JPS5916883A - N−2−メチルグリシジル置換アミド化合物 - Google Patents

N−2−メチルグリシジル置換アミド化合物

Info

Publication number
JPS5916883A
JPS5916883A JP12588682A JP12588682A JPS5916883A JP S5916883 A JPS5916883 A JP S5916883A JP 12588682 A JP12588682 A JP 12588682A JP 12588682 A JP12588682 A JP 12588682A JP S5916883 A JPS5916883 A JP S5916883A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
methylglycidyl
substituted
group
compound
compounds
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP12588682A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0372624B2 (ja
Inventor
Hiroshi Ito
博 伊藤
Atsuhiko Nitta
新田 敦彦
Tomio Tanaka
田中 富夫
Kenji Tsuboi
賢次 坪井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui Toatsu Chemicals Inc filed Critical Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Priority to JP12588682A priority Critical patent/JPS5916883A/ja
Priority to AU91270/82A priority patent/AU556551B2/en
Priority to NL8220418A priority patent/NL8220418A/nl
Priority to DE823249185T priority patent/DE3249185T1/de
Priority to GB08317104A priority patent/GB2141703B/en
Priority to CH4065/83A priority patent/CH655720A5/de
Priority to EP82903587A priority patent/EP0094436B1/en
Priority to PCT/JP1982/000443 priority patent/WO1983001776A1/ja
Priority to IT19162/83A priority patent/IT1163038B/it
Publication of JPS5916883A publication Critical patent/JPS5916883A/ja
Publication of JPH0372624B2 publication Critical patent/JPH0372624B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Epoxy Compounds (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 化合物に関する。
更に詳しくはアミド基に少くとも一個の2−メチルグリ
シジル基の置換したN, N − 2置換アミド化合物
に関するものである。
本発明の化合物は一般式 (但し、R,は脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基ま
たは脂環式炭化水素基であり、Xは水素、2一メチルグ
リシドキシ基またはN,N−ジー2−メチルグリシジル
アミノ基である。
lはOまたは1の整数であり、fは1〜4の整数である
。R2はアルキル基、アルケニル基またはアリール基で
あり、rは1または2の整数であり、Sは1〜4の整数
である。但し、Xが水素のときはIは0または1、g、
は0または1であり、Sが1のときはrは1または2、
一方、Sが2〜4のときはrは2である。Xが2−メチ
ルグリシドキン基のときは、Iは1、rは2である。X
がiN−ジー2−メチルグリシジルアミノ基のときは!
は0または1、?、は1または2、Sは1または2、r
は2である。)で表わされるN−2−メチルグリシジル
置換アミド化合物であり、文献未記載の新規化合物であ
る。
上記一般式で表わされるN−2−メチルグリシジル置換
アミド化合物には、脂肪族飽和及び不飽和モノアミド化
合物のN−モノ−2−メチルグリシジル置換及びN、N
−ジー2−メチルグリシジル置換化合物、芳香族及び脂
環式モノアミド化合物のN−モノ−2−メチルグリシジ
ル置換及びN、 N −ジー2−メチルグリシジル置換
化合物、多価アミド化合物として脂肪族飽和及び不飽和
ジアミド化合物のN、 N、 N: N’−テトラ−2
−メチルグリ7ジル置換化合物、芳香族及び脂環式ジア
