JPS5915162B2 - 湿式高圧圧送成形法 - Google Patents
湿式高圧圧送成形法Info
- Publication number
- JPS5915162B2 JPS5915162B2 JP51045477A JP4547776A JPS5915162B2 JP S5915162 B2 JPS5915162 B2 JP S5915162B2 JP 51045477 A JP51045477 A JP 51045477A JP 4547776 A JP4547776 A JP 4547776A JP S5915162 B2 JPS5915162 B2 JP S5915162B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- slurry
- pressure
- cavity
- molding
- molding method
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Manufacturing Cores, Coils, And Magnets (AREA)
- Hard Magnetic Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、例えばMo・ 6Fe203(M&’$、B
a、Br又はPbの何れか1種または2種以上)から成
るフェライト異方性磁石を製造する場合の成形法に関す
るものである。
a、Br又はPbの何れか1種または2種以上)から成
るフェライト異方性磁石を製造する場合の成形法に関す
るものである。
一般に、酸化物磁性材料用のスラリーは、成形時の配向
性向上を考えに入れ、極力単磁区に近づけるような粉砕
を行ない、ほぼ0.7〜1.5μ程度の平均粒度を有す
る微粉末を含有する。
性向上を考えに入れ、極力単磁区に近づけるような粉砕
を行ない、ほぼ0.7〜1.5μ程度の平均粒度を有す
る微粉末を含有する。
これらのスラリーは、30〜70%スラリー濃度では、
種種の原因によつて、凝集体を形成している。この5
ようなスラリーを配向磁場中のキャビティ内に充填し、
加圧圧搾して成形体を得る場合、特にスラリーにせん断
を加えやすいスラリーのキャビティ内圧送時点で、せん
断を加え、磁粉の凝集をこのせん断によつて破壊し、磁
場中で粒子の高配向を10ねらうのが好ましい。ところ
が、従来の方式では、このスラリーのチクソトロピー性
に注目した高配向の成形体を得ることにほとんど関係な
く、相当な低せん断速度(杓子にてキャビティ中へスラ
リーを入れる場合、ほとんどせん断速度o、市販の15
5〜10れ/Cd程度のスラリーポンプにて入れた場合
でも10〜30sec−l程度)にて充填されているの
が現状である。従つて、十分に配向させ得ることができ
ない等の問題点があり、結果として磁気特性はSrO、
6Fe203で(BH)max=クOs、6M、G、O
e程度であつた。本発明はこのような問題点を解決する
と共に、磁場中湿式成形時において、スラリーのチクソ
トロピー性に注目し、スラリーを磁界の作用している金
型キヤビテイヘ充填する時に、スラリーに高25せん断
を作用させ、スラリー内の磁粉の凝集粒子を充分に破壊
させることによつて、磁場中での粒子配向を向上せしめ
、磁気特性の高い異方性磁石を成形することを目的とす
るものである。
種種の原因によつて、凝集体を形成している。この5
ようなスラリーを配向磁場中のキャビティ内に充填し、
加圧圧搾して成形体を得る場合、特にスラリーにせん断
を加えやすいスラリーのキャビティ内圧送時点で、せん
断を加え、磁粉の凝集をこのせん断によつて破壊し、磁
場中で粒子の高配向を10ねらうのが好ましい。ところ
が、従来の方式では、このスラリーのチクソトロピー性
に注目した高配向の成形体を得ることにほとんど関係な
く、相当な低せん断速度(杓子にてキャビティ中へスラ
リーを入れる場合、ほとんどせん断速度o、市販の15
5〜10れ/Cd程度のスラリーポンプにて入れた場合
でも10〜30sec−l程度)にて充填されているの
が現状である。従つて、十分に配向させ得ることができ
ない等の問題点があり、結果として磁気特性はSrO、
6Fe203で(BH)max=クOs、6M、G、O
e程度であつた。本発明はこのような問題点を解決する
と共に、磁場中湿式成形時において、スラリーのチクソ
トロピー性に注目し、スラリーを磁界の作用している金
型キヤビテイヘ充填する時に、スラリーに高25せん断
を作用させ、スラリー内の磁粉の凝集粒子を充分に破壊
させることによつて、磁場中での粒子配向を向上せしめ
、磁気特性の高い異方性磁石を成形することを目的とす
るものである。
本発明は、目的にも述べた通り、原料スラリー30を金
型キャビティに高せん断充填することにある。
型キャビティに高せん断充填することにある。
このためには、スラリー濃度60〜70%のスラリーを
充填することが望ましい。第1図に本発明に使用するプ
レス装置の一例を示す。1は、上パンチ2を上下に移動
させるための油圧シリンダー35であり、上パンチ2は
、ダイス3の上面に接合する。
充填することが望ましい。第1図に本発明に使用するプ
