JPS59150492A - 厚膜多層基板の製造方法 - Google Patents
厚膜多層基板の製造方法Info
- Publication number
- JPS59150492A JPS59150492A JP1611983A JP1611983A JPS59150492A JP S59150492 A JPS59150492 A JP S59150492A JP 1611983 A JP1611983 A JP 1611983A JP 1611983 A JP1611983 A JP 1611983A JP S59150492 A JPS59150492 A JP S59150492A
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- JP
- Japan
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- resistor
- printing
- layer
- film
- emulsion
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- Pending
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- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、スクリーン印刷の手法を用いて作製される厚
膜多層基板の製造方法に関する。
膜多層基板の製造方法に関する。
最近−子機器の小形軽量化の為に、混成集積回路が多用
される様になったが、この混成集積回路の一般的なもの
は、例えば、アルミナ基板等の絶イ咳基板に銀−パラジ
ウム系ペースト等で41a回路を印刷し、高温焼成して
#1炭凱抗基板ケ作り、こや の基板に受動素子X能動素子のチップ状部品類を実装置
〜で半田伺すしてイケることができる。そして、更Vこ
この混成集積回路を筒密朋化する方法として11絶縁基
板上の49電回路上の一部に、フJラスペースト等を印
刷して絶縁層を形成し、その上に銀−パラジウム系ペー
スト等でクロスジyンパー線を形成した後にM膜抵抗を
印刷形成ノーる、いわゆる厚嗅多)f′!基板がめる。
される様になったが、この混成集積回路の一般的なもの
は、例えば、アルミナ基板等の絶イ咳基板に銀−パラジ
ウム系ペースト等で41a回路を印刷し、高温焼成して
#1炭凱抗基板ケ作り、こや の基板に受動素子X能動素子のチップ状部品類を実装置
〜で半田伺すしてイケることができる。そして、更Vこ
この混成集積回路を筒密朋化する方法として11絶縁基
板上の49電回路上の一部に、フJラスペースト等を印
刷して絶縁層を形成し、その上に銀−パラジウム系ペー
スト等でクロスジyンパー線を形成した後にM膜抵抗を
印刷形成ノーる、いわゆる厚嗅多)f′!基板がめる。
従来の厚膜多層基板の製造フロセスは、例えば弔1図(
a)に示す如く、アルミナ等の絶わ、十板(1)に銀−
パラジウム系ペースト等で弔1配糾1導体層(2)を印
刷、・1!、成した後に、第1図(b)に示ナムEl
< 4 +j’j’。
a)に示す如く、アルミナ等の絶わ、十板(1)に銀−
パラジウム系ペースト等で弔1配糾1導体層(2)を印
刷、・1!、成した後に、第1図(b)に示ナムEl
< 4 +j’j’。
回路−にの一部に一すラスペースト等で絶H層(、()
を印刷、焼成し、wvcH1図(c)の如く銀−パラジ
ウム系ペーストでf、j:11配線々゛)体層(2)と
交差する第2配線導体層(4)を印刷、焼成した後に、
rt1図(d)の如< h=化ルテニ・・ム系ペースト
等の抵抗体(5)を、印刷、+F9.成する。
を印刷、焼成し、wvcH1図(c)の如く銀−パラジ
ウム系ペーストでf、j:11配線々゛)体層(2)と
交差する第2配線導体層(4)を印刷、焼成した後に、
rt1図(d)の如< h=化ルテニ・・ム系ペースト
等の抵抗体(5)を、印刷、+F9.成する。
上記の方法では、絶縁層(3)とイ1.2配線尋体層(
4)とが重ねられている多層配線部分(6)の厚みが約
40〜70μとなる。しだがって、との多層配線部分(
6)に近接する位置に、抵抗体(5)を印刷する場合、
第1図(e)に示すr4.+ (、従来のスクリーン、
すなわちメソシコス、リーン(力にほぼ」さ1−なj厚
みで乳剤(8)をコーティングし、抵抗体(5)を印刷
