JPS59143157A - 製版用感光性マスク材料および製版用マスク版の製造方法 - Google Patents
製版用感光性マスク材料および製版用マスク版の製造方法Info
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- JPS59143157A JPS59143157A JP58017949A JP1794983A JPS59143157A JP S59143157 A JPS59143157 A JP S59143157A JP 58017949 A JP58017949 A JP 58017949A JP 1794983 A JP1794983 A JP 1794983A JP S59143157 A JPS59143157 A JP S59143157A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/90—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof prepared by montage processes
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
に用いる感光性マスク材料および製版用マスク版の製造
方法に関する。
方法に関する。
従来より画像を網点てなくベタで印刷する場合、版画を
製版するために使用されるマスク版を、再現すべき画像
をいわゆるくくり線で囲んで構成した原稿(以下くくり
線原稿と称す)を基にして感光性材料に写真処理を施こ
して作成する方法がある。すなわちネカテイブまたはポ
ジティブのくくシ線原稿を感光性月料の遮光性の感光性
ビール層に焼付け、次いで該ビール層に応じて現像もし
くは現像とエツチングの処理を行なうと、第1図(A>
に示すように感光性材料1の透明フィルム2上には原稿
3のくくり線4に相当する溝5の形成された感光性ビー
ル層のレリーフ画像6が形成される。
製版するために使用されるマスク版を、再現すべき画像
をいわゆるくくり線で囲んで構成した原稿(以下くくり
線原稿と称す)を基にして感光性材料に写真処理を施こ
して作成する方法がある。すなわちネカテイブまたはポ
ジティブのくくシ線原稿を感光性月料の遮光性の感光性
ビール層に焼付け、次いで該ビール層に応じて現像もし
くは現像とエツチングの処理を行なうと、第1図(A>
に示すように感光性材料1の透明フィルム2上には原稿
3のくくり線4に相当する溝5の形成された感光性ビー
ル層のレリーフ画像6が形成される。
次いで第1図(B)に示すように透明フィルム2からレ
リーフ画像6をマスクする部分6′を残して針、ナイフ
などで剥取ると必要な画像が遮光性を有しない四部7と
して形成されたマスク版8が得られる。そしてこうして
得られたマスク版8に基づいて同様な写真処理を施こし
て版面の製版が行なわれる。
リーフ画像6をマスクする部分6′を残して針、ナイフ
などで剥取ると必要な画像が遮光性を有しない四部7と
して形成されたマスク版8が得られる。そしてこうして
得られたマスク版8に基づいて同様な写真処理を施こし
て版面の製版が行なわれる。
ところで多色印刷をする場合、通常各色のマスク版は金
板ネガ原稿から得られたレリーフ画像をその色に応じた
選択的剥取ルによって作成されており、金板ネガ原稿に
はある色のマスク版に不必要な他の色のマスク版のくく
り線が含壕れている。
板ネガ原稿から得られたレリーフ画像をその色に応じた
選択的剥取ルによって作成されており、金板ネガ原稿に
はある色のマスク版に不必要な他の色のマスク版のくく
り線が含壕れている。
このくく9線に対応して感光性ビール層に形成される溝
のところでは光を遮光しないので、選択的剥取りによっ
て各色のマスク版を作成するにあたり、修正液と呼ばれ
る高め活性光線遮光性を有する塗布液を画像上に塗布、
乾燥して不必要なくくり線に相当する溝を埋め隠蔽、消
去しておく必要がある。このこと゛は周囲をぐくり線で
囲捷ず線そのもので描く文字等についても同じである。
のところでは光を遮光しないので、選択的剥取りによっ
て各色のマスク版を作成するにあたり、修正液と呼ばれ
る高め活性光線遮光性を有する塗布液を画像上に塗布、
乾燥して不必要なくくり線に相当する溝を埋め隠蔽、消
去しておく必要がある。このこと゛は周囲をぐくり線で
囲捷ず線そのもので描く文字等についても同じである。
捷だ異なる色をぴったりと突き合せる印刷においても、
くくり線に相当する溝の部分をどちらか一方の色になる
ようにしなければならず、他方の色のマスク版は突き合
せる部分の画像全面に修正液を塗布、乾燥して溝を隠蔽
、消去してから剥取り作成する必要がある。
くくり線に相当する溝の部分をどちらか一方の色になる
ようにしなければならず、他方の色のマスク版は突き合
せる部分の画像全面に修正液を塗布、乾燥して溝を隠蔽
、消去してから剥取り作成する必要がある。
この様な目的に使用される修正液には、有機溶剤浴液型
と水溶液型のものがある。有機浴剤溶液型は、引火性や
臭気の点、で取扱上注意を要する。
と水溶液型のものがある。有機浴剤溶液型は、引火性や
