JPS5916883A - N−2−メチルグリシジル置換アミド化合物 - Google Patents
N−2−メチルグリシジル置換アミド化合物Info
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- JPS5916883A JPS5916883A JP12588682A JP12588682A JPS5916883A JP S5916883 A JPS5916883 A JP S5916883A JP 12588682 A JP12588682 A JP 12588682A JP 12588682 A JP12588682 A JP 12588682A JP S5916883 A JPS5916883 A JP S5916883A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
化合物に関する。
更に詳しくはアミド基に少くとも一個の2−メチルグリ
シジル基の置換したN, N − 2置換アミド化合物
に関するものである。
シジル基の置換したN, N − 2置換アミド化合物
に関するものである。
本発明の化合物は一般式
(但し、R,は脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基ま
たは脂環式炭化水素基であり、Xは水素、2一メチルグ
リシドキシ基またはN,N−ジー2−メチルグリシジル
アミノ基である。
たは脂環式炭化水素基であり、Xは水素、2一メチルグ
リシドキシ基またはN,N−ジー2−メチルグリシジル
アミノ基である。
lはOまたは1の整数であり、fは1〜4の整数である
。R2はアルキル基、アルケニル基またはアリール基で
あり、rは1または2の整数であり、Sは1〜4の整数
である。但し、Xが水素のときはIは0または1、g、
は0または1であり、Sが1のときはrは1または2、
一方、Sが2〜4のときはrは2である。Xが2−メチ
ルグリシドキン基のときは、Iは1、rは2である。X
がiN−ジー2−メチルグリシジルアミノ基のときは!
は0または1、?、は1または2、Sは1または2、r
は2である。)で表わされるN−2−メチルグリシジル
置換アミド化合物であり、文献未記載の新規化合物であ
る。
。R2はアルキル基、アルケニル基またはアリール基で
あり、rは1または2の整数であり、Sは1〜4の整数
である。但し、Xが水素のときはIは0または1、g、
は0または1であり、Sが1のときはrは1または2、
一方、Sが2〜4のときはrは2である。Xが2−メチ
ルグリシドキン基のときは、Iは1、rは2である。X
がiN−ジー2−メチルグリシジルアミノ基のときは!
は0または1、?、は1または2、Sは1または2、r
は2である。)で表わされるN−2−メチルグリシジル
置換アミド化合物であり、文献未記載の新規化合物であ
る。
上記一般式で表わされるN−2−メチルグリシジル置換
アミド化合物には、脂肪族飽和及び不飽和モノアミド化
合物のN−モノ−2−メチルグリシジル置換及びN、N
−ジー2−メチルグリシジル置換化合物、芳香族及び脂
環式モノアミド化合物のN−モノ−2−メチルグリシジ
ル置換及びN、 N −ジー2−メチルグリシジル置換
化合物、多価アミド化合物として脂肪族飽和及び不飽和
ジアミド化合物のN、 N、 N: N’−テトラ−2
−メチルグリ7ジル置換化合物、芳香族及び脂環式ジア
ミド化合物のN、 N、 N: N’−テトラ−2−メ
チルグリシジル置換化合物、芳香族トリアミド化合物の
N、 N、 NCpa’。
アミド化合物には、脂肪族飽和及び不飽和モノアミド化
合物のN−モノ−2−メチルグリシジル置換及びN、N
−ジー2−メチルグリシジル置換化合物、芳香族及び脂
環式モノアミド化合物のN−モノ−2−メチルグリシジ
ル置換及びN、 N −ジー2−メチルグリシジル置換
化合物、多価アミド化合物として脂肪族飽和及び不飽和
ジアミド化合物のN、 N、 N: N’−テトラ−2
−メチルグリ7ジル置換化合物、芳香族及び脂環式ジア
ミド化合物のN、 N、 N: N’−テトラ−2−メ
チルグリシジル置換化合物、芳香族トリアミド化合物の
N、 N、 NCpa’。
にV′−ヘキサ−2−メチルグリシジル置換化合物、芳
香族テトラアミド化合物のN、 N、 NCNζN?に
ケ′(ケ“−オクタ−2−メチルグリシジル置換化合物
などがある。
香族テトラアミド化合物のN、 N、 NCNζN?に
ケ′(ケ“−オクタ−2−メチルグリシジル置換化合物
などがある。
更に、脂肪族飽和及び不飽和モノアミド化合物のN、N
−ジー2−メチルグリシジル置換化合物に2−メチルグ
リンドキシ基の1ケ置換した化合物、芳香族モノアミド
化合物のN、N−ジー2−メチルグリシジル置換化合物
に2−メチルグリシドキシ基の1ケ以上4ヶ迄置換した
化合物及び芳香族ジアミド化合物のN、 N、 NCN
’−テトラ−2−メチルグリシジル置換化合物に2−メ
チルグリシドキシ基の1ケ又は2ケ置換した化合物など
が含まれる。
−ジー2−メチルグリシジル置換化合物に2−メチルグ
リンドキシ基の1ケ置換した化合物、芳香族モノアミド
化合物のN、N−ジー2−メチルグリシジル置換化合物
に2−メチルグリシドキシ基の1ケ以上4ヶ迄置換した
化合物及び芳香族ジアミド化合物のN、 N、 NCN
’−テトラ−2−メチルグリシジル置換化合物に2−メ
チルグリシドキシ基の1ケ又は2ケ置換した化合物など
が含まれる。
また、脂肪族飽和、芳香族及び脂環式モノアミド化合物
のN、N−ジー2−メチルグリシジル置換化合物にN、
N−ジー2−メチルグリシジルアミノ基が1ケ又は2ケ
置換した化合物、脂肪族飽和及び芳香族ジアミド化合物
のN、 N、 N: N’−テトラ−2−メチルグリシ
ジル置換化合物にN、 N−ジー2−メチルグリシジル
アミン基が1ケ又は2ケ置換した化合物及び尿素のNI
NI K ”−テトラ−2−メチルグリシジル置換化
合物なども含まれる。
のN、N−ジー2−メチルグリシジル置換化合物にN、
N−ジー2−メチルグリシジルアミノ基が1ケ又は2ケ
置換した化合物、脂肪族飽和及び芳香族ジアミド化合物
のN、 N、 N: N’−テトラ−2−メチルグリシ
ジル置換化合物にN、 N−ジー2−メチルグリシジル
アミン基が1ケ又は2ケ置換した化合物及び尿素のNI
NI K ”−テトラ−2−メチルグリシジル置換化
合物なども含まれる。
本発明の化合物を最も効率よく製造する方法として、先
に提供したN−置換アミド化合物の製造方法を採用する
ことができる。すなわち、強塩基性物質の存在下、非プ
ロトン性溶媒中−〇アミド化合物と・・ロゲン置換化合
物とを反応させて、N −穐換アミド化合物を製造する
方法である。その方法に16いて、)・ロゲン置換化合
物としてβ−メメチエビーハロドリンまたはジハロ−β
−メチルプロパツールを使用すると、2−メチルグリシ
ジルが置換したN−置換アミド化合物が製造され←る。
に提供したN−置換アミド化合物の製造方法を採用する
ことができる。すなわち、強塩基性物質の存在下、非プ
ロトン性溶媒中−〇アミド化合物と・・ロゲン置換化合
物とを反応させて、N −穐換アミド化合物を製造する
方法である。その方法に16いて、)・ロゲン置換化合
物としてβ−メメチエビーハロドリンまたはジハロ−β
−メチルプロパツールを使用すると、2−メチルグリシ
ジルが置換したN−置換アミド化合物が製造され←る。
また、ノ・ロゲン■〆換化合物としてβ−メチルエピハ
ロヒドリンまたはジノ・ローβ−メチルプロパノールと
ともに、アルキルノ・ライド、アルケニルハライドおよ
びアリールノ・ライドのうち1種を選んで反応させると
