method. 2. The method for manufacturing a magnetic head according to claim 1, characterized in that the non-magnetic material in step (3) is deposited in the branch grooves by a thin film forming technique such as sputtering or vaporized Nft. 3. In the method for manufacturing a magnetic head according to claims 1 and 2, in place of the magnetic alloy thin film in step (2) above, a magnetic alloy thin film and the magnetic alloy are used. A method of manufacturing a magnetic head, characterized in that thin films of a substance having high electrical resistance and having a thickness smaller than that of the thin film are laminated in an alternating manner.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4424283A JPS59171017A (en) | 1983-03-18 | 1983-03-18 | Manufacture of magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4424283A JPS59171017A (en) | 1983-03-18 | 1983-03-18 | Manufacture of magnetic head |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59171017A true JPS59171017A (en) | 1984-09-27 |
| JPH0468682B2 JPH0468682B2 (en) | 1992-11-04 |
Family
ID=12686061
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4424283A Granted JPS59171017A (en) | 1983-03-18 | 1983-03-18 | Manufacture of magnetic head |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59171017A (en) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS543238A (en) * | 1977-06-08 | 1979-01-11 | Mitsubishi Electric Corp | Discharge fault position sensor in electric machinery and apparatus |
| JPS57127921A (en) * | 1981-02-02 | 1982-08-09 | Hitachi Ltd | Manufacture for magnetic head |
| JPS57162116A (en) * | 1981-03-30 | 1982-10-05 | Hitachi Ltd | Compound magnetic head and its manufacture |
-
1983
- 1983-03-18 JP JP4424283A patent/JPS59171017A/en active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS543238A (en) * | 1977-06-08 | 1979-01-11 | Mitsubishi Electric Corp | Discharge fault position sensor in electric machinery and apparatus |
| JPS57127921A (en) * | 1981-02-02 | 1982-08-09 | Hitachi Ltd | Manufacture for magnetic head |
| JPS57162116A (en) * | 1981-03-30 | 1982-10-05 | Hitachi Ltd | Compound magnetic head and its manufacture |
Also Published As
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| JPH0468682B2 (en) | 1992-11-04 |
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