レス装置の一例を示す。1は、上パンチ2を上下に移動
させるための油圧シリンダー35であり、上パンチ2は
、ダイス3の上面に接合する。
上パンチ2には、排液孔4を設け、濾過体5を通じて排
液孔4から集液室6及び排出路1を経て外に排出する。
ダイス3の外周には磁場コイル8を、設置して、スラリ
ーを成形する際には配向可能とする。9は下パンチで、
床10aに設置した枠10bにて支持する。
液孔4から集液室6及び排出路1を経て外に排出する。
ダイス3の外周には磁場コイル8を、設置して、スラリ
ーを成形する際には配向可能とする。9は下パンチで、
床10aに設置した枠10bにて支持する。
ダイス3は、シリンダー12の移動盤11aの上の複数
個の軸11bによつて支持されている。このプレスに、
ダイス3に設けたスラリー注入口13(断面は極力小さ
く、2〜5m71とする)を設けストツプバルブ15,
16を有するパイプ14に接続する。その中間にスラリ
ー圧送圧力を増大させるための300kf/Cdの圧力
を出せるダブルシリンダー圧送装置を配置した構成とす
る。次にこの装置による成形サイクルを説明する。
個の軸11bによつて支持されている。このプレスに、
ダイス3に設けたスラリー注入口13(断面は極力小さ
く、2〜5m71とする)を設けストツプバルブ15,
16を有するパイプ14に接続する。その中間にスラリ
ー圧送圧力を増大させるための300kf/Cdの圧力
を出せるダブルシリンダー圧送装置を配置した構成とす
る。次にこの装置による成形サイクルを説明する。
圧送装置のストツプバルブ15を開いて、スラリーをス
ラリー圧送シリンダー17bに入れ、ストツプバルブ1
5を閉じ逆のストツプバルブ16を開いて、ダブルシリ
ンダー17が、スラリーをパイプ14内に押し出し、ス
ラリー注入口13を経て、脱水口4を有する上パンチ2
と下パンチ9と、ダイス3によつて形成されるキヤビテ
イ3aに50〜300sec−1の高せん断速度(圧力
100kf/Cd程度)で圧送する。上パンチ2よりの
脱水を十分に行なつた後、下パンチの相対変位によつて
、さらにキヤビテイ3a内の原料を圧搾する。この時の
圧搾圧力はほぼ100〜400炸/Cd程度である。こ
のように構成したプレス装置に関して次に実施例を示す
。実施例 1 第1図に示した装置を用いて、実際に成形した場合を説
明する。
ラリー圧送シリンダー17bに入れ、ストツプバルブ1
5を閉じ逆のストツプバルブ16を開いて、ダブルシリ
ンダー17が、スラリーをパイプ14内に押し出し、ス
ラリー注入口13を経て、脱水口4を有する上パンチ2
と下パンチ9と、ダイス3によつて形成されるキヤビテ
イ3aに50〜300sec−1の高せん断速度(圧力
100kf/Cd程度)で圧送する。上パンチ2よりの
脱水を十分に行なつた後、下パンチの相対変位によつて
、さらにキヤビテイ3a内の原料を圧搾する。この時の
圧搾圧力はほぼ100〜400炸/Cd程度である。こ
のように構成したプレス装置に関して次に実施例を示す
。実施例 1 第1図に示した装置を用いて、実際に成形した場合を説
明する。
先ず使用原料スラリーは、Srフエライトスラリ一の平
均粒度0.85μ(スラリー濃度60%)と1.06μ
(スラリー濃度60%)の2種類を用い、スラリー圧送
装置の前進速度を変化させることによつて、せん断速度
10〜500sec−1の間にて変化させて圧送し、平
均密度2.70y/Cdまで圧送した後、下パンチの相
対変位にて平均密度2.95f/Cdの成形体を作り、
その成形体を1210℃にて焼成した。第2図にせん断
速度と磁気特性の相関を示す。A,bは各各平均粒度0
.85μ,1.06μの磁性粉末スラリ t一と抗磁力
Hcとの関係を示す図、C,dは各々平均粒度0.85
μ,1.06μの磁性粉末スラリーと残留磁束密度との
関係を示す図である。原料スラリーを金型に杓子にて入
れ、磁場強度40000eにて圧搾成形した時のB−H
特性を比較のため表にした。第2図に示す如く、せん断
速度の変化によつてB−H特性は大きく変化し、ほぼ2
00sec−1でBr値は最大値となつている。
均粒度0.85μ(スラリー濃度60%)と1.06μ
(スラリー濃度60%)の2種類を用い、スラリー圧送
装置の前進速度を変化させることによつて、せん断速度
10〜500sec−1の間にて変化させて圧送し、平
均密度2.70y/Cdまで圧送した後、下パンチの相
対変位にて平均密度2.95f/Cdの成形体を作り、
その成形体を1210℃にて焼成した。第2図にせん断
速度と磁気特性の相関を示す。A,bは各各平均粒度0
.85μ,1.06μの磁性粉末スラリ t一と抗磁力
Hcとの関係を示す図、C,dは各々平均粒度0.85
μ,1.06μの磁性粉末スラリーと残留磁束密度との
関係を示す図である。原料スラリーを金型に杓子にて入
れ、磁場強度40000eにて圧搾成形した時のB−H
特性を比較のため表にした。第2図に示す如く、せん断
速度の変化によつてB−H特性は大きく変化し、ほぼ2
00sec−1でBr値は最大値となつている。
すなわち、せん断を加えることによつて、スラリーの凝
集粒子を破壊することによつて配向性が向上し、200