、2−メチルグリシジル基とともにそれらハロゲン置換
化合物に対応する残基の導入されたN,N−二置換アミ
ド化合物を製造することができる。
ロヒドリンまたはジノ・ローβ−メチルプロパノールと
ともに、アルキルノ・ライド、アルケニルハライドおよ
びアリールノ・ライドのうち1種を選んで反応させると
、2−メチルグリシジル基とともにそれらハロゲン置換
化合物に対応する残基の導入されたN,N−二置換アミ
ド化合物を製造することができる。
また、先の方法よりも目的生成物の収率は低下するが、
以下の方法によっても製造できる。
以下の方法によっても製造できる。
すなわち、非プロトン性溶媒中において、強塩基性物質
とアミド化合物とを予め反応させた後、ハロゲン置換(
11合物を導入してN−置換アミド化合物を製造する方
法、またアミド化合物とハロゲン置換化合物とを相間移
動反応を利用して反応させてN−置換アミド化合物を製
造する方法、或いは脱ハロゲン化水素触媒としてフッ素
イオンを使用してNf9.、換アミド化合物を製造する
方法等を挙げることができる。
とアミド化合物とを予め反応させた後、ハロゲン置換(
11合物を導入してN−置換アミド化合物を製造する方
法、またアミド化合物とハロゲン置換化合物とを相間移
動反応を利用して反応させてN−置換アミド化合物を製
造する方法、或いは脱ハロゲン化水素触媒としてフッ素
イオンを使用してNf9.、換アミド化合物を製造する
方法等を挙げることができる。
以下に本発明の詳細な説明する。
本発明の化合物はモノアミド化合物のN−2 −メチル
グリシジル置換化合物、ジアミド化合物/以上の多価ア
ミド化合物のN−2−メチルグリシジル置換化合物、水
酸基置換モノアミド化合物のN−2−メチルグリ/ジル
置換2−メチルグリシジルエーテル化合物、水酸基置換
ジアミド化合物のN−2−メチルグリシジル置換2−メ
チルグリシジルエーテル化合物、アミン基置換モノ゛ア
ミド化合物のN−2−メチルグリシジル置換化合物、ア
ミノ基置換ジアミド化合物のN−2−メチルグリシジル
置換化合物などに分類される。
グリシジル置換化合物、ジアミド化合物/以上の多価ア
ミド化合物のN−2−メチルグリシジル置換化合物、水
酸基置換モノアミド化合物のN−2−メチルグリ/ジル
置換2−メチルグリシジルエーテル化合物、水酸基置換
ジアミド化合物のN−2−メチルグリシジル置換2−メ
チルグリシジルエーテル化合物、アミン基置換モノ゛ア
ミド化合物のN−2−メチルグリシジル置換化合物、ア
ミノ基置換ジアミド化合物のN−2−メチルグリシジル
置換化合物などに分類される。
モノアミド化合物のN−2−メチルグリシジル置換化合
物として、一般式(1)で示されるモノ−2=メチルグ
リシジル化合物と一般式(2)で示されるジー2−メチ
ルグリシジル置換化合物とがある。
物として、一般式(1)で示されるモノ−2=メチルグ
リシジル化合物と一般式(2)で示されるジー2−メチ
ルグリシジル置換化合物とがある。
上式でR1はアルキル基、アルケニル基、アリール基ま
たは脂環式基である。アルキル基は一般式賜ll2n+
]−で表わされ、ηは0〜20の整数である。アルクニ
ル基は一般式071JI2□−1−で表わされ、nは2
〜20の整数である。アリール基は芳香環を含む置換基
であり、アリールアルキル基、アリールアルケニル基も
含む。芳香環としてベンゼン環、ナフタレン環およびア
ントラセン環などが適用できる。脂環式基は脂環式構造
を含む置換基である。
たは脂環式基である。アルキル基は一般式賜ll2n+
]−で表わされ、ηは0〜20の整数である。アルクニ
ル基は一般式071JI2□−1−で表わされ、nは2
〜20の整数である。アリール基は芳香環を含む置換基
であり、アリールアルキル基、アリールアルケニル基も
含む。芳香環としてベンゼン環、ナフタレン環およびア
ントラセン環などが適用できる。脂環式基は脂環式構造
を含む置換基である。
また、上記置換基の炭化水素部位にハロゲン原子の一種
以上が一つ以上導入されたものも対象となる。
以上が一つ以上導入されたものも対象となる。
一方、一般式(1)中のR2はアルキル基、アルケニル
基またはアリール基であり、アルキル基は一般式071
142n−1−、−で表わされ、nは整数で1〜20で
ある。アルケニル基は一般式−42n−1−で表わされ
、nは整数で2〜20である。アリール基は芳香環を含
む置換基であり、アリールアルキル基、アリールアルケ
ニル基も含む。芳香環としてベンゼン環、ナフタレン環
およびアントラセン環などが適用できる。
基またはアリール基であり、アルキル基は一般式071
142n−1−、−で表わされ、nは整数で1〜20で
ある。アルケニル基は一般式−42n−1−で表わされ
、nは整数で2〜20である。アリール基は芳香環を含
む置換基であり、アリールアルキル基、アリールアルケ
ニル基も含む。芳香環としてベンゼン環、ナフタレン環
およびアントラセン環などが適用できる。
名器アミド化合物のうち、ジアミド化合物のN−2−メ
チルグリシジル置換化合物は一般式(3)で示さ、11
ろ。
チルグリシジル置換化合物は一般式(3)で示さ、11
ろ。
IL+ ハアルキレン基、アルケニレン基、アリーレン
基または脂環式基である。アルキレン基は一般式H%+
、I+2.y+−で表わされ、nは整数で0〜20であ
る。
基または脂環式基である。アルキレン基は一般式H%+
、I+2.y+−で表わされ、nは整数で0〜20であ
る。
アルケニレン基は一般式一〇yzH27L2−で表わさ
れ、ηは整数で2〜20である。
れ、ηは整数で2〜20である。
アリーレン基は芳香環を含む置換基であり、アリールア
ルキル基、アリールアルケニル基も含む。
ルキル基、アリールアルケニル基も含む。
芳香環としてベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン
環などが適用できる。脂環式基は脂環式構造を含む構造
である。
環などが適用できる。脂環式基は脂環式構造を含む構造
である。
上記置換基の炭化水素部位にハロゲン原子の一種以」二
が一つ以上導入されたものも対象となる。
が一つ以上導入されたものも対象となる。
トリアミド化合物のN−2−メチルグリシジル置換化合
物は一般式(4)で表わされる。
物は一般式(4)で表わされる。
R1は芳香環または脂環式基であり、芳香環としてナフ
タレン環およびアントラセン環などを適用できる。また
、芳香環にハロゲン原子の一種以上が一つ以上置換した
ものもテトラアミド化合物のN−2−メチルグリシジル
置換化合物は一般式(5)で表わされる。
タレン環およびアントラセン環などを適用できる。また
、芳香環にハロゲン原子の一種以上が一つ以上置換した
ものもテトラアミド化合物のN−2−メチルグリシジル
置換化合物は一般式(5)で表わされる。
Itlは芳香環または脂環式基であり、芳香環としてベ
ンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環などが適用で
きる。また、芳香環にハロゲン原子の一種以上が一つ以
上置換したものも対象となる。
ンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環などが適用で
きる。また、芳香環にハロゲン原子の一種以上が一つ以
上置換したものも対象となる。
水酸基置換モノアミド化合物のN−2−メチルグリシジ
ル置換2−メチルグリシジルエーテル化合物は一般式(
6)で表わされる。
ル置換2−メチルグリシジルエーテル化合物は一般式(
6)で表わされる。
ガは1〜4の整数であり、n−1のときR1はアルキレ
ン基、アルケニレン基、アリーレン基である。