する部位に開口↑11(flO)を設けたスクリーン0
υを用いたのでrよ、多層配線部分(6)がスクリーン
0υの乳剤面+121に当り、乳剤面112+と抵抗印
刷面(1:(1間にキャップが生じてし7トー・ていた
。このため、多層配線tltl〜分(6)に近接する抵
抗体(5)の印刷時の印圧は、他の抵抗体(図示)tず
)の印圧に比べ低くなり、他の抵抗体よりもその膜nが
厚くなってし甘い、シート抵抗値が所望の値よりも大き
く変化し7てし神っていた。
4)とが重ねられている多層配線部分(6)の厚みが約
40〜70μとなる。しだがって、との多層配線部分(
6)に近接する位置に、抵抗体(5)を印刷する場合、
第1図(e)に示すr4.+ (、従来のスクリーン、
すなわちメソシコス、リーン(力にほぼ」さ1−なj厚
みで乳剤(8)をコーティングし、抵抗体(5)を印刷
する部位に開口↑11(flO)を設けたスクリーン0
υを用いたのでrよ、多層配線部分(6)がスクリーン
0υの乳剤面+121に当り、乳剤面112+と抵抗印
刷面(1:(1間にキャップが生じてし7トー・ていた
。このため、多層配線tltl〜分(6)に近接する抵
抗体(5)の印刷時の印圧は、他の抵抗体(図示)tず
)の印圧に比べ低くなり、他の抵抗体よりもその膜nが
厚くなってし甘い、シート抵抗値が所望の値よりも大き
く変化し7てし神っていた。
本発明は、」二記の問題点に鑑み成されたもので既に印
刷形成された部分的に凸部(外lグ;配朽i部分)忙有
する厚膜基板シで、高精度の抵抗体を印刷形成すること
を目的とする。□ 〔発明の仲□安J 本発明は、多層配線部分に対応する位1Hにおけろ乳剤
の1−9みを減少させた抵抗体印刷用ヌクリーフを用い
た)早1卓多層基板の製造方法である。
刷形成された部分的に凸部(外lグ;配朽i部分)忙有
する厚膜基板シで、高精度の抵抗体を印刷形成すること
を目的とする。□ 〔発明の仲□安J 本発明は、多層配線部分に対応する位1Hにおけろ乳剤
の1−9みを減少させた抵抗体印刷用ヌクリーフを用い
た)早1卓多層基板の製造方法である。
以下、本発明の厚膜多層基板の製造方法の一実施例を図
面を用いて説明する。本発明では、第2図に示す如く、
既に印刷形成された多ノー配線部分(6)に当接する位
置の乳剤面に四部(141を設けた印刷用スクリーン(
19を用いて、抵抗体印刷ケ行う。この四′部旧)は、
乳剤面(12が抵抗体印刷面(13)に密層するようK
、その深さが〆大められる。ず7.r、わtハ凹部(
14)の深さは、多層配か一部分(6)が四部(141
内にソ)〔、全に収められるように、多層配線部分(6
)が抵抗体印刷面(131より突出する高さ以上に設定
される。
面を用いて説明する。本発明では、第2図に示す如く、
既に印刷形成された多ノー配線部分(6)に当接する位
置の乳剤面に四部(141を設けた印刷用スクリーン(
19を用いて、抵抗体印刷ケ行う。この四′部旧)は、
乳剤面(12が抵抗体印刷面(13)に密層するようK
、その深さが〆大められる。ず7.r、わtハ凹部(
14)の深さは、多層配か一部分(6)が四部(141
内にソ)〔、全に収められるように、多層配線部分(6
)が抵抗体印刷面(131より突出する高さ以上に設定
される。
上記の如く、多層配置!’i1部分(6)の位(1イ、
に応じて1、:11.公的tてその乳剤の厚みが凶化す
る抵抗体印刷用スクリ ンは以下のようにして得ること
ができる。
に応じて1、:11.公的tてその乳剤の厚みが凶化す
る抵抗体印刷用スクリ ンは以下のようにして得ること
ができる。
マス、第3 図(a)の如く、ステンレスメッシコ(廊
に81tlJVj目の乳剤(Zla)を詫付し、次いで
第3図(b)の如く、抵抗体印刷のための開口部(22
a ) 、 (22b)を設けるために、乳剤(21a
)の面上にシ、4↓lのフイルノ・(23a)を11ね
、紫外線でbi+光する。
に81tlJVj目の乳剤(Zla)を詫付し、次いで
第3図(b)の如く、抵抗体印刷のための開口部(22
a ) 、 (22b)を設けるために、乳剤(21a
)の面上にシ、4↓lのフイルノ・(23a)を11ね
、紫外線でbi+光する。
次に、l尼lのフィルム(23a)を除去した後、第3
図(c)のul」<、第1層目の乳剤(21a)上に第
2層目の乳剤(211))を−重ねて塗布する。このと
きの乳剤−(21b)の厚みは、第2図に示した多層配
線部分(6)が抵抗体印刷面(1濁より突出する而さ以