ミド化合物のN、 N、 N: N’−テトラ−2−メ
チルグリシジル置換化合物、芳香族トリアミド化合物の
N、 N、 NCpa’。
にV′−ヘキサ−2−メチルグリシジル置換化合物、芳
香族テトラアミド化合物のN、 N、 NCNζN?に
ケ′(ケ“−オクタ−2−メチルグリシジル置換化合物
などがある。
更に、脂肪族飽和及び不飽和モノアミド化合物のN、N
−ジー2−メチルグリシジル置換化合物に2−メチルグ
リンドキシ基の1ケ置換した化合物、芳香族モノアミド
化合物のN、N−ジー2−メチルグリシジル置換化合物
に2−メチルグリシドキシ基の1ケ以上4ヶ迄置換した
化合物及び芳香族ジアミド化合物のN、 N、 NCN
’−テトラ−2−メチルグリシジル置換化合物に2−メ
チルグリシドキシ基の1ケ又は2ケ置換した化合物など
が含まれる。
また、脂肪族飽和、芳香族及び脂環式モノアミド化合物
のN、N−ジー2−メチルグリシジル置換化合物にN、
N−ジー2−メチルグリシジルアミノ基が1ケ又は2ケ
置換した化合物、脂肪族飽和及び芳香族ジアミド化合物
のN、 N、 N: N’−テトラ−2−メチルグリシ
ジル置換化合物にN、 N−ジー2−メチルグリシジル
アミン基が1ケ又は2ケ置換した化合物及び尿素のNI
 NI K ”−テトラ−2−メチルグリシジル置換化
合物なども含まれる。
本発明の化合物を最も効率よく製造する方法として、先
に提供したN−置換アミド化合物の製造方法を採用する
ことができる。すなわち、強塩基性物質の存在下、非プ
ロトン性溶媒中−〇アミド化合物と・・ロゲン置換化合
物とを反応させて、N −穐換アミド化合物を製造する
方法である。その方法に16いて、)・ロゲン置換化合
物としてβ−メメチエビーハロドリンまたはジハロ−β
−メチルプロパツールを使用すると、2−メチルグリシ
ジルが置換したN−置換アミド化合物が製造され←る。
また、ノ・ロゲン■〆換化合物としてβ−メチルエピハ
ロヒドリンまたはジノ・ローβ−メチルプロパノールと
ともに、アルキルノ・ライド、アルケニルハライドおよ
びアリールノ・ライドのうち1種を選んで反応させると
、2−メチルグリシジル基とともにそれらハロゲン置換
化合物に対応する残基の導入されたN,N−二置換アミ
ド化合物を製造することができる。
また、先の方法よりも目的生成物の収率は低下するが、
以下の方法によっても製造できる。
すなわち、非プロトン性溶媒中において、強塩基性物質
とアミド化合物とを予め反応させた後、ハロゲン置換(
11合物を導入してN−置換アミド化合物を製造する方
法、またアミド化合物とハロゲン置換化合物とを相間移
動反応を利用して反応させてN−置換アミド化合物を製
造する方法、或いは脱ハロゲン化水素触媒としてフッ素
イオンを使用してNf9.、換アミド化合物を製造する
方法等を挙げることができる。
以下に本発明の詳細な説明する。
本発明の化合物はモノアミド化合物のN−2 −メチル
グリシジル置換化合物、ジアミド化合物/以上の多価ア
ミド化合物のN−2−メチルグリシジル置換化合物、水
酸基置換モノアミド化合物のN−2−メチルグリ/ジル
置換2−メチルグリシジルエーテル化合物、水酸基置換
ジアミド化合物のN−2−メチルグリシジル置換2−メ
チルグリシジルエーテル化合物、アミン基置換モノ゛ア
ミド化合物のN−2−メチルグリシジル置換化合物、ア
ミノ基置換ジアミド化合物のN−2−メチルグリシジル
置換化合物などに分類される。
モノアミド化合物のN−2−メチルグリシジル置換化合
物として、一般式(1)で示されるモノ−2=メチルグ
リシジル化合物と一般式(2)で示されるジー2−メチ
ルグリシジル置換化合物とがある。
上式でR1はアルキル基、アルケニル基、アリール基ま
たは脂環式基である。アルキル基は一般式賜ll2n+
]−で表わされ、ηは0〜20の整数である。アルクニ
ル基は一般式071JI2□−1−で表わされ、nは2
〜20の整数である。アリール基は芳香環を含む置換基
であり、アリールアルキル基、アリールアルケニル基も
含む。芳香環としてベンゼン環、ナフタレン環およびア
ントラセン環などが適用できる。脂環式基は脂環式構造
を含む置換基である。
また、上記置換基の炭化水素部位にハロゲン原子の一種
以上が一つ以上導入されたものも対象となる。
一方、一般式(1)中のR2はアルキル基、アルケニル
基またはアリール基であり、アルキル基は一般式071
142n−1−、−で表わされ、nは整数で1〜20で
ある。アルケニル基は一般式−42n−1−で表わされ
、nは整数で2〜20である。アリール基は芳香環を含
む置換基であり、アリールアルキル基、アリールアルケ
ニル基も含む。芳香環としてベンゼン環、ナフタレン環
およびアントラセン環などが適用できる。
名器アミド化合物のうち、ジアミド化合物のN−2−メ
チルグリシジル置換化合物は一般式(3)で示さ、11
ろ。
IL+ ハアルキレン基、アルケニレン基、アリーレン
基または脂環式基である。アルキレン基は一般式H%+
、I+2.y+−で表わされ、nは整数で0〜20であ
る。
アルケニレン基は一般式一〇yzH27L2−で表わさ
れ、ηは整数で2〜20である。
アリーレン基は芳香環を含む置換基であり、アリールア
ルキル基、アリールアルケニル基も含む。
