JPS59150492A - 厚膜多層基板の製造方法 - Google Patents

厚膜多層基板の製造方法

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JPS59150492A
JPS59150492A JP1611983A JP1611983A JPS59150492A JP S59150492 A JPS59150492 A JP S59150492A JP 1611983 A JP1611983 A JP 1611983A JP 1611983 A JP1611983 A JP 1611983A JP S59150492 A JPS59150492 A JP S59150492A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resistor
printing
layer
film
emulsion
Prior art date
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Pending
Application number
JP1611983A
Other languages
English (en)
Inventor
金沢 啓二
康人 斎藤
岩崎 吉美
金子 恒雄
雅雄 瀬川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Toshiba AVE Co Ltd
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Audio Video Engineering Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Toshiba Audio Video Engineering Co Ltd filed Critical Toshiba Corp
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Publication of JPS59150492A publication Critical patent/JPS59150492A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、スクリーン印刷の手法を用いて作製される厚
膜多層基板の製造方法に関する。
〔発明の技術的背景とその問題点〕
最近−子機器の小形軽量化の為に、混成集積回路が多用
される様になったが、この混成集積回路の一般的なもの
は、例えば、アルミナ基板等の絶イ咳基板に銀−パラジ
ウム系ペースト等で41a回路を印刷し、高温焼成して
#1炭凱抗基板ケ作り、こや の基板に受動素子X能動素子のチップ状部品類を実装置
〜で半田伺すしてイケることができる。そして、更Vこ
この混成集積回路を筒密朋化する方法として11絶縁基
板上の49電回路上の一部に、フJラスペースト等を印
刷して絶縁層を形成し、その上に銀−パラジウム系ペー
スト等でクロスジyンパー線を形成した後にM膜抵抗を
印刷形成ノーる、いわゆる厚嗅多)f′!基板がめる。
従来の厚膜多層基板の製造フロセスは、例えば弔1図(
a)に示す如く、アルミナ等の絶わ、十板(1)に銀−
パラジウム系ペースト等で弔1配糾1導体層(2)を印
刷、・1!、成した後に、第1図(b)に示ナムEl 
< 4 +j’j’。
回路−にの一部に一すラスペースト等で絶H層(、()
を印刷、焼成し、wvcH1図(c)の如く銀−パラジ
ウム系ペーストでf、j:11配線々゛)体層(2)と
交差する第2配線導体層(4)を印刷、焼成した後に、
rt1図(d)の如< h=化ルテニ・・ム系ペースト
等の抵抗体(5)を、印刷、+F9.成する。
上記の方法では、絶縁層(3)とイ1.2配線尋体層(
4)とが重ねられている多層配線部分(6)の厚みが約
40〜70μとなる。しだがって、との多層配線部分(
6)に近接する位置に、抵抗体(5)を印刷する場合、
第1図(e)に示すr4.+ (、従来のスクリーン、
すなわちメソシコス、リーン(力にほぼ」さ1−なj厚
みで乳剤(8)をコーティングし、抵抗体(5)を印刷
する部位に開口↑11(flO)を設けたスクリーン0
υを用いたのでrよ、多層配線部分(6)がスクリーン
0υの乳剤面+121に当り、乳剤面112+と抵抗印
刷面(1:(1間にキャップが生じてし7トー・ていた
。このため、多層配線tltl〜分(6)に近接する抵
抗体(5)の印刷時の印圧は、他の抵抗体(図示)tず
)の印圧に比べ低くなり、他の抵抗体よりもその膜nが
厚くなってし甘い、シート抵抗値が所望の値よりも大き
く変化し7てし神っていた。
〔発明の目的〕
本発明は、」二記の問題点に鑑み成されたもので既に印
刷形成された部分的に凸部(外lグ;配朽i部分)忙有
する厚膜基板シで、高精度の抵抗体を印刷形成すること
を目的とする。□ 〔発明の仲□安J 本発明は、多層配線部分に対応する位1Hにおけろ乳剤
の1−9みを減少させた抵抗体印刷用ヌクリーフを用い
た)早1卓多層基板の製造方法である。
〔発明の実施例〕
以下、本発明の厚膜多層基板の製造方法の一実施例を図
面を用いて説明する。本発明では、第2図に示す如く、
既に印刷形成された多ノー配線部分(6)に当接する位
置の乳剤面に四部(141を設けた印刷用スクリーン(
19を用いて、抵抗体印刷ケ行う。この四′部旧)は、
乳剤面(12が抵抗体印刷面(13)に密層するようK
 、その深さが〆大められる。ず7.r、わtハ凹部(
14)の深さは、多層配か一部分(6)が四部(141
内にソ)〔、全に収められるように、多層配線部分(6
)が抵抗体印刷面(131より突出する高さ以上に設定
される。
上記の如く、多層配置!’i1部分(6)の位(1イ、
に応じて1、:11.公的tてその乳剤の厚みが凶化す
る抵抗体印刷用スクリ ンは以下のようにして得ること
ができる。
マス、第3 図(a)の如く、ステンレスメッシコ(廊
に81tlJVj目の乳剤(Zla)を詫付し、次いで
第3図(b)の如く、抵抗体印刷のための開口部(22
a ) 、 (22b)を設けるために、乳剤(21a
)の面上にシ、4↓lのフイルノ・(23a)を11ね