上とする、次いで、@g 3ド1(d)の如く、乳剤(
21b)の面上に’、、f% 2のフィルム(23b)
を車ね、先と同様に紫外線露光を行う。この第2のフィ
ルム(23b)は、乳剤(21b)の向上の抵抗体印刷
のだめの開口gB (7,2a ) 。
図(c)のul」<、第1層目の乳剤(21a)上に第
2層目の乳剤(211))を−重ねて塗布する。このと
きの乳剤−(21b)の厚みは、第2図に示した多層配
線部分(6)が抵抗体印刷面(1濁より突出する而さ以
上とする、次いで、@g 3ド1(d)の如く、乳剤(
21b)の面上に’、、f% 2のフィルム(23b)
を車ね、先と同様に紫外線露光を行う。この第2のフィ
ルム(23b)は、乳剤(21b)の向上の抵抗体印刷
のだめの開口gB (7,2a ) 。
(22b )が設けられる位置および多層配線&19分
(6)が収納されるべき位ik#、 (22c)に重ね
られる。
(6)が収納されるべき位ik#、 (22c)に重ね
られる。
最後に第2のフィルム(23b)を除去した後、第1お
よび第2の乳剤(21a) 、(21b)を同時に現像
する。こうして第3図(e)に示す如く、抵抗体印刷の
ための開口部(22a) 、(22b)を’IA]+第
2の乳剤(21a) 、(21b)を貝辿して設け、ま
た多層配線部分(6)が収納されろ凹部12つを第2の
乳剤(2,1b )部分にのみ設け←央ることにより、
乳剤の厚みがt’+3分的に異なうスクリーン;、Xn
)が発成される。
よび第2の乳剤(21a) 、(21b)を同時に現像
する。こうして第3図(e)に示す如く、抵抗体印刷の
ための開口部(22a) 、(22b)を’IA]+第
2の乳剤(21a) 、(21b)を貝辿して設け、ま
た多層配線部分(6)が収納されろ凹部12つを第2の
乳剤(2,1b )部分にのみ設け←央ることにより、
乳剤の厚みがt’+3分的に異なうスクリーン;、Xn
)が発成される。
な+5、上jj:の工程によれば、開口部は1;「4[
]部(22a )のように、乳剤j9..谷にj−X差
を設けて形成ず・′)ことがriJ能である。こcイ)
ように開11部(22a)の乳剤埋みに段差を収けるこ
とにより、必曹(・こ応じ印刷さtLる抵抗体のl(J
+ ti+形状に′Φ化にもた一す−ることかできる。
]部(22a )のように、乳剤j9..谷にj−X差
を設けて形成ず・′)ことがriJ能である。こcイ)
ように開11部(22a)の乳剤埋みに段差を収けるこ
とにより、必曹(・こ応じ印刷さtLる抵抗体のl(J
+ ti+形状に′Φ化にもた一す−ることかできる。
また、上記の工程では、’;ZS I Ha’、 2の
乳剤(21a)、(2]b)の現像を同時に行−)だが
、2i!2の乳剤(21b)を第1の乳剤(21a)上
vc塗布する以1)IJに、一旦現像まで行っても」:
い。
乳剤(21a)、(2]b)の現像を同時に行−)だが
、2i!2の乳剤(21b)を第1の乳剤(21a)上
vc塗布する以1)IJに、一旦現像まで行っても」:
い。
以上説2明してきた本発明によれば、乳剤j・lみが1
fl(公的に異なるスクリーンを用いることにより、不
均一な高さの印刷)と板表面にもほぼ均一な印圧により
抵抗体を印刷することかり能となる1、これに、しり、
印刷抵抗の抵抗値鞘度を出すことがでへ、4i 才g1
度の厚い多層基板r得ることがでへる。
fl(公的に異なるスクリーンを用いることにより、不
均一な高さの印刷)と板表面にもほぼ均一な印圧により
抵抗体を印刷することかり能となる1、これに、しり、
印刷抵抗の抵抗値鞘度を出すことがでへ、4i 才g1
度の厚い多層基板r得ることがでへる。
なお以上の説明にアルミナ等のセラミック多層配線基板
の製造プロセスの例で説、明したが、一般的(へ11脂
基板を用いた印刷多層基板にも応用できることは云うま
でもない。オた一上記液、明は2層で説。
の製造プロセスの例で説、明したが、一般的(へ11脂
基板を用いた印刷多層基板にも応用できることは云うま
でもない。オた一上記液、明は2層で説。
明したが2層以上の多層基板に於いても同様であるのも
当然である。
当然である。
第1図ケよ、うt来の厚膜多層基板の製造方法を示す工
程図、第2図は本発明の製造方法を1i1、明するため
の)阜j時多層基板の断面図、第3図は本発明に用いら
れるスクリーンの製造方法を示す工程図である。 ■・・・絶ン)一基板、2・・・第1配線d1体九4.