芳香環としてベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン
環などが適用できる。脂環式基は脂環式構造を含む構造
である。
上記置換基の炭化水素部位にハロゲン原子の一種以」二
が一つ以上導入されたものも対象となる。
トリアミド化合物のN−2−メチルグリシジル置換化合
物は一般式(4)で表わされる。
R1は芳香環または脂環式基であり、芳香環としてナフ
タレン環およびアントラセン環などを適用できる。また
、芳香環にハロゲン原子の一種以上が一つ以上置換した
ものもテトラアミド化合物のN−2−メチルグリシジル
置換化合物は一般式(5)で表わされる。
Itlは芳香環または脂環式基であり、芳香環としてベ
ンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環などが適用で
きる。また、芳香環にハロゲン原子の一種以上が一つ以
上置換したものも対象となる。
水酸基置換モノアミド化合物のN−2−メチルグリシジ
ル置換2−メチルグリシジルエーテル化合物は一般式(
6)で表わされる。
ガは1〜4の整数であり、n−1のときR1はアルキレ
ン基、アルケニレン基、アリーレン基である。
η=2〜4のときは、R1は芳香環を示し、ベンゼン環
、ナフタレン環、アントラセン環などが適用できる。
アルキレン基は一般式一〇yJ(2y+−で表わされ、
72=1〜20の整数である。アルケニレン基は、一般
式一011.1(2□−2寸′で表わされ、礼=2〜2
0の整数である。アリーレン基は芳香環を含む置換基で
あり、芳香環としてベンゼン環、ナフタレン環、アント
ラセン環などが適用できる。また、上記置換基の炭化水
素部位に〕・ロゲン原子の一種以上が一つ以上置換した
ものも対象となる。
水酸基置換ジアミド化合物のN −2−メチルグリシジ
ル置換2−メチルグリシジルエーテル化合物は一般式(
7)で表わされる。
フ1は1及び2の整数であり、it〕は芳香環を示し、
ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環などが適用
できる。また、上記的“挽茶の炭化水素部位にハロゲン
原子の一種以上が一つ以上置換したものも対象となる。
アミノ基置換モノアミド化合物のN−2−メチルグリシ
ジル置換アミド化合物は一般式(8)で表される。
ηは1及び2の整数であり、R1はアルキレン基、アリ
ーレン基または脂環式基である。アルキレン基は一般式
一%112□−で表わされ、九二1〜2゜の整数である
。アリーレン基は芳香環を含む置換基でありアリールア
ルキル基も含む。芳香環としてベンゼン環、ナフタレン
環、アントラセン環などが適用できる。脂環式基は脂環
式構造を含む置換基である。また、上記置換基の炭化水
素部位にハロゲン原子の一種以上が一つ以上置換したも
のも対象となる。
アミノ基置換ジアミド化合物のN−2−メチルグリシジ
ル置換化合物は一般式(9)で表わされる。
(9) nは1及び2の整数であり、几1は芳香環であり芳香昭
としてベンゼン環、ナフタレン環およびアントラセン上
uなどが適用できる。また、芳香環にハロゲン原子の一
種以上が一つ以上置換したものも対象となる。
また、その他に尿素のN−2−メチルグリシジル置換ア
ミド化合物として、N、 N、 g N’−テトラ−2
−メチルグリシジル1ボ素も含まれろ。
以−fに本発明の化合物の代表例につき例示する。
モノアミド化合物のN−2−メチルグリシジル置換アミ
ド化合物として、N−モノ−2−メチルグリシジル置換
化合物では例えば、N−メチル−N−2−メチルグリシ
ジルアセトアミド、N−エチル−N−2−メチルグリシ
ジルホルムアミド、N−ブチル−N−2−メチルグリシ
ジルプロピオアミド、N−メチル−N−’2−メチルグ
リシジルステラミド、N−デシル−N−2−メチルグリ
シジルラウラミド、N−ステアリル−N−2−メチルグ
リシジルプロピオアミド、N−アリル−N−2−メチル
グリシジルアセトアミド、N−メタリル−N−2−メチ
ルグリシジルプロピオアミド、N −ブテニル−N−2
−メチルグリシジルホルムアミド、N−へキモニル−N
−2−メチルグリシジルステラミド、N−ベンジル−N
−2−メチルグリンジルホルムアミ ド、N−フェネチ
ル−N−2−メチルグリシジルアセトアミド ロピルーN − 2−メチルグリシジルプロピオアミド
、N−シンナミル−N−2−メチルクリシシルラウラミ
ド、N−メチル−N−2−メチルグリシジルアクリルア
ミド、N−メチル−N−2−メチルグリシジルメタクリ
ルアミド、N−エチル−N−2−メチルグリシジルクロ
トナミド、N−ブチル−N−2−メチルグリシジルアク
リルアミド、N−メチル−N−2−メチルグリシジルデ
セナミド、N−ダンルーN−2−メチルグリシジルプテ
ナミド、N−ステアリル−N−2−メチルグリシジルク
ロトナミド、N−アリル−N−2−メチルグリシジルア
クリルアミド、N−アリル−N−2メチルグリシジルメ
タクリルアミド、N−メタリル−N−2−メチルグリシ
ジルクロトナミド、N−ブテニル−N−2−メチルグリ
シジルメタクリルアミド、N−へキモニル−N−2−メ
チルグリシジルデセナミド、N−ベンジル−N−2−メ
チルグリシジルアクリルアミド、N−フェネチル−N−