臭気の点、で取扱上注意を要する。
また水@散型も乾燥が非常に遅く作業上能率が悪いなど
の欠点を有する。
の欠点を有する。
更に、修正液の塗布には平らな広い場所と均一に塗布す
る技術が必要であり、製版の作業工程上改良の要求され
る部分であった。
る技術が必要であり、製版の作業工程上改良の要求され
る部分であった。
本発明はかかる従来の難点に鑑みなされたもので、その
特徴とするところは透明フィルム支持体上に紫外線遮光
性で可視光線透過性の剥離可能な薄膜層を形成して該薄
膜層により紫外線に対する遮光性を持たせるとともに、
該薄膜層の上に形成する感光性ビール層を強靭な皮膜性
を有しかつ薄膜層と強固な接着力を有するものとし、ネ
ガティブなレリーフ画像を剥離したとき一緒に下の薄膜
層を同形に剥離させて必要な画像を形成し、くくり線お
よび文字等を描いた線に対応する薄膜層は透明フィルム
上゛に常に残存するようにした点にある0 以下本発明の詳細な説明する。
特徴とするところは透明フィルム支持体上に紫外線遮光
性で可視光線透過性の剥離可能な薄膜層を形成して該薄
膜層により紫外線に対する遮光性を持たせるとともに、
該薄膜層の上に形成する感光性ビール層を強靭な皮膜性
を有しかつ薄膜層と強固な接着力を有するものとし、ネ
ガティブなレリーフ画像を剥離したとき一緒に下の薄膜
層を同形に剥離させて必要な画像を形成し、くくり線お
よび文字等を描いた線に対応する薄膜層は透明フィルム
上゛に常に残存するようにした点にある0 以下本発明の詳細な説明する。
本発明の感光性マスク材料は、第2図に示すように透明
フィルムの支持体9上に紫外線遮光性で可視光線透過性
の剥離可能な′lJ膜層(以下遮光性′M薄膜層称す)
10を形成し、該遮光性薄膜層10の上にこれと強固に
接着しかつ強靭な皮膜性を有する感光性ビール層1丁−
を形成して構成される。
フィルムの支持体9上に紫外線遮光性で可視光線透過性
の剥離可能な′lJ膜層(以下遮光性′M薄膜層称す)
10を形成し、該遮光性薄膜層10の上にこれと強固に
接着しかつ強靭な皮膜性を有する感光性ビール層1丁−
を形成して構成される。
本発明で使用する支持体9としては、平滑な表面を有し
、かつその上に以下に述べる遮光性薄膜層を設けること
ができるフィルム形成性熱可塑性高分子化合物のフィル
ムが用いられる。例えばポリエステル、ポリカーボネー
ト、ポリアミド、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポ
リスチレン、ポリメチルメタアクリレートおよびこれら
の共重合体、ジアセチルセルロース、トリアセチルセル
ロース、フロビルセルロースおよヒ混合セルロースエス
テルが挙げられる。このうち寸法安定性に優れた二軸延
伸ポリエチレノテレフタレートフイルムは特に好ましい
。
、かつその上に以下に述べる遮光性薄膜層を設けること
ができるフィルム形成性熱可塑性高分子化合物のフィル
ムが用いられる。例えばポリエステル、ポリカーボネー
ト、ポリアミド、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポ
リスチレン、ポリメチルメタアクリレートおよびこれら
の共重合体、ジアセチルセルロース、トリアセチルセル
ロース、フロビルセルロースおよヒ混合セルロースエス
テルが挙げられる。このうち寸法安定性に優れた二軸延
伸ポリエチレノテレフタレートフイルムは特に好ましい
。
本発明において紫外線遮光性で可視光線透過性の剥離可
能な遮光性薄膜層10と感光性ビール層11とは次のよ
うに構成される。すなわち、薄膜層10と透明フィルム
9との界面の接着力rA1A1膜薄膜層と感光性ビール
層11との界面の接着力をBとした場合、該薄膜層およ
び感光性ビール層は、A<Bとなるような組成で構成さ
れる。
能な遮光性薄膜層10と感光性ビール層11とは次のよ
うに構成される。すなわち、薄膜層10と透明フィルム
9との界面の接着力rA1A1膜薄膜層と感光性ビール
層11との界面の接着力をBとした場合、該薄膜層およ
び感光性ビール層は、A<Bとなるような組成で構成さ
れる。
この場合、Aは通常のフィルム取扱い作業中に該薄膜層
か脱落しない程度の接着力でよく、寸だ、Bは上の条件
を満足する限りいかに強い接着でもよい。
か脱落しない程度の接着力でよく、寸だ、Bは上の条件
を満足する限りいかに強い接着でもよい。
まだ紫外線遮光性で可視光線透過性の剥離可能な遮光性
薄膜層は、本発明に従って、部分的に剥離した場合、透
明フィルム上に残る、くくり線に相当する部分の端部が
シャープに仕上る必要があるため、引き裂き強度の弱い
組成がよい。
薄膜層は、本発明に従って、部分的に剥離した場合、透
明フィルム上に残る、くくり線に相当する部分の端部が
シャープに仕上る必要があるため、引き裂き強度の弱い
組成がよい。
上記薄膜層は、バインダー用高分子化合物および有色顔
料又は染料からなり、バインダー用高分子化合物と有色
顔料又は染料とを、適当な溶媒にて溶解、分散して支持
体フィルム上に塗布、乾燥して形成される。
料又は染料からなり、バインダー用高分子化合物と有色
顔料又は染料とを、適当な溶媒にて溶解、分散して支持
体フィルム上に塗布、乾燥して形成される。