sec−1以上においては、逆にスラリーの射出時の運
動量の増大によつて配向性が阻害されることからBH特
性は低下する。両スラリーとも、ほぼ静的な充填を行な
つたものに対して、同一抗磁力で残留磁束密度が約15
0G向上しており、せん断による凝集粒子破壊による配
向性の向上が確認される。なお、第2図ではデータの一
例を示したにすぎなく、各スラリーの有するチクソトロ
ピ一性及び濾過特性、さらには磁場強度によつて、最高
せん断速度は支配されるのは当然であり、一般のフエラ
イトスラリ一では、せん断速度は50〜300?−1程
度が良好である結果を得ている。以上、説明した如く、
本発明を実施することにより次なる効果が得られる。
集粒子を破壊することによつて配向性が向上し、200
sec−1以上においては、逆にスラリーの射出時の運
動量の増大によつて配向性が阻害されることからBH特
性は低下する。両スラリーとも、ほぼ静的な充填を行な
つたものに対して、同一抗磁力で残留磁束密度が約15
0G向上しており、せん断による凝集粒子破壊による配
向性の向上が確認される。なお、第2図ではデータの一
例を示したにすぎなく、各スラリーの有するチクソトロ
ピ一性及び濾過特性、さらには磁場強度によつて、最高
せん断速度は支配されるのは当然であり、一般のフエラ
イトスラリ一では、せん断速度は50〜300?−1程
度が良好である結果を得ている。以上、説明した如く、
本発明を実施することにより次なる効果が得られる。
(1)配向性の高い、高性能フエライト磁石の製造が可
能である。
能である。
(2)同一特性を得るためには、配向性が向上させ得る
ので、粉砕粒度の大きいスラリーを使用できる。
ので、粉砕粒度の大きいスラリーを使用できる。
(3)粉砕時間の半減及び濾過特性の向上による成形サ
イクルの約1.5倍以上が可能となる。
イクルの約1.5倍以上が可能となる。
このようなことから成形能率が増大し、生産性の向上、
製造製品の特性向上など、その工業的効果には大なるも
のがある。
製造製品の特性向上など、その工業的効果には大なるも
のがある。
第1図は本発明に使用する成形プレスの一例を示す図、
第2図はせん断速度と磁石特性の関係を示す図である。 2:上パンチ、3:ダイス 9:下パンチ、13:スラ
リ一注入口。
第2図はせん断速度と磁石特性の関係を示す図である。 2:上パンチ、3:ダイス 9:下パンチ、13:スラ
リ一注入口。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 ダイスの両端を開放し成形に際してその端を固定し
た下パンチにより閉じ、他端を上パンチにより閉じた型
のキャビティ内に磁性微粉末を懸濁したスラリーをキャ
ビティ中へ50〜300sec^−^1の高剪断速度に
て高圧圧送充填し、磁場中成形することにより上記キャ
ビティ内から液体を排除することにより成形品を得るこ
とを特徴とする湿式高圧圧送成形方法。 2 磁性微粉末を懸濁したスラリーをキャビティ中へ充
填した後、上記キャビティの内容積を減少せしめながら
成形することにより成形品を得ることを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載の湿式高圧圧送成形方法。 3 磁性微粉末が酸化物磁性材料である特許請求の範囲
第1項記載の湿式高圧圧送成形方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP51045477A JPS5915162B2 (ja) | 1976-04-23 | 1976-04-23 | 湿式高圧圧送成形法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP51045477A JPS5915162B2 (ja) | 1976-04-23 | 1976-04-23 | 湿式高圧圧送成形法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS52129999A JPS52129999A (en) | 1977-10-31 |
JPS5915162B2 true JPS5915162B2 (ja) | 1984-04-07 |
Family
ID=12720464
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP51045477A Expired JPS5915162B2 (ja) | 1976-04-23 | 1976-04-23 | 湿式高圧圧送成形法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5915162B2 (ja) |
-
1976
- 1976-04-23 JP JP51045477A patent/JPS5915162B2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS52129999A (en) | 1977-10-31 |
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