ン基、アルケニレン基、アリーレン基である。
η=2〜4のときは、R1は芳香環を示し、ベンゼン環
、ナフタレン環、アントラセン環などが適用できる。
、ナフタレン環、アントラセン環などが適用できる。
アルキレン基は一般式一〇yJ(2y+−で表わされ、
72=1〜20の整数である。アルケニレン基は、一般
式一011.1(2□−2寸′で表わされ、礼=2〜2
0の整数である。アリーレン基は芳香環を含む置換基で
あり、芳香環としてベンゼン環、ナフタレン環、アント
ラセン環などが適用できる。また、上記置換基の炭化水
素部位に〕・ロゲン原子の一種以上が一つ以上置換した
ものも対象となる。
72=1〜20の整数である。アルケニレン基は、一般
式一011.1(2□−2寸′で表わされ、礼=2〜2
0の整数である。アリーレン基は芳香環を含む置換基で
あり、芳香環としてベンゼン環、ナフタレン環、アント
ラセン環などが適用できる。また、上記置換基の炭化水
素部位に〕・ロゲン原子の一種以上が一つ以上置換した
ものも対象となる。
水酸基置換ジアミド化合物のN −2−メチルグリシジ
ル置換2−メチルグリシジルエーテル化合物は一般式(
7)で表わされる。
ル置換2−メチルグリシジルエーテル化合物は一般式(
7)で表わされる。
フ1は1及び2の整数であり、it〕は芳香環を示し、
ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環などが適用
できる。また、上記的“挽茶の炭化水素部位にハロゲン
原子の一種以上が一つ以上置換したものも対象となる。
ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環などが適用
できる。また、上記的“挽茶の炭化水素部位にハロゲン
原子の一種以上が一つ以上置換したものも対象となる。
アミノ基置換モノアミド化合物のN−2−メチルグリシ
ジル置換アミド化合物は一般式(8)で表される。
ジル置換アミド化合物は一般式(8)で表される。
ηは1及び2の整数であり、R1はアルキレン基、アリ
ーレン基または脂環式基である。アルキレン基は一般式
一%112□−で表わされ、九二1〜2゜の整数である
。アリーレン基は芳香環を含む置換基でありアリールア
ルキル基も含む。芳香環としてベンゼン環、ナフタレン
環、アントラセン環などが適用できる。脂環式基は脂環
式構造を含む置換基である。また、上記置換基の炭化水
素部位にハロゲン原子の一種以上が一つ以上置換したも
のも対象となる。
ーレン基または脂環式基である。アルキレン基は一般式
一%112□−で表わされ、九二1〜2゜の整数である
。アリーレン基は芳香環を含む置換基でありアリールア
ルキル基も含む。芳香環としてベンゼン環、ナフタレン
環、アントラセン環などが適用できる。脂環式基は脂環
式構造を含む置換基である。また、上記置換基の炭化水
素部位にハロゲン原子の一種以上が一つ以上置換したも
のも対象となる。
アミノ基置換ジアミド化合物のN−2−メチルグリシジ
ル置換化合物は一般式(9)で表わされる。
ル置換化合物は一般式(9)で表わされる。
(9)
nは1及び2の整数であり、几1は芳香環であり芳香昭
としてベンゼン環、ナフタレン環およびアントラセン上
uなどが適用できる。また、芳香環にハロゲン原子の一
種以上が一つ以上置換したものも対象となる。
としてベンゼン環、ナフタレン環およびアントラセン上
uなどが適用できる。また、芳香環にハロゲン原子の一
種以上が一つ以上置換したものも対象となる。
また、その他に尿素のN−2−メチルグリシジル置換ア
ミド化合物として、N、 N、 g N’−テトラ−2
−メチルグリシジル1ボ素も含まれろ。
ミド化合物として、N、 N、 g N’−テトラ−2
−メチルグリシジル1ボ素も含まれろ。
以−fに本発明の化合物の代表例につき例示する。
モノアミド化合物のN−2−メチルグリシジル置換アミ
ド化合物として、N−モノ−2−メチルグリシジル置換
化合物では例えば、N−メチル−N−2−メチルグリシ
ジルアセトアミド、N−エチル−N−2−メチルグリシ
ジルホルムアミド、N−ブチル−N−2−メチルグリシ
ジルプロピオアミド、N−メチル−N−’2−メチルグ
リシジルステラミド、N−デシル−N−2−メチルグリ
シジルラウラミド、N−ステアリル−N−2−メチルグ
リシジルプロピオアミド、N−アリル−N−2−メチル
グリシジルアセトアミド、N−メタリル−N−2−メチ
ルグリシジルプロピオアミド、N −ブテニル−N−2
−メチルグリシジルホルムアミド、N−へキモニル−N
−2−メチルグリシジルステラミド、N−ベンジル−N
−2−メチルグリンジルホルムアミ ド、N−フェネチ
ル−N−2−メチルグリシジルアセトアミド ロピルーN − 2−メチルグリシジルプロピオアミド
、N−シンナミル−N−2−メチルクリシシルラウラミ
ド、N−メチル−N−2−メチルグリシジルアクリルア
ミド、N−メチル−N−2−メチルグリシジルメタクリ
ルアミド、N−エチル−N−2−メチルグリシジルクロ
トナミド、N−ブチル−N−2−メチルグリシジルアク
リルアミド、N−メチル−N−2−メチルグリシジルデ
セナミド、N−ダンルーN−2−メチルグリシジルプテ
ナミド、N−ステアリル−N−2−メチルグリシジルク
ロトナミド、N−アリル−N−2−メチルグリシジルア
クリルアミド、N−アリル−N−2メチルグリシジルメ
タクリルアミド、N−メタリル−N−2−メチルグリシ
ジルクロトナミド、N−ブテニル−N−2−メチルグリ
シジルメタクリルアミド、N−へキモニル−N−2−メ
チルグリシジルデセナミド、N−ベンジル−N−2−メ
チルグリシジルアクリルアミド、N−フェネチル−N−
2−メチルグリシジルアクリルアミド、N −フェネチ
ル−N−2−メチルグリシジルクロトアミド、N−フェ
ニルプロピル−N−2−メチルグリシジルメタクリルア
ミド、N−シンナミル−N−2−メチルグリシジルデセ
ナミド、N−メチル−N−2−メチルグリシジルベンズ
アミド、N−エチル−N−2−メチルグリシジルトリア
ミド、N −フチ# −N −2−メチルグリシジルフ
ェニルアセトアミド、N−メチル−N−2−メチルグリ
シジルシンナマミド、N−デシル−N 、−2−メチル
グリシジルナフタレンカルボキサミド、N−ステアリル
−N−2−メチルグリシジルアントラセンカルボキサミ
ド、N−アリル−N−2−メチルグリシジルベンズアミ
ド、N−メタリル−N−2−メチルグリシジ)v )リ
ルアミド、N−ブテニル−N−2−メチルグリシジルフ
ェニルアセトアミド、N−へキモニル−N−2−メチル
グリシジルアリルベンズアミド、N−ベンジル−N−2
−メチルグリシジルベンズアミド、N−フェネチル−N
−2−メチルグリシジルトリアミド、N−ベンジル−N
−2−メチルグリシジルシンナマミド、N−フェニルプ
ロピル−N−2−メチルグリシジルフェニルアセトアミ
ド、N−メチル−N−2−メチルグリシジルシクロヘキ
サンカルボキサミド、N−エチル−N−2−メチルグリ
シジルシクロへキシルアセトアミド、N−ブチル−N−
2−メチルグリシジルシクロヘキサンカルボキサミド、
N−デシル−N−2−メチル−グリシジルシクロへキシ
ルアセトアミド、N−アリル−N−2−メチルグリシジ
ルシクロヘキサンカルボキサミド、N−メタリル−N−
2−メチルグリシジルシクロへキシルアセトアミド、N
−ベンジル−N −2=メチルグリシジルシクロヘキサ
ンカルボキサミド、N−7エネチルーN−2−メチルグ
リシジルシクロへキシルアセトアミドなどがあげられる
。
ド化合物として、N−モノ−2−メチルグリシジル置換
化合物では例えば、N−メチル−N−2−メチルグリシ