バインダー用高分子化合物としては、ポリ酢酸ビニル、
ポリビニルブチラール、ホリヒニルホルマール、ポリビ
ニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン
、ポリフッ化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
、塩化ビニル−頗・酸ビニリチン共重合体、塩化ビニル
−酢酸ビニル−(無水マレイン酸、アクリロニトリルま
たはビニルアルコール)三元共重合体、塩化ビニル−塩
化ビニリデン−(アクリロニトリル、酢酸ビニル捷たは
メチルメタアクリレート)三元共重合体、アクリル酸エ
ステル−(メチルメタアクリレートまたはスチレン)共
重合体、線状熱可塑性ポリエステルまたはコポリエステ
ル例えばポリエチレンテレフタレート寸たはポリエチレ
ンテレフタレート・イソフタレート、アルコール可溶性
ポリアミド、ポリウレタン、アセチルセルロース、アセ
チルブチルセルロース、ニトロセルロース、エチルセル
ロース、アセチルプロピルセルロース、などの熱可塑性
高分子化合物、あるいは、アルキド樹脂、メラミン樹脂
、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、床素樹脂、ポリウレ
タン樹脂などの熱硬化性高分子化合物かあり、これらの
高分子化合物は単独でも2種以上を組合せても用いるこ
とができる。
ポリビニルブチラール、ホリヒニルホルマール、ポリビ
ニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン
、ポリフッ化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
、塩化ビニル−頗・酸ビニリチン共重合体、塩化ビニル
−酢酸ビニル−(無水マレイン酸、アクリロニトリルま
たはビニルアルコール)三元共重合体、塩化ビニル−塩
化ビニリデン−(アクリロニトリル、酢酸ビニル捷たは
メチルメタアクリレート)三元共重合体、アクリル酸エ
ステル−(メチルメタアクリレートまたはスチレン)共
重合体、線状熱可塑性ポリエステルまたはコポリエステ
ル例えばポリエチレンテレフタレート寸たはポリエチレ
ンテレフタレート・イソフタレート、アルコール可溶性
ポリアミド、ポリウレタン、アセチルセルロース、アセ
チルブチルセルロース、ニトロセルロース、エチルセル
ロース、アセチルプロピルセルロース、などの熱可塑性
高分子化合物、あるいは、アルキド樹脂、メラミン樹脂
、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、床素樹脂、ポリウレ
タン樹脂などの熱硬化性高分子化合物かあり、これらの
高分子化合物は単独でも2種以上を組合せても用いるこ
とができる。
有色顔料は、薄膜層に本発明の目的である紫外線を遮光
し、可視光線を透過する性質のマスク性を力えるもので
、紫外線遮光性で可視光線透過性の公知の有色顔料を用
いることができる。たとえは、C,Iピグメントオレン
ジ3(普通名レークレッド41(、以下同じ)、C,1
,ピグメン)・オレンジ]6(パルカンオレンジ)、C
,1,ピグメントレソ1−2(パーマネントレッドFR
R)、C,1,ピグメントオレンジ13(ピラゾロンオ
レンジ)、C,Iピグメントイエロー1(ハンサイエロ
ー〇 ) 、c、■、ヒクメントオレンジ5(パーマネ
ントレットGG)、C,T、ピグメントイエロー12(
ベンジジンイエローG)などの有機順相、あるいはC,
Iピグメントイエロー34. (クロムイエロー)、C
1,ピグメン1− (クロムバーミリオン)などの無機
顔料を単独でも2 fff以上を組合せても用いること
ができる。
し、可視光線を透過する性質のマスク性を力えるもので
、紫外線遮光性で可視光線透過性の公知の有色顔料を用
いることができる。たとえは、C,Iピグメントオレン
ジ3(普通名レークレッド41(、以下同じ)、C,1
,ピグメン)・オレンジ]6(パルカンオレンジ)、C
,1,ピグメントレソ1−2(パーマネントレッドFR
R)、C,1,ピグメントオレンジ13(ピラゾロンオ
レンジ)、C,Iピグメントイエロー1(ハンサイエロ
ー〇 ) 、c、■、ヒクメントオレンジ5(パーマネ
ントレットGG)、C,T、ピグメントイエロー12(
ベンジジンイエローG)などの有機順相、あるいはC,
Iピグメントイエロー34. (クロムイエロー)、C
1,ピグメン1− (クロムバーミリオン)などの無機
顔料を単独でも2 fff以上を組合せても用いること
ができる。
また染料としては、同様に薄膜層にマスク性を与える、
紫外線遮光性で可視光線透過性の公知のものを用いるこ
とができ、例えは、C01,ソルベントイエロー2、C
,Lンルベントオレ/・15、同40 、44 、 C
,1,ンルベントレソト25、同83がある。これらの
染料は単独でも2種以上を組合せても用いることができ
る。更に有色顔料と染料は併用することもできる。
紫外線遮光性で可視光線透過性の公知のものを用いるこ
とができ、例えは、C01,ソルベントイエロー2、C
,Lンルベントオレ/・15、同40 、44 、 C