2−メチルグリシジルアクリルアミド、N −フェネチ
ル−N−2−メチルグリシジルクロトアミド、N−フェ
ニルプロピル−N−2−メチルグリシジルメタクリルア
ミド、N−シンナミル−N−2−メチルグリシジルデセ
ナミド、N−メチル−N−2−メチルグリシジルベンズ
アミド、N−エチル−N−2−メチルグリシジルトリア
ミド、N −フチ# −N −2−メチルグリシジルフ
ェニルアセトアミド、N−メチル−N−2−メチルグリ
シジルシンナマミド、N−デシル−N 、−2−メチル
グリシジルナフタレンカルボキサミド、N−ステアリル
−N−2−メチルグリシジルアントラセンカルボキサミ
ド、N−アリル−N−2−メチルグリシジルベンズアミ
ド、N−メタリル−N−2−メチルグリシジ)v )リ
ルアミド、N−ブテニル−N−2−メチルグリシジルフ
ェニルアセトアミド、N−へキモニル−N−2−メチル
グリシジルアリルベンズアミド、N−ベンジル−N−2
−メチルグリシジルベンズアミド、N−フェネチル−N
−2−メチルグリシジルトリアミド、N−ベンジル−N
−2−メチルグリシジルシンナマミド、N−フェニルプ
ロピル−N−2−メチルグリシジルフェニルアセトアミ
ド、N−メチル−N−2−メチルグリシジルシクロヘキ
サンカルボキサミド、N−エチル−N−2−メチルグリ
シジルシクロへキシルアセトアミド、N−ブチル−N−
2−メチルグリシジルシクロヘキサンカルボキサミド、
N−デシル−N−2−メチル−グリシジルシクロへキシ
ルアセトアミド、N−アリル−N−2−メチルグリシジ
ルシクロヘキサンカルボキサミド、N−メタリル−N−
2−メチルグリシジルシクロへキシルアセトアミド、N
−ベンジル−N −2=メチルグリシジルシクロヘキサ
ンカルボキサミド、N−7エネチルーN−2−メチルグ
リシジルシクロへキシルアセトアミドなどがあげられる
まlこ、N、N−ジー2−メチルグリシジル置換化合物
では、例えばN、 N−ジー2−メチルグリシジルホル
ムアミド、N、N−ジー2−メチルグリシジルアセトア
ミド、N、N−ジー2−メチルグリシジルプロピオアミ
ド、N、N−ジー2−メチルグリシジルブチラミド、N
、N−ジー2−メチルグリシジルブチラミド、N、 N
−ジー2−メチルグリシジルクロロアセトアミド、N、
N−2−メチルグリシジルクロロプロピオアミド、N、
N−ジー2−メチルグリシジルジクロロアミド、N、N
−ジー2−メチルグリシジルアクリルアミド、N、N−
ジー2−メチルグリシジルメタクリルアミド、N、N−
ジー2−メチルグリシジルクロトナミド、N、 N−ジ
ー2−メチルジグリシジルビニルアセトアミド、N、 
N −ジー2−メチルグリシジルデセナミド、N、 N
−ジー2−メチルグリシジルアセトアミド、N、 N 
−ジー2−メチルグリシジルクロルアクリルアミド、N
、N−)−2−メチルグリシジルベンズアミド、N、N
−ジー2−メチルグリシジルナフタレンカルボキサミド
、N、N−ジー2−メチルグリシジルアントラセンカル
ボキサミド、N、 N−ジー2−メチルグリシジルトリ
ルアミド、N、N−ジー2−メチルグリシジルフェール
アセトアミド、N、N−ジー2−メチルグリシジルクロ
ロプロピオアミド、N、N−ジー2−メチルグリシジル
フェニルデカナミド、N、 N−ジー2−メチルグリシ
ジルフェニルアクリルアミド、N、N−ジー2−メチル
グリシジルベンジルアクリルアミド、N、 N−ジー2
−メチルグリシジルシンナマミド、N、N−ジー2−メ
チルグリ/ジルアリルベンズアミド、N、N−ジー2.
− メチルグリシジルクロロベンズアミド、N、 N 
−ジー2−メチルグリシジルジクロロベンズアミド、N
、N−ジー2−メチルグリシジルクロロブロモベンズ−
アミド、N、N−ジー2−メチルグリシジルシクロブタ
ンカルボキサミド、N、N−ジー2−メチルグリシジル
シクロペンクンカルボキサミド、N、N−ジー2−メチ
ルグリシジルシクロヘキサンカルボキサミド、N、 N
−ジー2−メチルグリシジJL/ ’/ クロペンタン
カルボキサミド、N、 N −) −2=メチルグリシ
ジルシクロへキシルアセトアミド、N、N−ジー2−メ
チルグリシジルシクロへキシルアセトアミド、N、N−
ジー?−メチルグリシジルシクロへキセン力ルポキサミ
ド、N、N−ジー2−メチルグリシジルシクロへキサジ
エン力ルポキザミド、N、 N−ジー2−メチルグリシ
ジルシクロペンチルフェニルアセトアミドなどがあげら
れる。
また、多価アミド化合物のN−2−メチルグリシジル置
換アミド化合物では、例えばN、 N、 N; N’ 
−テトラ−2−メチルグリシジルマレアミド、N、 N
N/ N/−テトラ−2−メチルグリシジルマロナミド
、N、 N、 N’、 N’−テトラ−2−メチルグリ
シジルマレアミド、N、 N、 N: N’−テトラ−
2−メチルグリシジルマレアミド、N、 N、 N; 
N’−テトラ−2−メチルグリンジルアジパミド、N、
 N、 NCN’−テトラ−2−メチルグリシジルマレ
アミド、N、 N、 NCN′−テトラ−2−メチルグ
リシジルマレアミド、N、 N、 N: N’−テトラ
−2−メチルグリシジルマレアミド、N、 N、 鴎N
’−テトラー2−メチルグリシジルセバサミド、N、 
N、 NCN’−テトラ−2−メチルグリシジルオクタ