ジルアセトアミド、N−エチル−N−2−メチルグリシ
ジルホルムアミド、N−ブチル−N−2−メチルグリシ
ジルプロピオアミド、N−メチル−N−’2−メチルグ
リシジルステラミド、N−デシル−N−2−メチルグリ
シジルラウラミド、N−ステアリル−N−2−メチルグ
リシジルプロピオアミド、N−アリル−N−2−メチル
グリシジルアセトアミド、N−メタリル−N−2−メチ
ルグリシジルプロピオアミド、N −ブテニル−N−2
−メチルグリシジルホルムアミド、N−へキモニル−N
−2−メチルグリシジルステラミド、N−ベンジル−N
−2−メチルグリンジルホルムアミ ド、N−フェネチ
ル−N−2−メチルグリシジルアセトアミド ロピルーN − 2−メチルグリシジルプロピオアミド
、N−シンナミル−N−2−メチルクリシシルラウラミ
ド、N−メチル−N−2−メチルグリシジルアクリルア
ミド、N−メチル−N−2−メチルグリシジルメタクリ
ルアミド、N−エチル−N−2−メチルグリシジルクロ
トナミド、N−ブチル−N−2−メチルグリシジルアク
リルアミド、N−メチル−N−2−メチルグリシジルデ
セナミド、N−ダンルーN−2−メチルグリシジルプテ
ナミド、N−ステアリル−N−2−メチルグリシジルク
ロトナミド、N−アリル−N−2−メチルグリシジルア
クリルアミド、N−アリル−N−2メチルグリシジルメ
タクリルアミド、N−メタリル−N−2−メチルグリシ
ジルクロトナミド、N−ブテニル−N−2−メチルグリ
シジルメタクリルアミド、N−へキモニル−N−2−メ
チルグリシジルデセナミド、N−ベンジル−N−2−メ
チルグリシジルアクリルアミド、N−フェネチル−N−
2−メチルグリシジルアクリルアミド、N −フェネチ
ル−N−2−メチルグリシジルクロトアミド、N−フェ
ニルプロピル−N−2−メチルグリシジルメタクリルア
ミド、N−シンナミル−N−2−メチルグリシジルデセ
ナミド、N−メチル−N−2−メチルグリシジルベンズ
アミド、N−エチル−N−2−メチルグリシジルトリア
ミド、N −フチ# −N −2−メチルグリシジルフ
ェニルアセトアミド、N−メチル−N−2−メチルグリ
シジルシンナマミド、N−デシル−N 、−2−メチル
グリシジルナフタレンカルボキサミド、N−ステアリル
−N−2−メチルグリシジルアントラセンカルボキサミ
ド、N−アリル−N−2−メチルグリシジルベンズアミ
ド、N−メタリル−N−2−メチルグリシジ)v )リ
ルアミド、N−ブテニル−N−2−メチルグリシジルフ
ェニルアセトアミド、N−へキモニル−N−2−メチル
グリシジルアリルベンズアミド、N−ベンジル−N−2
−メチルグリシジルベンズアミド、N−フェネチル−N
−2−メチルグリシジルトリアミド、N−ベンジル−N
−2−メチルグリシジルシンナマミド、N−フェニルプ
ロピル−N−2−メチルグリシジルフェニルアセトアミ
ド、N−メチル−N−2−メチルグリシジルシクロヘキ
サンカルボキサミド、N−エチル−N−2−メチルグリ
シジルシクロへキシルアセトアミド、N−ブチル−N−
2−メチルグリシジルシクロヘキサンカルボキサミド、
N−デシル−N−2−メチル−グリシジルシクロへキシ
ルアセトアミド、N−アリル−N−2−メチルグリシジ
ルシクロヘキサンカルボキサミド、N−メタリル−N−
2−メチルグリシジルシクロへキシルアセトアミド、N
−ベンジル−N −2=メチルグリシジルシクロヘキサ
ンカルボキサミド、N−7エネチルーN−2−メチルグ
リシジルシクロへキシルアセトアミドなどがあげられる
。
まlこ、N、N−ジー2−メチルグリシジル置換化合物
では、例えばN、 N−ジー2−メチルグリシジルホル
ムアミド、N、N−ジー2−メチルグリシジルアセトア
ミド、N、N−ジー2−メチルグリシジルプロピオアミ
ド、N、N−ジー2−メチルグリシジルブチラミド、N
、N−ジー2−メチルグリシジルブチラミド、N、 N
−ジー2−メチルグリシジルクロロアセトアミド、N、
N−2−メチルグリシジルクロロプロピオアミド、N、
N−ジー2−メチルグリシジルジクロロアミド、N、N
−ジー2−メチルグリシジルアクリルアミド、N、N−
ジー2−メチルグリシジルメタクリルアミド、N、N−
ジー2−メチルグリシジルクロトナミド、N、 N−ジ
ー2−メチルジグリシジルビニルアセトアミド、N、
N −ジー2−メチルグリシジルデセナミド、N、 N
−ジー2−メチルグリシジルアセトアミド、N、 N
−ジー2−メチルグリシジルクロルアクリルアミド、N
、N−)−2−メチルグリシジルベンズアミド、N、N
−ジー2−メチルグリシジルナフタレンカルボキサミド
、N、N−ジー2−メチルグリシジルアントラセンカル
ボキサミド、N、 N−ジー2−メチルグリシジルトリ
ルアミド、N、N−ジー2−メチルグリシジルフェール
アセトアミド、N、N−ジー2−メチルグリシジルクロ
ロプロピオアミド、N、N−ジー2−メチルグリシジル
フェニルデカナミド、N、 N−ジー2−メチルグリシ
ジルフェニルアクリルアミド、N、N−ジー2−メチル
グリシジルベンジルアクリルアミド、N、 N−ジー2
−メチルグリシジルシンナマミド、N、N−ジー2−メ
チルグリ/ジルアリルベンズアミド、N、N−ジー2.
− メチルグリシジルクロロベンズアミド、N、 N
−ジー2−メチルグリシジルジクロロベンズアミド、N
、N−ジー2−メチルグリシジルクロロブロモベンズ−
アミド、N、N−ジー2−メチルグリシジルシクロブタ
ンカルボキサミド、N、N−ジー2−メチルグリシジル
シクロペンクンカルボキサミド、N、N−ジー2−メチ
ルグリシジルシクロヘキサンカルボキサミド、N、 N
−ジー2−メチルグリシジJL/ ’/ クロペンタン
カルボキサミド、N、 N −) −2=メチルグリシ
ジルシクロへキシルアセトアミド、N、N−ジー2−メ
チルグリシジルシクロへキシルアセトアミド、N、N−
ジー?−メチルグリシジルシクロへキセン力ルポキサミ
ド、N、N−ジー2−メチルグリシジルシクロへキサジ
エン力ルポキザミド、N、 N−ジー2−メチルグリシ
ジルシクロペンチルフェニルアセトアミドなどがあげら
れる。
では、例えばN、 N−ジー2−メチルグリシジルホル
ムアミド、N、N−ジー2−メチルグリシジルアセトア
ミド、N、N−ジー2−メチルグリシジルプロピオアミ
ド、N、N−ジー2−メチルグリシジルブチラミド、N
、N−ジー2−メチルグリシジルブチラミド、N、 N
−ジー2−メチルグリシジルクロロアセトアミド、N、
N−2−メチルグリシジルクロロプロピオアミド、N、
N−ジー2−メチルグリシジルジクロロアミド、N、N
−ジー2−メチルグリシジルアクリルアミド、N、N−
ジー2−メチルグリシジルメタクリルアミド、N、N−
ジー2−メチルグリシジルクロトナミド、N、 N−ジ
ー2−メチルジグリシジルビニルアセトアミド、N、
N −ジー2−メチルグリシジルデセナミド、N、 N
−ジー2−メチルグリシジルアセトアミド、N、 N
−ジー2−メチルグリシジルクロルアクリルアミド、N
、N−)−2−メチルグリシジルベンズアミド、N、N
−ジー2−メチルグリシジルナフタレンカルボキサミド
、N、N−ジー2−メチルグリシジルアントラセンカル
ボキサミド、N、 N−ジー2−メチルグリシジルトリ
ルアミド、N、N−ジー2−メチルグリシジルフェール
アセトアミド、N、N−ジー2−メチルグリシジルクロ
ロプロピオアミド、N、N−ジー2−メチルグリシジル
フェニルデカナミド、N、 N−ジー2−メチルグリシ
ジルフェニルアクリルアミド、N、N−ジー2−メチル
グリシジルベンジルアクリルアミド、N、 N−ジー2
−メチルグリシジルシンナマミド、N、N−ジー2−メ
チルグリ/ジルアリルベンズアミド、N、N−ジー2.