,1,ンルベントレソト25、同83がある。これらの
染料は単独でも2種以上を組合せても用いることができ
る。更に有色顔料と染料は併用することもできる。
有色顔料又は染料は、バインダー用高分子化合物に対し
て20〜5QQw/w%、望ましくは50〜200〜I
/ W%の比率とする。必要に応じて有色顔料、染料
の分散剤、安定剤を添加することもできる。
て20〜5QQw/w%、望ましくは50〜200〜I
/ W%の比率とする。必要に応じて有色顔料、染料
の分散剤、安定剤を添加することもできる。
薄膜層は、乾燥後の膜厚で05〜5μ、好ましくは1〜
2μであり、これより薄いと充分な紫外線遮光性が得ら
れず、厚くなると薄膜層の皮膜性が大となって、後述す
る現像、エツチング後のパターンの剥離に際してンヤー
プなエッチが得られないことになる。
2μであり、これより薄いと充分な紫外線遮光性が得ら
れず、厚くなると薄膜層の皮膜性が大となって、後述す
る現像、エツチング後のパターンの剥離に際してンヤー
プなエッチが得られないことになる。
感光性ビール層11は写真処理を経てネガティブレリー
フ画像に形成後剥離するので、良好なフィルム形成性及
び適当なフィルム強度を有することが必要である。また
、剥離によシ下の薄膜層も同時に支持体より取り去るた
めに、薄膜層と強固な接着力を有することが必要である
。
フ画像に形成後剥離するので、良好なフィルム形成性及
び適当なフィルム強度を有することが必要である。また
、剥離によシ下の薄膜層も同時に支持体より取り去るた
めに、薄膜層と強固な接着力を有することが必要である
。
感光性ビール層はバインダー用高分子化合物およ0・感
光剤からなる感光性組成物層一層で形成しても良く、皮
膜性を有する高分子化合物層を下層に感光性組成物層を
上層に積層した2層構造にしても良い。
光剤からなる感光性組成物層一層で形成しても良く、皮
膜性を有する高分子化合物層を下層に感光性組成物層を
上層に積層した2層構造にしても良い。
この場合、感光性ビール層を2層構造にしたものでは、
感光剤としての機能と剥離のだめの皮膜としての機能と
を分離できるので、感光性ビール層を一層で形成した場
合のように剥離性向上と感度低下防止を同時に考慮する
必要がなくなる。
感光剤としての機能と剥離のだめの皮膜としての機能と
を分離できるので、感光性ビール層を一層で形成した場
合のように剥離性向上と感度低下防止を同時に考慮する
必要がなくなる。
感光性組成物としてはネガ型、ポジ型の両者を用いるこ
とができる。
とができる。
ネガ型の感光性組成物に用いられる感光剤としては、4
−ジアゾジフェニルアミン硫H塩とホルムアルデヒドと
の縮合物、4−ジアゾジフェニルアミン塩化亜鉛塩とホ
ルムアルデヒドとの縮合物、4−/アゾ/フェニルアミ
ン四弗化硼Htzとホルムアルデヒドとの縮合物、4−
ジアゾジフェニルアミン・トチツルベンセンスルホン酸
塩のホルムアルデヒド紬合物などのいわゆるジアゾ系感
光剤4、ll’−ジアジド−カルコン、2.6−ゾ(/
1′−アプドベンザル)−4−メチルソクロヘキサノン
、2.6−ジ(4′−アジドベンザル)−4−メチル−
ンクロヘキザノン、4.4’−シア7トスチルヘン、4
.4’ −シアンbベンゾフェノン、P−フェニレンジ
アジド、4.47−ジアジドフエニルメタン等のアンド
系感光剤、更に、テトラメチロールメタンテトラメタク
リレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート
、β−ヒドロキシエチルメタクリレート、ペンタエリス
リトールトリアクリレ−1−、メトキンポリエチレング
リコールモノメタクリレート、β−ヒドロキシエチルア
クリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、
ポリエチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリ
スリトールジメタクリレート、トリメチロールエタント
リメタクリレ−1・などの分子量2000以下、常圧で
沸点100℃以上で、重合可能なエチレン基を有するモ
ノマーと、アントラキノン誘導体あるいはベンゾインア
ルキルエーテルを光重合開始剤として組合せた光重合系
感光剤なとかある。
−ジアゾジフェニルアミン硫H塩とホルムアルデヒドと
の縮合物、4−ジアゾジフェニルアミン塩化亜鉛塩とホ
ルムアルデヒドとの縮合物、4−/アゾ/フェニルアミ
ン四弗化硼Htzとホルムアルデヒドとの縮合物、4−
ジアゾジフェニルアミン・トチツルベンセンスルホン酸
塩のホルムアルデヒド紬合物などのいわゆるジアゾ系感
光剤4、ll’−ジアジド−カルコン、2.6−ゾ(/
1′−アプドベンザル)−4−メチルソクロヘキサノン
、2.6−ジ(4′−アジドベンザル)−4−メチル−
ンクロヘキザノン、4.4’−シア7トスチルヘン、4
.4’ −シアンbベンゾフェノン、P−フェニレンジ
アジド、4.47−ジアジドフエニルメタン等のアンド
系感光剤、更に、テトラメチロールメタンテトラメタク
リレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート
、β−ヒドロキシエチルメタクリレート、ペンタエリス
リトールトリアクリレ−1−、メトキンポリエチレング
リコールモノメタクリレート、β−ヒドロキシエチルア
クリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、
ポリエチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリ
スリトールジメタクリレート、トリメチロールエタント
リメタクリレ−1・などの分子量2000以下、常圧で
沸点100℃以上で、重合可能なエチレン基を有するモ
ノマーと、アントラキノン誘導体あるいはベンゾインア
ルキルエーテルを光重合開始剤として組合せた光重合系
感光剤なとかある。
感光性ビール層を感光性組成物一層で形成するとき+d
、バインダー用高針高分子化合物する感光剤の含有量は
、/アゾ系感光剤及びアジド系感光剤の場合は3〜5Q
w/w%であり、好ましくは5〜3Qw/w%である。
、バインダー用高針高分子化合物する感光剤の含有量は
、/アゾ系感光剤及びアジド系感光剤の場合は3〜5Q
w/w%であり、好ましくは5〜3Qw/w%である。
捷だ光重合系感光剤の場合は、バインダー用高分子化合
物に対するモノマーの含有量は]、O〜3 Q w/w
%、好ましくは20〜60w/w%であり、光重合開始
剤の含有量は0.01〜20W/W 95好ましくは0
.5〜l Q w/w%である。
物に対するモノマーの含有量は]、O〜3 Q w/w
%、好ましくは20〜60w/w%であり、光重合開始
剤の含有量は0.01〜20W/W 95好ましくは0
.5〜l Q w/w%である。
ネガ型の感光性組成物に用いられるバインダー用高分子
化合物としては、ポリビニルアルコール、ポリアクリル
アミド、ポリビニルピロリドン、ポリビニルメタクリレ
ートとマレイン酸共重合体、アルコール可溶性ポリアミ
ド、アクリルアミドとダイアセトンアクリルアミドの共
重合体、部分ケン化酢酸ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリ
ビニルホルマール、ポリビニルブチラールかある。
化合物としては、ポリビニルアルコール、ポリアクリル
アミド、ポリビニルピロリドン、ポリビニルメタクリレ
ートとマレイン酸共重合体、アルコール可溶性ポリアミ
ド、アクリルアミドとダイアセトンアクリルアミドの共
重合体、部分ケン化酢酸ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリ
ビニルホルマール、ポリビニルブチラールかある。
これらの高分子化合物は単独でも2種以上を組合せても
用いることができる。
用いることができる。
ポジ型の感光性組成物の感光剤としては、オルツギノン
シアシト化合物がある。この場合、感光性ビール層を感
光性組成物一層で形成するときは、バインダー用高分子
化合物に対する感光剤の含有量は5〜5 Q w/W%
であり、望甘しくけ10〜3Qw/w飴である。
シアシト化合物がある。この場合、感光性ビール層を感
光性組成物一層で形成するときは、バインダー用高分子
化合物に対する感光剤の含有量は5〜5 Q w/W%
であり、望甘しくけ10〜3Qw/w飴である。
ポジ型の感光・1(1−、4ff成物のバインダー用高
分子化合物としては、アルカリ可溶性アクリル共重合体
、ポリビニル−3−7トキシー4−ヒトロキンヘンザー
ル、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポ
リ酢酸ビニルがあり、これらの高分子化合物は単独でも
2種以上を組合せても用いることができる。
分子化合物としては、アルカリ可溶性アクリル共重合体
、ポリビニル−3−7トキシー4−ヒトロキンヘンザー
ル、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポ
リ酢酸ビニルがあり、これらの高分子化合物は単独でも
2種以上を組合せても用いることができる。
2層構造の感光性ビール層における皮膜層には、先に掲
げた感光性組成物層の形成に用いるバインダー用高分子
化合物の他に、これに使用できない強靭な高分子化合物
をも用いることができる。例としては、カプロラクタム
、ヘキサメチレンジアミンアジペートと4.47−シア
ミツシンクロヘキシルメタンアジペートの共重合体、各
稙ポリアミドのN−メチロール誘導体などアルコール可
溶性ポリアミlかある。
げた感光性組成物層の形成に用いるバインダー用高分子
化合物の他に、これに使用できない強靭な高分子化合物
をも用いることができる。例としては、カプロラクタム
、ヘキサメチレンジアミンアジペートと4.47−シア
ミツシンクロヘキシルメタンアジペートの共重合体、各
稙ポリアミドのN−メチロール誘導体などアルコール可
溶性ポリアミlかある。
感光性組成物層中には、その感光機構に悪影響を及はさ
々い限り、染料まだ(は順相を添加することかできる。
々い限り、染料まだ(は順相を添加することかできる。
本発明においては下の遮光性薄膜層により紫外線に対す
る遮光性を持たせているので遮光性刊与のためには不要
であるが、との添加によって画像の状態の確認を容易に