デカンジカルボキサミド、N。
N、 I’ll? N’−テトラ−2−メチルグリシジ
ルマレアミド、N、 N、 N: N’−テトラ−2−
メチルグリシジルマレアミド、N、N、NCN’−テト
ラ−2−Jfルグリシジルシトラコナミド、N、 N、
 NCN’−テトラ−2−メチルグリシジルマレアミド
、N、 N、 N?N′−テトラ−2−メチルグリシジ
ルデセンジカルボキサミド、N、 N、 N; N’−
テトラ−2−メチルグリシジルオクタデセンジ力ルポキ
サミド、N、 N、’NζN′NζNジー2−メチルグ
リシジルフタラミド、N、 N、 NCN’−テトラ−
2−メチルグリシジルイソフタラミド、N、 N、 N
: N’−テトラ−2−メチルグリシジルテレフタラミ
ド、N、 N、 NζN′−テトラ−2−メチルグリシ
ジルナフタレンジカルボキサミド、N、 N、 NζN
′−テトラ−2−メチルグリシジルアントラセンジ力ル
ポキサミド、N、 N、 N’、 N’−テ)シー2−
メチルクリシジル力ルバモイルフェニルアセトアミド、
N、 N、 N; N’−テトラ−2−メチルグリシジ
ルフェニルシトラコナミド、N、 N、 NCN′−テ
トラ−2−メチルグリシジルシフエナミド、N、 N、
 N’、 N’−テトラ−2−メチルグリシジルクロロ
ベンズアミド、N、 N、 NCN’−テトラ−2−メ
チルグリンジルプロモイソフタラミド、N、 N、 N
:N’−テトラ−2−メチルグリシジルシクロブタンカ
ルボキサミド、N、 N、 N’、 N’−テトラ−2
−メチルグリシジルシクロペンタンジ力ルポキサミド、
N、 N、 NCN’−テトラ−2−メチルグリシジル
シクロヘキサンカルボキサミド、N、 N、 N’、 
N’−テトラ−2−メチルグリシジルシクロブタンカル
ボキサミド、N、 N、 NCN’−テトラ−2−メチ
ルグリシジルシクロヘキセン・ジカルボキサミド、  
N、 N、 N: N’ −テトラ−2−メチルグリ/
ジルカンホラミド、N。
N、 N: NCに団′−ヘキサー2−メチルグリシジ
ルベンゼントリカルポキサミド、N、 N、 N’、 
NCNCtr′−ヘキサ−2−メチルグリシジルナフタ
レントリカルボキサミド、N、 N、 N: N?碩N
l/−へギザ−2−メチルグリシジルトルエントリカル
ボキサミド、N、 N。
N; N:に虻−ヘキサ−2−メチルグリシジルクロル
ベンゼントリカルボキサミド、N、 N、 N: I’
ll?にf−ヘキサ−2−メチルグリシジルシクロヘキ
サントリカルボキサミド、N、 N、 N: N:にd
J団″r′−オクタ−2−メチルグリシジルピロメリツ
タアミド、N。
N、 NCN: pl’、又Ml/ 、 Ml/−オク
タ−2−メチルグリシジルナフタレンテトラカルボキサ
ミド、N、 N、 NCN’、 pJj鴎N’:’ n
″−オクタ−2−メチルグリシジルシクロへブタンテト
ラカルボキサミドなどがある。
一方、水1賀基置換モノアミド化合物(D N−2−メ
チルグリシジル置換2−メチルグリ7ジル工−テル化合
物では、例えばN、N−ジー2−メチルグリシジル−2
−メチルグリ7ドキシグロピオアミド、N、 N−ジー
2−メチルグリシジル−2−メチルグリ/ドキ/ジフェ
ニルアセトアミド、N、 N−ジー2−メチルグリ7ジ
ルー2−メチルグリシドキシブチラミド、N、 N−ジ
ー2−メチルグリシジル−2−メチルグリシドキシへブ
タナミド、N、N−ジー2−メチルグリシジル−2−メ
チルグリシドキシデカナミド、N、N−ジー2−メチル
グリシジル−2−メチルグリシドキシクロトナミド、N
、N−ジー2−メチルグリシジル−2−メチルグリシド
キシジメチルへブチナミド、N、N−ジー2−メチルグ
リシジル−2−メチルグリシドキシベンズアミド、N、
N−ジー 2−メチルグリ゛シジルー2−メチルグリシ
ドキ7トリルアミド、N、 N−ジー2−メチルグリシ
ジル−2−メチルグリシドキシフェニルベンズアミド、
N、N−ジー2−メチルグリシジル−2−メチルグリシ
ドキシナフタレンカルボキサミド、N、Nニジ−2−メ
チルグリシジル−ジー2−メチルグリシドキシベンズア
ミド、N、 N −ジー2−メチルグリシジルトリー2
−メチルグリシドキシベンズアミド、N、N−ジー2−
メチルグリレジルージー2−メチルグリシドキシトリル
アミドなどがある。
水酸基置換ジアミド化合物のN−2−メチルグリシジル
置換2−メチルグリシジルエーテル化合物ではN、 N
、 N: N’−1トラ−2−メチルグリシジル−2−
メチルグリシドキシブチラミド、N、 N、 N’ 。
N′−テトラ−2−メチルグリシジル−2−メチルグリ
シドキシイソフタラミド、N、 N、 NCN’−テト
ラ−2−メチルグリシジル−2−メチルグリシドキシテ
レフタラミド、N、’N、 N: N’−テトラ−2−
メチルグリシジル−ジー2−メチルグリシジルフリナミ
ド、N、 N、 N: N’−テトラ−2−メチルグリ
シジル−ジ−2−メチルグリシドキシイソフタラミド、
N、 N、 N: N’−テトラ−2−メチルグリシジ
ル−ジー2−メチルグリシドキシテレフタラミドなどが
ある。
そ− アミン基置換\ノアミド化合物のN−2−メチルグリシ
ジル置換化合物では、N、 N、 NCN’−テトラ−
2−メチルグリシジルグリシンアミド、N、 N。