− メチルグリシジルクロロベンズアミド、N、 N
−ジー2−メチルグリシジルジクロロベンズアミド、N
、N−ジー2−メチルグリシジルクロロブロモベンズ−
アミド、N、N−ジー2−メチルグリシジルシクロブタ
ンカルボキサミド、N、N−ジー2−メチルグリシジル
シクロペンクンカルボキサミド、N、N−ジー2−メチ
ルグリシジルシクロヘキサンカルボキサミド、N、 N
−ジー2−メチルグリシジJL/ ’/ クロペンタン
カルボキサミド、N、 N −) −2=メチルグリシ
ジルシクロへキシルアセトアミド、N、N−ジー2−メ
チルグリシジルシクロへキシルアセトアミド、N、N−
ジー?−メチルグリシジルシクロへキセン力ルポキサミ
ド、N、N−ジー2−メチルグリシジルシクロへキサジ
エン力ルポキザミド、N、 N−ジー2−メチルグリシ
ジルシクロペンチルフェニルアセトアミドなどがあげら
れる。
また、多価アミド化合物のN−2−メチルグリシジル置
換アミド化合物では、例えばN、 N、 N; N’
−テトラ−2−メチルグリシジルマレアミド、N、 N
。
換アミド化合物では、例えばN、 N、 N; N’
−テトラ−2−メチルグリシジルマレアミド、N、 N
。
N/ N/−テトラ−2−メチルグリシジルマロナミド
、N、 N、 N’、 N’−テトラ−2−メチルグリ
シジルマレアミド、N、 N、 N: N’−テトラ−
2−メチルグリシジルマレアミド、N、 N、 N;
N’−テトラ−2−メチルグリンジルアジパミド、N、
N、 NCN’−テトラ−2−メチルグリシジルマレ
アミド、N、 N、 NCN′−テトラ−2−メチルグ
リシジルマレアミド、N、 N、 N: N’−テトラ
−2−メチルグリシジルマレアミド、N、 N、 鴎N
’−テトラー2−メチルグリシジルセバサミド、N、
N、 NCN’−テトラ−2−メチルグリシジルオクタ
デカンジカルボキサミド、N。
、N、 N、 N’、 N’−テトラ−2−メチルグリ
シジルマレアミド、N、 N、 N: N’−テトラ−
2−メチルグリシジルマレアミド、N、 N、 N;
N’−テトラ−2−メチルグリンジルアジパミド、N、
N、 NCN’−テトラ−2−メチルグリシジルマレ
アミド、N、 N、 NCN′−テトラ−2−メチルグ
リシジルマレアミド、N、 N、 N: N’−テトラ
−2−メチルグリシジルマレアミド、N、 N、 鴎N
’−テトラー2−メチルグリシジルセバサミド、N、
N、 NCN’−テトラ−2−メチルグリシジルオクタ
デカンジカルボキサミド、N。
N、 I’ll? N’−テトラ−2−メチルグリシジ
ルマレアミド、N、 N、 N: N’−テトラ−2−
メチルグリシジルマレアミド、N、N、NCN’−テト
ラ−2−Jfルグリシジルシトラコナミド、N、 N、
NCN’−テトラ−2−メチルグリシジルマレアミド
、N、 N、 N?N′−テトラ−2−メチルグリシジ
ルデセンジカルボキサミド、N、 N、 N; N’−
テトラ−2−メチルグリシジルオクタデセンジ力ルポキ
サミド、N、 N、’NζN′NζNジー2−メチルグ
リシジルフタラミド、N、 N、 NCN’−テトラ−
2−メチルグリシジルイソフタラミド、N、 N、 N
: N’−テトラ−2−メチルグリシジルテレフタラミ
ド、N、 N、 NζN′−テトラ−2−メチルグリシ
ジルナフタレンジカルボキサミド、N、 N、 NζN
′−テトラ−2−メチルグリシジルアントラセンジ力ル
ポキサミド、N、 N、 N’、 N’−テ)シー2−
メチルクリシジル力ルバモイルフェニルアセトアミド、
N、 N、 N; N’−テトラ−2−メチルグリシジ
ルフェニルシトラコナミド、N、 N、 NCN′−テ
トラ−2−メチルグリシジルシフエナミド、N、 N、
N’、 N’−テトラ−2−メチルグリシジルクロロ
ベンズアミド、N、 N、 NCN’−テトラ−2−メ
チルグリンジルプロモイソフタラミド、N、 N、 N
:N’−テトラ−2−メチルグリシジルシクロブタンカ
ルボキサミド、N、 N、 N’、 N’−テトラ−2
−メチルグリシジルシクロペンタンジ力ルポキサミド、
N、 N、 NCN’−テトラ−2−メチルグリシジル
シクロヘキサンカルボキサミド、N、 N、 N’、
N’−テトラ−2−メチルグリシジルシクロブタンカル
ボキサミド、N、 N、 NCN’−テトラ−2−メチ
ルグリシジルシクロヘキセン・ジカルボキサミド、
N、 N、 N: N’ −テトラ−2−メチルグリ/
ジルカンホラミド、N。
ルマレアミド、N、 N、 N: N’−テトラ−2−
メチルグリシジルマレアミド、N、N、NCN’−テト
ラ−2−Jfルグリシジルシトラコナミド、N、 N、
NCN’−テトラ−2−メチルグリシジルマレアミド
、N、 N、 N?N′−テトラ−2−メチルグリシジ
ルデセンジカルボキサミド、N、 N、 N; N’−
テトラ−2−メチルグリシジルオクタデセンジ力ルポキ
サミド、N、 N、’NζN′NζNジー2−メチルグ
リシジルフタラミド、N、 N、 NCN’−テトラ−
2−メチルグリシジルイソフタラミド、N、 N、 N
: N’−テトラ−2−メチルグリシジルテレフタラミ
ド、N、 N、 NζN′−テトラ−2−メチルグリシ
ジルナフタレンジカルボキサミド、N、 N、 NζN
′−テトラ−2−メチルグリシジルアントラセンジ力ル
ポキサミド、N、 N、 N’、 N’−テ)シー2−
メチルクリシジル力ルバモイルフェニルアセトアミド、
N、 N、 N; N’−テトラ−2−メチルグリシジ
ルフェニルシトラコナミド、N、 N、 NCN′−テ
トラ−2−メチルグリシジルシフエナミド、N、 N、
N’、 N’−テトラ−2−メチルグリシジルクロロ
ベンズアミド、N、 N、 NCN’−テトラ−2−メ
チルグリンジルプロモイソフタラミド、N、 N、 N
:N’−テトラ−2−メチルグリシジルシクロブタンカ
ルボキサミド、N、 N、 N’、 N’−テトラ−2
−メチルグリシジルシクロペンタンジ力ルポキサミド、
N、 N、 NCN’−テトラ−2−メチルグリシジル
シクロヘキサンカルボキサミド、N、 N、 N’、
N’−テトラ−2−メチルグリシジルシクロブタンカル
ボキサミド、N、 N、 NCN’−テトラ−2−メチ
ルグリシジルシクロヘキセン・ジカルボキサミド、
N、 N、 N: N’ −テトラ−2−メチルグリ/
ジルカンホラミド、N。
N、 N: NCに団′−ヘキサー2−メチルグリシジ
ルベンゼントリカルポキサミド、N、 N、 N’、
NCNCtr′−ヘキサ−2−メチルグリシジルナフタ
レントリカルボキサミド、N、 N、 N: N?碩N
l/−へギザ−2−メチルグリシジルトルエントリカル
ボキサミド、N、 N。
ルベンゼントリカルポキサミド、N、 N、 N’、
NCNCtr′−ヘキサ−2−メチルグリシジルナフタ
レントリカルボキサミド、N、 N、 N: N?碩N
l/−へギザ−2−メチルグリシジルトルエントリカル
ボキサミド、N、 N。
N; N:に虻−ヘキサ−2−メチルグリシジルクロル
ベンゼントリカルボキサミド、N、 N、 N: I’
ll?にf−ヘキサ−2−メチルグリシジルシクロヘキ
サントリカルボキサミド、N、 N、 N: N:にd
J団″r′−オクタ−2−メチルグリシジルピロメリツ
タアミド、N。
ベンゼントリカルボキサミド、N、 N、 N: I’
ll?にf−ヘキサ−2−メチルグリシジルシクロヘキ
サントリカルボキサミド、N、 N、 N: N:にd
J団″r′−オクタ−2−メチルグリシジルピロメリツ
タアミド、N。
N、 NCN: pl’、又Ml/ 、 Ml/−オク
タ−2−メチルグリシジルナフタレンテトラカルボキサ
ミド、N、 N、 NCN’、 pJj鴎N’:’ n
″−オクタ−2−メチルグリシジルシクロへブタンテト
ラカルボキサミドなどがある。
タ−2−メチルグリシジルナフタレンテトラカルボキサ
ミド、N、 N、 NCN’、 pJj鴎N’:’ n
″−オクタ−2−メチルグリシジルシクロへブタンテト
ラカルボキサミドなどがある。
一方、水1賀基置換モノアミド化合物(D N−2−メ
チルグリシジル置換2−メチルグリ7ジル工−テル化合
物では、例えばN、N−ジー2−メチルグリシジル−2
−メチルグリ7ドキシグロピオアミド、N、 N−ジー
2−メチルグリシジル−2−メチルグリ/ドキ/ジフェ
ニルアセトアミド、N、 N−ジー2−メチルグリ7ジ
ルー2−メチルグリシドキシブチラミド、N、 N−ジ
ー2−メチルグリシジル−2−メチルグリシドキシへブ
タナミド、N、N−ジー2−メチルグリシジル−2−メ
チルグリシドキシデカナミド、N、N−ジー2−メチル
グリシジル−2−メチルグリシドキシクロトナミド、N