し、特にレリーフ画像の端部かンヤープに什」二がった
か否かの確認を容易にすることかできる。
る遮光性を持たせているので遮光性刊与のためには不要
であるが、との添加によって画像の状態の確認を容易に
し、特にレリーフ画像の端部かンヤープに什」二がった
か否かの確認を容易にすることかできる。
次にかかる感光性マスク材料を用いた製版用マスク版の
作成について述べる。
作成について述べる。
透明フィルム9上に遮光性薄膜層10、感光性ビール層
11か順次形成きれた感光性マスク材料12(第2図参
照)に、第3図い)に示すようにネガディプ又はポ・、
/ティグのくくり線原稿13を重ねて紫外線を露光し、
現像すると、感光性ビール層11のタイプに応じて露光
部分又は未露光部分が浴出し、例えは図のように原稿1
3のくくり線14に相当するところが溝15になったネ
ガティブなレリーフ画像16が形成される。この場合、
感光性ビール層11が高分子化合物の皮膜層と感光性組
成物層の2層からなるときは感光性組成物層の現像の他
に高分子化合物の皮膜層のエツチング処理を要する。
11か順次形成きれた感光性マスク材料12(第2図参
照)に、第3図い)に示すようにネガディプ又はポ・、
/ティグのくくり線原稿13を重ねて紫外線を露光し、
現像すると、感光性ビール層11のタイプに応じて露光
部分又は未露光部分が浴出し、例えは図のように原稿1
3のくくり線14に相当するところが溝15になったネ
ガティブなレリーフ画像16が形成される。この場合、
感光性ビール層11が高分子化合物の皮膜層と感光性組
成物層の2層からなるときは感光性組成物層の現像の他
に高分子化合物の皮膜層のエツチング処理を要する。
次いで第3図(B)のようにマスクする部分16′を残
してレリーフ画像16を剥取ると、下の遮光性薄膜層1
0も一緒にレリーフ画像と同形に剥取られ、必要な画像
が四部17として形成されたマスク版18が得られる。
してレリーフ画像16を剥取ると、下の遮光性薄膜層1
0も一緒にレリーフ画像と同形に剥取られ、必要な画像
が四部17として形成されたマスク版18が得られる。
この際遮光性薄膜層は紫外線を遮光するか可視光線に対
しては透過性で寸に剥取るべき画像が描かれた原稿を重
ねると上から透かして見え、剥取るべきレリーフ画像1
6を容易に確認して剥取りかできるので剥離の作業性が
良い。
しては透過性で寸に剥取るべき画像が描かれた原稿を重
ねると上から透かして見え、剥取るべきレリーフ画像1
6を容易に確認して剥取りかできるので剥離の作業性が
良い。
ここで原稿13のくくり線14に対応する薄膜層の部分
15′は、その上にレリーフ画像16かないので剥離さ
れず透明フィルム9上に残り、活性光線を照射したとき
くくり線に相当する部分は遮光される。原稿13のくく
り線14には他の色のマスク版を作成するために使用さ
れるものか含捷れているか、遮光性薄膜層として残存し
ているため従来行なっていた修正液による隠蔽、消去の
作業か不要となる。また従来の感光性材料から同一原稿
を用いて他の色のマスク版を作成すると該マスク版では
<クシ線に相当する部分は喪に形成され紫外線を遮光し
ないようになっているので、これと上記のように作成し
たマスク版とを組合せることにより、異なる色をぴった
り突き合せて印刷できる版面を製版できる。そしてこの
製版作業もマスク版が下ltねたものを透して見ると吉
ができるようになっているので、作業性が良い。
15′は、その上にレリーフ画像16かないので剥離さ
れず透明フィルム9上に残り、活性光線を照射したとき
くくり線に相当する部分は遮光される。原稿13のくく
り線14には他の色のマスク版を作成するために使用さ
れるものか含捷れているか、遮光性薄膜層として残存し
ているため従来行なっていた修正液による隠蔽、消去の
作業か不要となる。また従来の感光性材料から同一原稿
を用いて他の色のマスク版を作成すると該マスク版では
<クシ線に相当する部分は喪に形成され紫外線を遮光し
ないようになっているので、これと上記のように作成し
たマスク版とを組合せることにより、異なる色をぴった
り突き合せて印刷できる版面を製版できる。そしてこの
製版作業もマスク版が下ltねたものを透して見ると吉
ができるようになっているので、作業性が良い。
次に本発明を実施例に基つき史に詳述する。
実施例1
1”ll サ]、 OOttのポリエチレンテレフタレ
ートフィルムの片m1に、下記組成の分散液を乾燥膜厚
2μとなるように塗布、乾燥し、遮光性薄膜層とした。
ートフィルムの片m1に、下記組成の分散液を乾燥膜厚
2μとなるように塗布、乾燥し、遮光性薄膜層とした。
上記遮光性N1俣層の上に、以下の組成の感光性組成物
液を乾燥後の膜厚10μとなるように塗布、乾燥し、感
光性ビール層とした。
液を乾燥後の膜厚10μとなるように塗布、乾燥し、感
光性ビール層とした。
得られた感光性ビール層の表面に、ネガのくくり線原稿
を密着させ、2kWの超高圧水銀灯で177zの距離か
ら5分間露光を行なった。次に露光後のフィルムを下記
の現像液で現像を行ない、未露光部分の感光性ビール層
を完全に溶解、除去した後、水洗、乾燥した。
を密着させ、2kWの超高圧水銀灯で177zの距離か