NCN/−テトラ−2−メチルグリシジルアラニンアミ
ド、N、N−ジー2−メチルグリシジルアミノ−NCN
/−ジー2−メチルグリシジルフリナミド、N、 N、
 N’、 N’−テトラ−2−メチルグリシジルジアミ
ノ−にj−ジー2−メチルグリシジルプロビオナミド、
N、 N−ジー2−メチルグリシジルアミノW N7−
ジー2−メチルグリシジルベンズアミド、N、N−ジー
2−メチルグリシジルアミノ−NζN/−ジー2−メチ
ルグリシジルクロロベンズアミド、N、N−ジー2−メ
チルグリシジルアミノ−NCN/−ジー2−メチルグリ
シジルトリブロモベンズアミド、N、 N、 NCN’
−テトラ−2−メチルグリシジルジアミノ−にI′−ジ
ー2−メチルグリシジルベンズアミド、N、 N−ジー
2−メチルグリシジルアミノフェニル−K N’ −シ
ー 2−メチルクリシ・シルア−ヒトアミド、N、N−
ジー2−メチルグリシジルアミノフェニル−N/ N/
−ジー2−メチルグリシジルプロビオナミド、N、N−
ジー2−メチルグリシジルアミノ−W N/−ジー2−
メチルグリシジルナフタレンカルボキサミド、N、 N
−ジー2−メチルグリシジルアミノ−N: N’−ジー
2−メチルグリシジルゾクロヘキザノカルボキサミドな
どがある。
アミン基価換ジアミド化合物のN−グリシジル置換化合
′吻では、N、 N、 N:ベダ:HLL−ヘキサー2
−メチルグリシジルアスバルトジアミド、N、N−ジー
2−メチルグリシジルアミノ−N: N’、 rl: 
N″−テトラ−2−メチルグリシジルゲルタラジアミド
、N。
N−ジー2−メチルグリシジルアミノ−NCNCW:げ
′−テトラー2−メチルグリシジルフタラミド、N、N
−ジー2−メチルグリシジルアミノ−NS NCにR′
−テトラ−2−メチルグリシジルイソフタラミド、N、
N−ジー2−メチルグリシジルアミノ−N’、 N’、
にM′−テトラ−2−メチルグリシジルテレフタラミド
などがある。
また、尿素のN−グリシジル置換誘導体も含まれ、例え
ばN、 N、 N’、 N’−テトラ−2−メチルグリ
シジル尿素などがある。
上記に例示した化合物のうち、低級脂肪酸アミドのN−
2−メチルグリシジル置換化合物では、蒸留等の操作に
より比較的容易に単離・精製が可能である。しかし、そ
の他のN−2−メチルグリシジルIN換化合物、特にN
、 N −;’−−2−メチルグリシジル化合物では揮
発性が非常に低(・ため、蒸留等の操作により単離が困
離である。一方、2−メチルグリシジル基は反応性に富
む置換基であり、反応系に共存するアルカリ物質の如き
反応活性な化合物と反応して、エポキシ環の開環、それ
に伴う付加縮合等の副反応が生起する。したがって、製
品のエポキシ当量は理論値より高くなり、そのズレの度
合は反応させるべきアミド化合物の反応+1″に依右し
、一般に芳香族アミド化合物のほうが理論値に近いエポ
キシ当量が得られるようである。
上記l〜だ本発明のN−2−メチルグリシジル置換アミ
ド化合物は、既存のフェニル−2−メチルグリシジルエ
ーテルの如きモノ−2−メチルグリシジルエーテル化合
物、2−メチルグリシジルメタクリレートの如きモノ−
2−メチルグリシジルエステル化合物、メチル置換型ビ
スフェノール型エボギシ樹脂に代表されるジー2−メチ
ルグリシジルエーテル化合物、テレフタル酸ジー2−メ
チルグリシジルの如きジー2−メチルグリシジルエステ
ル化合物、更にはジー2−メチルグリシジルアミン化合
物、テトラ−2−メチルグリシジルアミン化合物等のメ
チル置換型グリシジル置換化合物に対応するものであり
、これらの既存物質が通常用(・られる反応性希釈剤、
架橋剤、エポキシ化試剤、樹脂の改良剤、エポキシ樹脂
などとして接着剤、塗料用原料、電子材料関連樹脂、複
合材料バインダー等に幅広い用途を有する。
次に本発明を実施例により更に説明ずろ。
実施例1 N、N−ジー2−メチルグリシジルプロピオナミドの製
造ニ ジメチルスルフオキシド(以下DMSOと略す)250
me中にプロピオナミド18g、β−メチルエピクロル
ヒドリン133v、水酸化ナトリウム3ogを加え、3
0°Cて5時間反応を行った。
反応後、不溶物をl″+別した後、原料及び溶媒を留去
し、残液にベンゼン200m1、蒸留水100m/!を
加え、十分撹拌した後分液し、更に水浴液層をベンゼン
100 mlで2回抽出ゝし、ベンゼン層を集め、(l
ife +Wマグネシウムで※2燥した。
ベンゼン層を減圧蒸留し、68〜70°O10,o4m
Jlβ留分を採取し、N、N−ジー2−メチルグリシジ
)Dプロピオナミドを35!!(収率65チ)得た。
過塩素酸滴定法によりエポキシ当量を測定したところ、
108g/C2(理論値107g/lfj、)であつプ
こ。
実施例2〜4 表−1記載の原料、強塩基性物質、溶媒の組合せで、表
−1記載の条件で実施例1と全く同様の方法で反応を行
った。なお、実施例2及びろではフェノチアジンo、o
sgを添加して反応を行った。
反応後、実施例1と全く同様の方法で処理を行い、表−
2記載の結果を得た。
実施例 N−アリル−N−2−メチルグリシジルアクリルアミド
の製造: N、N−ジメチルホルムアミド(以下DMFと略す)2
50m6中にアクリルアミド1B、9、アリルクロライ