、N−ジー2−メチルグリシジル−2−メチルグリシド
キシジメチルへブチナミド、N、N−ジー2−メチルグ
リシジル−2−メチルグリシドキシベンズアミド、N、
N−ジー 2−メチルグリ゛シジルー2−メチルグリシ
ドキ7トリルアミド、N、 N−ジー2−メチルグリシ
ジル−2−メチルグリシドキシフェニルベンズアミド、
N、N−ジー2−メチルグリシジル−2−メチルグリシ
ドキシナフタレンカルボキサミド、N、Nニジ−2−メ
チルグリシジル−ジー2−メチルグリシドキシベンズア
ミド、N、 N −ジー2−メチルグリシジルトリー2
−メチルグリシドキシベンズアミド、N、N−ジー2−
メチルグリレジルージー2−メチルグリシドキシトリル
アミドなどがある。
チルグリシジル置換2−メチルグリ7ジル工−テル化合
物では、例えばN、N−ジー2−メチルグリシジル−2
−メチルグリ7ドキシグロピオアミド、N、 N−ジー
2−メチルグリシジル−2−メチルグリ/ドキ/ジフェ
ニルアセトアミド、N、 N−ジー2−メチルグリ7ジ
ルー2−メチルグリシドキシブチラミド、N、 N−ジ
ー2−メチルグリシジル−2−メチルグリシドキシへブ
タナミド、N、N−ジー2−メチルグリシジル−2−メ
チルグリシドキシデカナミド、N、N−ジー2−メチル
グリシジル−2−メチルグリシドキシクロトナミド、N
、N−ジー2−メチルグリシジル−2−メチルグリシド
キシジメチルへブチナミド、N、N−ジー2−メチルグ
リシジル−2−メチルグリシドキシベンズアミド、N、
N−ジー 2−メチルグリ゛シジルー2−メチルグリシ
ドキ7トリルアミド、N、 N−ジー2−メチルグリシ
ジル−2−メチルグリシドキシフェニルベンズアミド、
N、N−ジー2−メチルグリシジル−2−メチルグリシ
ドキシナフタレンカルボキサミド、N、Nニジ−2−メ
チルグリシジル−ジー2−メチルグリシドキシベンズア
ミド、N、 N −ジー2−メチルグリシジルトリー2
−メチルグリシドキシベンズアミド、N、N−ジー2−
メチルグリレジルージー2−メチルグリシドキシトリル
アミドなどがある。
水酸基置換ジアミド化合物のN−2−メチルグリシジル
置換2−メチルグリシジルエーテル化合物ではN、 N
、 N: N’−1トラ−2−メチルグリシジル−2−
メチルグリシドキシブチラミド、N、 N、 N’ 。
置換2−メチルグリシジルエーテル化合物ではN、 N
、 N: N’−1トラ−2−メチルグリシジル−2−
メチルグリシドキシブチラミド、N、 N、 N’ 。
N′−テトラ−2−メチルグリシジル−2−メチルグリ
シドキシイソフタラミド、N、 N、 NCN’−テト
ラ−2−メチルグリシジル−2−メチルグリシドキシテ
レフタラミド、N、’N、 N: N’−テトラ−2−
メチルグリシジル−ジー2−メチルグリシジルフリナミ
ド、N、 N、 N: N’−テトラ−2−メチルグリ
シジル−ジ−2−メチルグリシドキシイソフタラミド、
N、 N、 N: N’−テトラ−2−メチルグリシジ
ル−ジー2−メチルグリシドキシテレフタラミドなどが
ある。
シドキシイソフタラミド、N、 N、 NCN’−テト
ラ−2−メチルグリシジル−2−メチルグリシドキシテ
レフタラミド、N、’N、 N: N’−テトラ−2−
メチルグリシジル−ジー2−メチルグリシジルフリナミ
ド、N、 N、 N: N’−テトラ−2−メチルグリ
シジル−ジ−2−メチルグリシドキシイソフタラミド、
N、 N、 N: N’−テトラ−2−メチルグリシジ
ル−ジー2−メチルグリシドキシテレフタラミドなどが
ある。
そ−
アミン基置換\ノアミド化合物のN−2−メチルグリシ
ジル置換化合物では、N、 N、 NCN’−テトラ−
2−メチルグリシジルグリシンアミド、N、 N。
ジル置換化合物では、N、 N、 NCN’−テトラ−
2−メチルグリシジルグリシンアミド、N、 N。
NCN/−テトラ−2−メチルグリシジルアラニンアミ
ド、N、N−ジー2−メチルグリシジルアミノ−NCN
/−ジー2−メチルグリシジルフリナミド、N、 N、
N’、 N’−テトラ−2−メチルグリシジルジアミ
ノ−にj−ジー2−メチルグリシジルプロビオナミド、
N、 N−ジー2−メチルグリシジルアミノW N7−
ジー2−メチルグリシジルベンズアミド、N、N−ジー
2−メチルグリシジルアミノ−NζN/−ジー2−メチ
ルグリシジルクロロベンズアミド、N、N−ジー2−メ
チルグリシジルアミノ−NCN/−ジー2−メチルグリ
シジルトリブロモベンズアミド、N、 N、 NCN’
−テトラ−2−メチルグリシジルジアミノ−にI′−ジ
ー2−メチルグリシジルベンズアミド、N、 N−ジー
2−メチルグリシジルアミノフェニル−K N’ −シ
ー 2−メチルクリシ・シルア−ヒトアミド、N、N−
ジー2−メチルグリシジルアミノフェニル−N/ N/
−ジー2−メチルグリシジルプロビオナミド、N、N−
ジー2−メチルグリシジルアミノ−W N/−ジー2−
メチルグリシジルナフタレンカルボキサミド、N、 N
−ジー2−メチルグリシジルアミノ−N: N’−ジー
2−メチルグリシジルゾクロヘキザノカルボキサミドな
どがある。
ド、N、N−ジー2−メチルグリシジルアミノ−NCN
/−ジー2−メチルグリシジルフリナミド、N、 N、
N’、 N’−テトラ−2−メチルグリシジルジアミ
ノ−にj−ジー2−メチルグリシジルプロビオナミド、
N、 N−ジー2−メチルグリシジルアミノW N7−
ジー2−メチルグリシジルベンズアミド、N、N−ジー
2−メチルグリシジルアミノ−NζN/−ジー2−メチ
ルグリシジルクロロベンズアミド、N、N−ジー2−メ
チルグリシジルアミノ−NCN/−ジー2−メチルグリ
シジルトリブロモベンズアミド、N、 N、 NCN’
−テトラ−2−メチルグリシジルジアミノ−にI′−ジ
ー2−メチルグリシジルベンズアミド、N、 N−ジー
2−メチルグリシジルアミノフェニル−K N’ −シ
ー 2−メチルクリシ・シルア−ヒトアミド、N、N−
ジー2−メチルグリシジルアミノフェニル−N/ N/
−ジー2−メチルグリシジルプロビオナミド、N、N−
ジー2−メチルグリシジルアミノ−W N/−ジー2−
メチルグリシジルナフタレンカルボキサミド、N、 N
−ジー2−メチルグリシジルアミノ−N: N’−ジー
2−メチルグリシジルゾクロヘキザノカルボキサミドな
どがある。
アミン基価換ジアミド化合物のN−グリシジル置換化合
′吻では、N、 N、 N:ベダ:HLL−ヘキサー2
−メチルグリシジルアスバルトジアミド、N、N−ジー
2−メチルグリシジルアミノ−N: N’、 rl:
N″−テトラ−2−メチルグリシジルゲルタラジアミド
、N。
′吻では、N、 N、 N:ベダ:HLL−ヘキサー2
−メチルグリシジルアスバルトジアミド、N、N−ジー
2−メチルグリシジルアミノ−N: N’、 rl:
N″−テトラ−2−メチルグリシジルゲルタラジアミド
、N。
N−ジー2−メチルグリシジルアミノ−NCNCW:げ
′−テトラー2−メチルグリシジルフタラミド、N、N
−ジー2−メチルグリシジルアミノ−NS NCにR′
−テトラ−2−メチルグリシジルイソフタラミド、N、
N−ジー2−メチルグリシジルアミノ−N’、 N’、
にM′−テトラ−2−メチルグリシジルテレフタラミド
などがある。
′−テトラー2−メチルグリシジルフタラミド、N、N
−ジー2−メチルグリシジルアミノ−NS NCにR′
−テトラ−2−メチルグリシジルイソフタラミド、N、
N−ジー2−メチルグリシジルアミノ−N’、 N’、
にM′−テトラ−2−メチルグリシジルテレフタラミド
などがある。
また、尿素のN−グリシジル置換誘導体も含まれ、例え
ばN、 N、 N’、 N’−テトラ−2−メチルグリ
シジル尿素などがある。
ばN、 N、 N’、 N’−テトラ−2−メチルグリ
シジル尿素などがある。
上記に例示した化合物のうち、低級脂肪酸アミドのN−
2−メチルグリシジル置換化合物では、蒸留等の操作に
より比較的容易に単離・精製が可能である。しかし、そ
の他のN−2−メチルグリシジルIN換化合物、特にN
、 N −;’−−2−メチルグリシジル化合物では揮
発性が非常に低(・ため、蒸留等の操作により単離が困
離である。一方、2−メチルグリシジル基は反応性に富
む置換基であり、反応系に共存するアルカリ物質の如き
反応活性な化合物と反応して、エポキシ環の開環、それ
に伴う付加縮合等の副反応が生起する。したがって、製
品のエポキシ当量は理論値より高くなり、そのズレの度
合は反応させるべきアミド化合物の反応+1″に依右し
、一般に芳香族アミド化合物のほうが理論値に近いエポ
キシ当量が得られるようである。