ら5分間露光を行なった。次に露光後のフィルムを下記
の現像液で現像を行ない、未露光部分の感光性ビール層
を完全に溶解、除去した後、水洗、乾燥した。
このフィルムのくくり線部分に囲まれた部分を剣先で剥
離すると、くくり線に囲まれた。Cターンに相当する遮
光性薄膜層も一緒に剥かすことかでき、紫外線遮光性で
可視光線透過性のレリーフ画像か得られた。
離すると、くくり線に囲まれた。Cターンに相当する遮
光性薄膜層も一緒に剥かすことかでき、紫外線遮光性で
可視光線透過性のレリーフ画像か得られた。
レリーフ画像を部分的に剥離したマスク版は、修正の必
要もなく直ちに製版に使用できた。
要もなく直ちに製版に使用できた。
実施例2
厚さ100μのポリエチレンフタレートフィルムの片面
に、下記組成の分散液を、乾燥膜厚2μとなるように塗
布、乾燥し、遮光性薄)膜層とした。
に、下記組成の分散液を、乾燥膜厚2μとなるように塗
布、乾燥し、遮光性薄)膜層とした。
上記遮光性薄膜層の上に以下の組成の塗布液を乾燥後の
膜厚10μとなるように塗布、乾燥し、更にこの上に以
下の組成の感光性組成物液を3μの乾燥膜厚となるよう
に塗布、乾燥して、皮膜層と感光組成物層とからなる2
層構造のビール層を形成した。
膜厚10μとなるように塗布、乾燥し、更にこの上に以
下の組成の感光性組成物液を3μの乾燥膜厚となるよう
に塗布、乾燥して、皮膜層と感光組成物層とからなる2
層構造のビール層を形成した。
このようにして得られたフィルムを、原稿と合わせ紫外
線露光後、カセイソーダのQ、3w/w%アルカリ水溶
液で現像した。
線露光後、カセイソーダのQ、3w/w%アルカリ水溶
液で現像した。
更に感光面上を実施例1の現像液でこすると遮光性薄膜
層上にビール層のレリーフ画像ができだ。
層上にビール層のレリーフ画像ができだ。
このレリーフ画像全、針先で持ち上げ剥離すると、レリ
ーフ下部の遮光性薄膜層も剥離してマスク版ができ、修
正液による処理を施すことなく、その壕ま製版に供する
ことができた。
ーフ下部の遮光性薄膜層も剥離してマスク版ができ、修
正液による処理を施すことなく、その壕ま製版に供する
ことができた。
実施例3
実施例1においてB液にかえて、下記組成の感光性組成
物液を乾燥後の膜厚10μとなるように塗布、乾燥し、
感光性ビール層とした。
物液を乾燥後の膜厚10μとなるように塗布、乾燥し、
感光性ビール層とした。
得られた感光性ビール層の表面に、ボンのくくり線原稿
を密着させ2kWの超高圧水銀灯でl mの距離から6
分間露光を行なった。
を密着させ2kWの超高圧水銀灯でl mの距離から6
分間露光を行なった。
次に露光後のフィルムを、流水で現像し7乾燥した。
このフィルムのくくり線に囲捷れたレリーフ部分を針先
で剥離すると、レリーフ部分に相当する遮光性74.膜
層も一緒に剥がれ、修正の必要もなく直ちに製版作業に
使用できた。
で剥離すると、レリーフ部分に相当する遮光性74.膜
層も一緒に剥がれ、修正の必要もなく直ちに製版作業に
使用できた。
実施例4
実施例2においてC液にかわって下記の感光性組成物液
を乾燥膜厚3μとなるよう塗布、乾燥して感光性ビール
層とした。
を乾燥膜厚3μとなるよう塗布、乾燥して感光性ビール
層とした。
得られた感光性ビール層の表面に、ポジのくくり線原稿
を密着させ、2kwの超高圧水銀灯で1mの距離から4
分間露光を行ない、下記の水浴液で現像、乾燥した。
を密着させ、2kwの超高圧水銀灯で1mの距離から4
分間露光を行ない、下記の水浴液で現像、乾燥した。
サリチル酸ナトリウム 40L?(
水 6
07感光性ビ一ル層のネガレリーフが得られた。
07感光性ビ一ル層のネガレリーフが得られた。
更に上記の水溶液でエツチングしたところ剥離可能なレ
リーフ画像が得られ、直ちに製版用マスクとして使用で
きた。
リーフ画像が得られ、直ちに製版用マスクとして使用で
きた。
以上の実施例からも明らかなように本発明の製版用感光
性マスク材料およびマスク版の製造方法では、透明フィ
ルム支持体の上に紫外線遮光性でかつ可視光線透過性の
剥離可能な遮光性薄膜層を形成し、該薄膜層の上にこれ
と強固に接着しかつ皮膜性を有する感光性ビール層を形
成して構成され、写真処理によって形成された感光性ビ
ール層のレリーフ画像を選択的に剥離することによって
一緒に遮光性ilJ層を剥離したレリーフ画像と同形に
剥取り、原稿のくくり線に対応する遮光性薄膜層の部分
は透明フィルム上に残存させて紫外線に対する遮光性を
有するようにしているので、各色のマスク版ケ作成する
にあたシ修正液による隠、蔽、消去の作業が不要となる
。また遮光性薄膜層に1可視光線を透過するので下に位
置させた画像を透かして見ることができるから、レリー
フ画像の剥取りなども容易に行なえる。従って、製版の
作業能力が著しく向上する。
性マスク材料およびマスク版の製造方法では、透明フィ
ルム支持体の上に紫外線遮光性でかつ可視光線透過性の
剥離可能な遮光性薄膜層を形成し、該薄膜層の上にこれ
と強固に接着しかつ皮膜性を有する感光性ビール層を形
成して構成され、写真処理によって形成された感光性ビ
ール層のレリーフ画像を選択的に剥離することによって
一緒に遮光性ilJ層を剥離したレリーフ画像と同形に