ド57g、β−メチルエピクロルヒドリン80.17、
水酸化カリウム429及びフェノチアジン0.05 り
を添加し、30°Cで5時間反応した。
反応後、不溶物をン戸別した後、原料及び溶媒を留去し
、残液にベンゼン2o0m/、蒸留水100m11!を
加え、十分攪拌した後分液し、更に水溶液層をベンゼン
1011+eで2回抽出し、ベンゼンIpi ヲ、14
め、硫酸マグネシウムで乾燥した。
ベンゼン層を減圧蒸留し、56〜55°O109m、m
Il p留分を採取し、N−アリル−N−2−メチルグ
リシジルを24〃(収率53係)得た。
過塩素酸滴定法によりエポキシ当量を測定したところ、
182 g/1g(理論価181 jj/=g、)であ
った。
実施例6〜B 表−6記載の原料、強塩基性物質、溶媒の組合せで、表
−6記載の条件で実施例5と全く同様の方法で反応を行
った。
反応後、実施例5と全く同様の方法で処理を行い、表−
4記載の結果を得た。
実施例9 N、 N、 NCN’−テトラ−2−メチルグリシジル
イソフタラミドの製造: 1)M8(1250’tdにイソフタラミド21g、β
−メメチエピクロルヒドリン1ろ3g及び水酸化す]・
リウム3f’l、9を加え、3000で5時間反応を行
つjこ。
反応後、不溶物をi1別した後、原料及び溶媒を留去し
、残液にベンゼン200m117J留水100m/!を
加え、十分撹拌後分液し、更に水溶液層をI OD I
II/’のベンゼンで2回抽出し、ベンゼン層を集め、
(lIle jWマグネシウムで乾燥した。
ベンゼンを留去後、更に12000/ 2 mvlJg
で残存溶媒等の留去を行い、目的のN、 N、 NCN
’−テトラ−2−メチルグリシジルイソフタラミドを4
2g(収率8ろ係)得た。
過塩素酸滴定法によりエポキシ当量を測定したところ、
121 g/cg、(理論値111!!/イ、3)であ
つた。
また、このものの25°Cでの屈折率を測定したところ
、1.5311であった。
実施例10〜16 表−5記載の原料、強塩基性物質、溶媒の組合ぜて、表
−5記載の条件で実施例9と全く同様の方法で反応を行
つtこ。
反応後、実施例9と全く同様の方法で処理を行℃・、表
−5記載の結果を得た。
実施例17 実施例12で製造したN、N−ジー2−メチルグリ/ジ
ル−p−2−メチルグリシドキシベンズアミドを使用し
、下記の配合体で;a板の接着試験を行つノこ。
・配合 N、N−ジー2−メチルグリシジル−p、−2−メチル
グリシドギノペンズアミド100部、ジ゛シアンジアミ
ド5部、エコジル2部を6本ロールで十分混練した。
更に、そこにアルミナ30部を均一に分散し減圧下に脱
気し、配合体を得た。
・試験片の作成 アセトンで脱脂処理した巾25 m/m X長す100
−+、/m×厚さ1.6 m/mの鋼板(JIS  c
[141)に片端り125ηt/mまで該配合物を塗布
し、そこにもう一枚の鋼板を重ね合せ、更にクリップで
圧締しながら、iso’aで60分硬化を行い、試験片
を作成した。
・試験 該試験片をJIS  K75850に準じて、引張り剪
断強度の測定を行ったところ、18 o kg/dLの
値を得た。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (世し、R,、は脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基
    または脂環式炭化水素基であり、Xは水素、2−メチル
    グリシドキシ基またはN、 N−ジー2−メチルグリシ
    ジルアミノ基である。IはOまたは1の整数であり、?
    は1〜4の整数である。R2はアルキル基、アルケニル
    基またはアリール基であり、rは1または2の整数であ
    り、Sは1〜4の整数である。但し、Xが水素のときは
    !はOまたは1、ZはOまたは1であり、Sが1のとき
    はrは1または2であり、一方、Sが2〜4のときは「
    は2である。Xが2−メチルグリシドキシ基のときは、
    Iは1でrは2である。XがN、 N−ジー2−メチル
    グリシジルアミノ基のときはIは0または1、g、は1
    または2、Sは1または2、rは2である。)で表わさ
    れるN−,2〜メチルグリシジル置換アミド化合物。
JP12588682A 1981-11-20 1982-07-21 N−2−メチルグリシジル置換アミド化合物 Granted JPS5916883A (ja)

Priority Applications (9)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12588682A JPS5916883A (ja) 1982-07-21 1982-07-21 N−2−メチルグリシジル置換アミド化合物
AU91270/82A AU556551B2 (en) 1981-11-20 1982-11-19 N-glycidyl-substituted amide compounds
NL8220418A NL8220418A (nl) 1981-11-20 1982-11-19 N-glycidyl-gesubstitueerde amideverbindingen.