2−メチルグリシジル置換化合物では、蒸留等の操作に
より比較的容易に単離・精製が可能である。しかし、そ
の他のN−2−メチルグリシジルIN換化合物、特にN
、 N −;’−−2−メチルグリシジル化合物では揮
発性が非常に低(・ため、蒸留等の操作により単離が困
離である。一方、2−メチルグリシジル基は反応性に富
む置換基であり、反応系に共存するアルカリ物質の如き
反応活性な化合物と反応して、エポキシ環の開環、それ
に伴う付加縮合等の副反応が生起する。したがって、製
品のエポキシ当量は理論値より高くなり、そのズレの度
合は反応させるべきアミド化合物の反応+1″に依右し
、一般に芳香族アミド化合物のほうが理論値に近いエポ
キシ当量が得られるようである。
上記l〜だ本発明のN−2−メチルグリシジル置換アミ
ド化合物は、既存のフェニル−2−メチルグリシジルエ
ーテルの如きモノ−2−メチルグリシジルエーテル化合
物、2−メチルグリシジルメタクリレートの如きモノ−
2−メチルグリシジルエステル化合物、メチル置換型ビ
スフェノール型エボギシ樹脂に代表されるジー2−メチ
ルグリシジルエーテル化合物、テレフタル酸ジー2−メ
チルグリシジルの如きジー2−メチルグリシジルエステ
ル化合物、更にはジー2−メチルグリシジルアミン化合
物、テトラ−2−メチルグリシジルアミン化合物等のメ
チル置換型グリシジル置換化合物に対応するものであり
、これらの既存物質が通常用(・られる反応性希釈剤、
架橋剤、エポキシ化試剤、樹脂の改良剤、エポキシ樹脂
などとして接着剤、塗料用原料、電子材料関連樹脂、複
合材料バインダー等に幅広い用途を有する。
ド化合物は、既存のフェニル−2−メチルグリシジルエ
ーテルの如きモノ−2−メチルグリシジルエーテル化合
物、2−メチルグリシジルメタクリレートの如きモノ−
2−メチルグリシジルエステル化合物、メチル置換型ビ
スフェノール型エボギシ樹脂に代表されるジー2−メチ
ルグリシジルエーテル化合物、テレフタル酸ジー2−メ
チルグリシジルの如きジー2−メチルグリシジルエステ
ル化合物、更にはジー2−メチルグリシジルアミン化合
物、テトラ−2−メチルグリシジルアミン化合物等のメ
チル置換型グリシジル置換化合物に対応するものであり
、これらの既存物質が通常用(・られる反応性希釈剤、
架橋剤、エポキシ化試剤、樹脂の改良剤、エポキシ樹脂
などとして接着剤、塗料用原料、電子材料関連樹脂、複
合材料バインダー等に幅広い用途を有する。
次に本発明を実施例により更に説明ずろ。
実施例1
N、N−ジー2−メチルグリシジルプロピオナミドの製
造ニ ジメチルスルフオキシド(以下DMSOと略す)250
me中にプロピオナミド18g、β−メチルエピクロル
ヒドリン133v、水酸化ナトリウム3ogを加え、3
0°Cて5時間反応を行った。
造ニ ジメチルスルフオキシド(以下DMSOと略す)250
me中にプロピオナミド18g、β−メチルエピクロル
ヒドリン133v、水酸化ナトリウム3ogを加え、3
0°Cて5時間反応を行った。
反応後、不溶物をl″+別した後、原料及び溶媒を留去
し、残液にベンゼン200m1、蒸留水100m/!を
加え、十分撹拌した後分液し、更に水浴液層をベンゼン
100 mlで2回抽出ゝし、ベンゼン層を集め、(l
ife +Wマグネシウムで※2燥した。
し、残液にベンゼン200m1、蒸留水100m/!を
加え、十分撹拌した後分液し、更に水浴液層をベンゼン
100 mlで2回抽出ゝし、ベンゼン層を集め、(l
ife +Wマグネシウムで※2燥した。
ベンゼン層を減圧蒸留し、68〜70°O10,o4m
Jlβ留分を採取し、N、N−ジー2−メチルグリシジ
)Dプロピオナミドを35!!(収率65チ)得た。
Jlβ留分を採取し、N、N−ジー2−メチルグリシジ
)Dプロピオナミドを35!!(収率65チ)得た。
過塩素酸滴定法によりエポキシ当量を測定したところ、
108g/C2(理論値107g/lfj、)であつプ
こ。
108g/C2(理論値107g/lfj、)であつプ
こ。
実施例2〜4
表−1記載の原料、強塩基性物質、溶媒の組合せで、表
−1記載の条件で実施例1と全く同様の方法で反応を行
った。なお、実施例2及びろではフェノチアジンo、o
sgを添加して反応を行った。
−1記載の条件で実施例1と全く同様の方法で反応を行
った。なお、実施例2及びろではフェノチアジンo、o
sgを添加して反応を行った。
反応後、実施例1と全く同様の方法で処理を行い、表−
2記載の結果を得た。
2記載の結果を得た。
実施例
N−アリル−N−2−メチルグリシジルアクリルアミド
の製造: N、N−ジメチルホルムアミド(以下DMFと略す)2
50m6中にアクリルアミド1B、9、アリルクロライ
ド57g、β−メチルエピクロルヒドリン80.17、
水酸化カリウム429及びフェノチアジン0.05 り
を添加し、30°Cで5時間反応した。
の製造: N、N−ジメチルホルムアミド(以下DMFと略す)2
50m6中にアクリルアミド1B、9、アリルクロライ
ド57g、β−メチルエピクロルヒドリン80.17、
水酸化カリウム429及びフェノチアジン0.05 り
を添加し、30°Cで5時間反応した。
反応後、不溶物をン戸別した後、原料及び溶媒を留去し
、残液にベンゼン2o0m/、蒸留水100m11!を
加え、十分攪拌した後分液し、更に水溶液層をベンゼン
1011+eで2回抽出し、ベンゼンIpi ヲ、14
め、硫酸マグネシウムで乾燥した。
、残液にベンゼン2o0m/、蒸留水100m11!を
加え、十分攪拌した後分液し、更に水溶液層をベンゼン
1011+eで2回抽出し、ベンゼンIpi ヲ、14
め、硫酸マグネシウムで乾燥した。
ベンゼン層を減圧蒸留し、56〜55°O109m、m
Il p留分を採取し、N−アリル−N−2−メチルグ
リシジルを24〃(収率53係)得た。
Il p留分を採取し、N−アリル−N−2−メチルグ
リシジルを24〃(収率53係)得た。
過塩素酸滴定法によりエポキシ当量を測定したところ、
182 g/1g(理論価181 jj/=g、)であ
った。
182 g/1g(理論価181 jj/=g、)であ
った。
実施例6〜B
表−6記載の原料、強塩基性物質、溶媒の組合せで、表
−6記載の条件で実施例5と全く同様の方法で反応を行
った。
−6記載の条件で実施例5と全く同様の方法で反応を行
った。
反応後、実施例5と全く同様の方法で処理を行い、表−
4記載の結果を得た。
4記載の結果を得た。
実施例9
N、 N、 NCN’−テトラ−2−メチルグリシジル
イソフタラミドの製造: 1)M8(1250’tdにイソフタラミド21g、β
−メメチエピクロルヒドリン1ろ3g及び水酸化す]・
リウム3f’l、9を加え、3000で5時間反応を行
つjこ。
イソフタラミドの製造: 1)M8(1250’tdにイソフタラミド21g、β
−メメチエピクロルヒドリン1ろ3g及び水酸化す]・
リウム3f’l、9を加え、3000で5時間反応を行
つjこ。
反応後、不溶物をi1別した後、原料及び溶媒を留去し
、残液にベンゼン200m117J留水100m/!を
加え、十分撹拌後分液し、更に水溶液層をI OD I
II/’のベンゼンで2回抽出し、ベンゼン層を集め、
(lIle jWマグネシウムで乾燥した。
、残液にベンゼン200m117J留水100m/!を
加え、十分撹拌後分液し、更に水溶液層をI OD I
II/’のベンゼンで2回抽出し、ベンゼン層を集め、
(lIle jWマグネシウムで乾燥した。
ベンゼンを留去後、更に12000/ 2 mvlJg
で残存溶媒等の留去を行い、目的のN、 N、 NCN
’−テトラ−2−メチルグリシジルイソフタラミドを4
2g(収率8ろ係)得た。
で残存溶媒等の留去を行い、目的のN、 N、 NCN
’−テトラ−2−メチルグリシジルイソフタラミドを4
2g(収率8ろ係)得た。
過塩素酸滴定法によりエポキシ当量を測定したところ、
121 g/cg、(理論値111!!/イ、3)であ
つた。
121 g/cg、(理論値111!!/イ、3)であ
つた。
また、このものの25°Cでの屈折率を測定したところ
、1.5311であった。
、1.5311であった。
実施例10〜16
表−5記載の原料、強塩基性物質、溶媒の組合ぜて、表
−5記載の条件で実施例9と全く同様の方法で反応を行
つtこ。
−5記載の条件で実施例9と全く同様の方法で反応を行
つtこ。
反応後、実施例9と全く同様の方法で処理を行℃・、表
−5記載の結果を得た。
−5記載の結果を得た。
実施例17
実施例12で製造したN、N−ジー2−メチルグリ/ジ
ル−p−2−メチルグリシドキシベンズアミドを使用し