、紫外線でbi+光する。
次に、l尼lのフィルム(23a)を除去した後、第3
図(c)のul」<、第1層目の乳剤(21a)上に第
2層目の乳剤(211))を−重ねて塗布する。このと
きの乳剤−(21b)の厚みは、第2図に示した多層配
線部分(6)が抵抗体印刷面(1濁より突出する而さ以
上とする、次いで、@g 3ド1(d)の如く、乳剤(
21b)の面上に’、、f% 2のフィルム(23b)
を車ね、先と同様に紫外線露光を行う。この第2のフィ
ルム(23b)は、乳剤(21b)の向上の抵抗体印刷
のだめの開口gB (7,2a ) 。
(22b )が設けられる位置および多層配線&19分
(6)が収納されるべき位ik#、 (22c)に重ね
られる。
最後に第2のフィルム(23b)を除去した後、第1お
よび第2の乳剤(21a) 、(21b)を同時に現像
する。こうして第3図(e)に示す如く、抵抗体印刷の
ための開口部(22a) 、(22b)を’IA]+第
2の乳剤(21a) 、(21b)を貝辿して設け、ま
た多層配線部分(6)が収納されろ凹部12つを第2の
乳剤(2,1b )部分にのみ設け←央ることにより、
乳剤の厚みがt’+3分的に異なうスクリーン;、Xn
)が発成される。
な+5、上jj:の工程によれば、開口部は1;「4[
]部(22a )のように、乳剤j9..谷にj−X差
を設けて形成ず・′)ことがriJ能である。こcイ)
ように開11部(22a)の乳剤埋みに段差を収けるこ
とにより、必曹(・こ応じ印刷さtLる抵抗体のl(J
+ ti+形状に′Φ化にもた一す−ることかできる。
また、上記の工程では、’;ZS I Ha’、 2の
乳剤(21a)、(2]b)の現像を同時に行−)だが
、2i!2の乳剤(21b)を第1の乳剤(21a)上
vc塗布する以1)IJに、一旦現像まで行っても」:
い。
〔発明の効果〕
以上説2明してきた本発明によれば、乳剤j・lみが1
fl(公的に異なるスクリーンを用いることにより、不
均一な高さの印刷)と板表面にもほぼ均一な印圧により
抵抗体を印刷することかり能となる1、これに、しり、
印刷抵抗の抵抗値鞘度を出すことがでへ、4i 才g1
度の厚い多層基板r得ることがでへる。
なお以上の説明にアルミナ等のセラミック多層配線基板
の製造プロセスの例で説、明したが、一般的(へ11脂
基板を用いた印刷多層基板にも応用できることは云うま
でもない。オた一上記液、明は2層で説。
明したが2層以上の多層基板に於いても同様であるのも
当然である。
【図面の簡単な説明】
第1図ケよ、うt来の厚膜多層基板の製造方法を示す工
程図、第2図は本発明の製造方法を1i1、明するため
の)阜j時多層基板の断面図、第3図は本発明に用いら
れるスクリーンの製造方法を示す工程図である。 ■・・・絶ン)一基板、2・・・第1配線d1体九4.
3・・・絶iす層、4・・・+:p、’ 2配線導体ノ
ビ、5・・・抵抗体、6・・・多層配W i”ils分
、21a、21b−乳剤、22a 、 22b−−・開
口部、25・・四部、15.30・・・スクリーン。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)絶縁基板上に第1配線導体層を印刷焼成する工程
    と、前記第1配線導体層上に絶縁層を印刷焼成する工程
    と、前記絶縁層上に第2配線d+体層を印刷焼成する工
    程と、前記第1配線導体層により形成される電極間に抵
    抗体を印刷焼成する工程とを有する厚膜多層基板の製造
    方法において、前記絶縁層および第2配線導体層が重ね
    られて形成される多層配線部分に対応した位置の乳剤膜
    厚が凹造方法。
  2. (2)抵抗体印刷用スクリーンは第1JV4目の感光性
    乳剤を塗布後、抵抗体印刷のだめの開口部形成用の+)
    l工1のフィルムを車ねて露光し、次いで第2層目の感
    光性乳剤を塗布後、抵抗体および多層配線1.1〜分に
    対応する部分に第2のフィルムを重ねて露光し、次いで
    前記第1層目ならびに帛2層目の乳剤を同時に現像する
    ことにより得られるものでめることを特徴とする特許請
    求の範囲第1項記載の厚膜多層基板の製造方法。
  3. (3)抵抗体印刷用スクリーンは第1層目の感光性乳剤
    を塗布後、抵抗体印刷のだめの開口部形成用の第1のフ
    ィルムを重ねて露光、現像し、次いで第2肋目の感光性
    乳剤を塗布後、抵抗体および多層配線部分に対応する部
    分に第2のフィルムを重ねて霧光、現像することにより
    得られるものであることを特徴とする特許請求の範囲第
    1項記載の厚膜多層基板の製造方法。
JP1611983A 1983-02-04 1983-02-04 厚膜多層基板の製造方法 Pending JPS59150492A (ja)

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JPS59150492A true JPS59150492A (ja) 1984-08-28

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ID=11907625

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JP1611983A Pending JPS59150492A (ja) 1983-02-04 1983-02-04 厚膜多層基板の製造方法

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63175431A (ja) * 1986-12-22 1988-07-19 エイ・ティ・アンド・ティ・コーポレーション ホウケイ酸ガラスを有する半導体装置の製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63175431A (ja) * 1986-12-22 1988-07-19 エイ・ティ・アンド・ティ・コーポレーション ホウケイ酸ガラスを有する半導体装置の製造方法

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