3・・・絶iす層、4・・・+:p、’ 2配線導体ノ
ビ、5・・・抵抗体、6・・・多層配W i”ils分
、21a、21b−乳剤、22a 、 22b−−・開
口部、25・・四部、15.30・・・スクリーン。
程図、第2図は本発明の製造方法を1i1、明するため
の)阜j時多層基板の断面図、第3図は本発明に用いら
れるスクリーンの製造方法を示す工程図である。 ■・・・絶ン)一基板、2・・・第1配線d1体九4.
3・・・絶iす層、4・・・+:p、’ 2配線導体ノ
ビ、5・・・抵抗体、6・・・多層配W i”ils分
、21a、21b−乳剤、22a 、 22b−−・開
口部、25・・四部、15.30・・・スクリーン。
Claims (3)
- (1)絶縁基板上に第1配線導体層を印刷焼成する工程
と、前記第1配線導体層上に絶縁層を印刷焼成する工程
と、前記絶縁層上に第2配線d+体層を印刷焼成する工
程と、前記第1配線導体層により形成される電極間に抵
抗体を印刷焼成する工程とを有する厚膜多層基板の製造
方法において、前記絶縁層および第2配線導体層が重ね
られて形成される多層配線部分に対応した位置の乳剤膜
厚が凹造方法。 - (2)抵抗体印刷用スクリーンは第1JV4目の感光性
乳剤を塗布後、抵抗体印刷のだめの開口部形成用の+)
l工1のフィルムを車ねて露光し、次いで第2層目の感
光性乳剤を塗布後、抵抗体および多層配線1.1〜分に
対応する部分に第2のフィルムを重ねて露光し、次いで
前記第1層目ならびに帛2層目の乳剤を同時に現像する
ことにより得られるものでめることを特徴とする特許請
求の範囲第1項記載の厚膜多層基板の製造方法。 - (3)抵抗体印刷用スクリーンは第1層目の感光性乳剤
を塗布後、抵抗体印刷のだめの開口部形成用の第1のフ
ィルムを重ねて露光、現像し、次いで第2肋目の感光性
乳剤を塗布後、抵抗体および多層配線部分に対応する部
分に第2のフィルムを重ねて霧光、現像することにより
得られるものであることを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載の厚膜多層基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1611983A JPS59150492A (ja) | 1983-02-04 | 1983-02-04 | 厚膜多層基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1611983A JPS59150492A (ja) | 1983-02-04 | 1983-02-04 | 厚膜多層基板の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59150492A true JPS59150492A (ja) | 1984-08-28 |
Family
ID=11907625
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1611983A Pending JPS59150492A (ja) | 1983-02-04 | 1983-02-04 | 厚膜多層基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59150492A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63175431A (ja) * | 1986-12-22 | 1988-07-19 | エイ・ティ・アンド・ティ・コーポレーション | ホウケイ酸ガラスを有する半導体装置の製造方法 |
-
1983
- 1983-02-04 JP JP1611983A patent/JPS59150492A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63175431A (ja) * | 1986-12-22 | 1988-07-19 | エイ・ティ・アンド・ティ・コーポレーション | ホウケイ酸ガラスを有する半導体装置の製造方法 |
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