DE823249185T DE3249185T1 (de) 1981-11-20 1982-11-19 N-glycidyl-substituierte amidverbindungen
GB08317104A GB2141703B (en) 1981-11-20 1982-11-19 N-glycidyl-substituted amide compounds
CH4065/83A CH655720A5 (de) 1981-11-20 1982-11-19 N-glycidylsubstituierte amid-verbindungen.
EP82903587A EP0094436B1 (en) 1981-11-20 1982-11-19 N-glycidyl-substituted amide compounds
PCT/JP1982/000443 WO1983001776A1 (fr) 1981-11-20 1982-11-19 Composes d'amide substitue par un n-glycidyl
IT19162/83A IT1163038B (it) 1982-07-21 1983-01-18 Composti amidici n-glicidil-sostituiti

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12588682A JPS5916883A (ja) 1982-07-21 1982-07-21 N−2−メチルグリシジル置換アミド化合物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5916883A true JPS5916883A (ja) 1984-01-28
JPH0372624B2 JPH0372624B2 (ja) 1991-11-19

Family

ID=14921350

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12588682A Granted JPS5916883A (ja) 1981-11-20 1982-07-21 N−2−メチルグリシジル置換アミド化合物

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JPS5916883A (ja)
IT (1) IT1163038B (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014205732A (ja) * 2013-04-10 2014-10-30 旭化成イーマテリアルズ株式会社 樹脂組成物及び硬化物

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS477398A (ja) * 1971-09-29 1972-04-21
JPS479048A (ja) * 1971-09-26 1972-05-11
DE2437318A1 (de) * 1974-08-02 1976-02-12 Schering Ag Neue polyglycidylverbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und verwendung

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS479048A (ja) * 1971-09-26 1972-05-11
JPS477398A (ja) * 1971-09-29 1972-04-21
DE2437318A1 (de) * 1974-08-02 1976-02-12 Schering Ag Neue polyglycidylverbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und verwendung

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014205732A (ja) * 2013-04-10 2014-10-30 旭化成イーマテリアルズ株式会社 樹脂組成物及び硬化物

Also Published As

Publication number Publication date
IT1163038B (it) 1987-04-08
JPH0372624B2 (ja) 1991-11-19
IT8319162A0 (it) 1983-01-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6997833B2 (ja) 2-ハロ-4,6-ジアルコキシ-1,3,5-トリアジンの工業的生産方法およびアミンの存在下でのそれらの使用
JPS5916883A (ja) N−2−メチルグリシジル置換アミド化合物
Cai et al. 4-azido-2-iodo-3, 5, 6-trifluorophenylcarbonyl derivatives. A new class of functionalized and iodinated perfluorophenyl azide photolabels
KR870000918B1 (ko) N-(ω-글리시독시알킬)-치환 아미드 화합물의 제조방법
JP2008094916A (ja) 新規なアンモニウム塩含有ポリマー、その製造方法およびそれを触媒に用いたエポキシ化合物の製造方法
CN101193873A (zh) 取代的唑类的制备方法
EP0094436B1 (en) N-glycidyl-substituted amide compounds
US3928415A (en) Benzophenone derivatives and process for their production II
JPH0239505B2 (ja)
Jindal et al. Synthesis and β1-, β2-Adrenergic Receptor Binding Studies of 4-Acylaminosubstituted Phenoxypropanolamine and 5-Acylamino-substituted Naphthyloxypropanolamine Derivatives
JPS5920258A (ja) N−置換アルコキシカルボン酸アミド化合物の製造方法
HASAN et al. Synthesis and Identification of New Nitrogen Rich Polymers Based on Sulfa Drug Derivatives.
US1564631A (en) Process of making derivatives of hypothetical imines including amines and their substitution products
JPS6178760A (ja) α,β‐ジアミノアクリルニトリルの製法
DE2230070A1 (de) Verfahren zur Herstellung von N-(2,4-Dihalogen-s-triazin-6-yl)-harnstoffen
JPS60190424A (ja) 不飽和アミド置換ポリオキシアルキレン化合物及びその製造方法
JPS6112653A (ja) アミノ安息香酸類の製法
JPS5916831A (ja) N−置換アミド化合物の製造方法
US2656393A (en) Reaction products of hydrogen sulfide and salts of aci-nitro-hydrocarbons
CN117658963A (zh) 一种维生素c衍生物的非对映异构体及其制备和应用
US4287344A (en) N,N-bis-(decahydroquinolyl-N-methyl)imidazolin-2-thiones
JPH0253764A (ja) ジチオビスフェノールの製造方法
JPS61271277A (ja) 潜在化イソシアネ−ト化合物
JPS581114B2 (ja) ユウキロダンユウドウタイノゴウセイホウホウ
JPS6270344A (ja) ニトロフエノキシアミン類の製造方法