、下記の配合体で;a板の接着試験を行つノこ。
ル−p−2−メチルグリシドキシベンズアミドを使用し
、下記の配合体で;a板の接着試験を行つノこ。
・配合
N、N−ジー2−メチルグリシジル−p、−2−メチル
グリシドギノペンズアミド100部、ジ゛シアンジアミ
ド5部、エコジル2部を6本ロールで十分混練した。
グリシドギノペンズアミド100部、ジ゛シアンジアミ
ド5部、エコジル2部を6本ロールで十分混練した。
更に、そこにアルミナ30部を均一に分散し減圧下に脱
気し、配合体を得た。
気し、配合体を得た。
・試験片の作成
アセトンで脱脂処理した巾25 m/m X長す100
−+、/m×厚さ1.6 m/mの鋼板(JIS c
[141)に片端り125ηt/mまで該配合物を塗布
し、そこにもう一枚の鋼板を重ね合せ、更にクリップで
圧締しながら、iso’aで60分硬化を行い、試験片
を作成した。
−+、/m×厚さ1.6 m/mの鋼板(JIS c
[141)に片端り125ηt/mまで該配合物を塗布
し、そこにもう一枚の鋼板を重ね合せ、更にクリップで
圧締しながら、iso’aで60分硬化を行い、試験片
を作成した。
・試験
該試験片をJIS K75850に準じて、引張り剪
断強度の測定を行ったところ、18 o kg/dLの
値を得た。
断強度の測定を行ったところ、18 o kg/dLの
値を得た。
Claims (1)
- (世し、R,、は脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基
または脂環式炭化水素基であり、Xは水素、2−メチル
グリシドキシ基またはN、 N−ジー2−メチルグリシ
ジルアミノ基である。IはOまたは1の整数であり、?
は1〜4の整数である。R2はアルキル基、アルケニル
基またはアリール基であり、rは1または2の整数であ
り、Sは1〜4の整数である。但し、Xが水素のときは
!はOまたは1、ZはOまたは1であり、Sが1のとき
はrは1または2であり、一方、Sが2〜4のときは「
は2である。Xが2−メチルグリシドキシ基のときは、
Iは1でrは2である。XがN、 N−ジー2−メチル
グリシジルアミノ基のときはIは0または1、g、は1
または2、Sは1または2、rは2である。)で表わさ
れるN−,2〜メチルグリシジル置換アミド化合物。
Priority Applications (9)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12588682A JPS5916883A (ja) | 1982-07-21 | 1982-07-21 | N−2−メチルグリシジル置換アミド化合物 |
AU91270/82A AU556551B2 (en) | 1981-11-20 | 1982-11-19 | N-glycidyl-substituted amide compounds |
NL8220418A NL8220418A (nl) | 1981-11-20 | 1982-11-19 | N-glycidyl-gesubstitueerde amideverbindingen. |
DE823249185T DE3249185T1 (de) | 1981-11-20 | 1982-11-19 | N-glycidyl-substituierte amidverbindungen |
GB08317104A GB2141703B (en) | 1981-11-20 | 1982-11-19 | N-glycidyl-substituted amide compounds |
CH4065/83A CH655720A5 (de) | 1981-11-20 | 1982-11-19 | N-glycidylsubstituierte amid-verbindungen. |
EP82903587A EP0094436B1 (en) | 1981-11-20 | 1982-11-19 | N-glycidyl-substituted amide compounds |
PCT/JP1982/000443 WO1983001776A1 (fr) | 1981-11-20 | 1982-11-19 | Composes d'amide substitue par un n-glycidyl |
IT19162/83A IT1163038B (it) | 1982-07-21 | 1983-01-18 | Composti amidici n-glicidil-sostituiti |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12588682A JPS5916883A (ja) | 1982-07-21 | 1982-07-21 | N−2−メチルグリシジル置換アミド化合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5916883A true JPS5916883A (ja) | 1984-01-28 |
JPH0372624B2 JPH0372624B2 (ja) | 1991-11-19 |
Family
ID=14921350
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12588682A Granted JPS5916883A (ja) | 1981-11-20 | 1982-07-21 | N−2−メチルグリシジル置換アミド化合物 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5916883A (ja) |
IT (1) | IT1163038B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014205732A (ja) * | 2013-04-10 | 2014-10-30 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | 樹脂組成物及び硬化物 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS477398A (ja) * | 1971-09-29 | 1972-04-21 | ||
JPS479048A (ja) * | 1971-09-26 | 1972-05-11 | ||
DE2437318A1 (de) * | 1974-08-02 | 1976-02-12 | Schering Ag | Neue polyglycidylverbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und verwendung |
-
1982
- 1982-07-21 JP JP12588682A patent/JPS5916883A/ja active Granted
-
1983
- 1983-01-18 IT IT19162/83A patent/IT1163038B/it active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS479048A (ja) * | 1971-09-26 | 1972-05-11 | ||
JPS477398A (ja) * | 1971-09-29 | 1972-04-21 | ||
DE2437318A1 (de) * | 1974-08-02 | 1976-02-12 | Schering Ag | Neue polyglycidylverbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und verwendung |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014205732A (ja) * | 2013-04-10 | 2014-10-30 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | 樹脂組成物及び硬化物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
IT1163038B (it) | 1987-04-08 |
JPH0372624B2 (ja) | 1991-11-19 |
IT8319162A0 (it) | 1983-01-18 |
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