剥取り、原稿のくくり線に対応する遮光性薄膜層の部分
は透明フィルム上に残存させて紫外線に対する遮光性を
有するようにしているので、各色のマスク版ケ作成する
にあたシ修正液による隠、蔽、消去の作業が不要となる
。また遮光性薄膜層に1可視光線を透過するので下に位
置させた画像を透かして見ることができるから、レリー
フ画像の剥取りなども容易に行なえる。従って、製版の
作業能力が著しく向上する。
第1図(A) 、 (B)は従来の製版用マスク材料に
おけるネガティブなレリーフ画像を選択的に剥離して、
マスク版を作成するところを説明するだめの断面図、第
2図は本発明の製版用マスク材料を示す断面図、第3図
(A) 、 (B)は本発明の製版用マスク材料におけ
るマスク版を作成するところを説明するための断面図で
ある。 9 透明フィルム 10・・・紫外線遮光性で可視光線透過性の剥離可能な
薄膜層 11・・・感光性ビール層 代理人 弁理士 守 谷 −雄
おけるネガティブなレリーフ画像を選択的に剥離して、
マスク版を作成するところを説明するだめの断面図、第
2図は本発明の製版用マスク材料を示す断面図、第3図
(A) 、 (B)は本発明の製版用マスク材料におけ
るマスク版を作成するところを説明するための断面図で
ある。 9 透明フィルム 10・・・紫外線遮光性で可視光線透過性の剥離可能な
薄膜層 11・・・感光性ビール層 代理人 弁理士 守 谷 −雄
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 】 透明フィルムからなる支持体、該支持体上に形成さ
れた紫外線遮光性でかつ可視光線透過性の剥離可能な遮
光性w膜層、および該薄膜層上に形成され、これと強固
に接着しかつ皮膜性を不する感光性ビール層とで構成さ
れることを特徴とする製版用感光性マスク材料。 2、特許請求の範囲第1項記載の製版用感光性マスク濁
料の感光性ビール層にくくり線原稿を焼付けたのち、現
像又は現像とエツチングを行なって感光性ビール層の露
光部分又は未露光部分を浴出し、とのd:うにして得ら
れた感光性ビール層のネガティブなレリーフ画像全選択
的に剥離することによって下の遮光性助)俣層も一緒に
同形に剥離し、透明フィルム上にくくり線原稿のマスク
されるべき画像部分およびくくり線に対応して遮光性薄
膜層を残存させることを特徴とする製版用マスク版の製
造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58017949A JPS59143157A (ja) | 1983-02-04 | 1983-02-04 | 製版用感光性マスク材料および製版用マスク版の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58017949A JPS59143157A (ja) | 1983-02-04 | 1983-02-04 | 製版用感光性マスク材料および製版用マスク版の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59143157A true JPS59143157A (ja) | 1984-08-16 |
JPH0339299B2 JPH0339299B2 (ja) | 1991-06-13 |
Family
ID=11958014
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58017949A Granted JPS59143157A (ja) | 1983-02-04 | 1983-02-04 | 製版用感光性マスク材料および製版用マスク版の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59143157A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6338941A (ja) * | 1986-08-04 | 1988-02-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 製版用マスクの作成方法及びマスク形成フイルム |
JPS63296048A (ja) * | 1987-05-28 | 1988-12-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | マスク形成用フイルム及び画像形成用マスクの作成方法 |
JP2019502143A (ja) * | 2016-01-27 | 2019-01-24 | エルジー・ケム・リミテッド | フィルムマスク、その製造方法、これを用いたパターンの形成方法およびこれを用いて形成されたパターン |
US10969686B2 (en) | 2016-01-27 | 2021-04-06 | Lg Chem, Ltd. | Film mask, method for manufacturing same, and method for forming pattern using film mask and pattern formed thereby |
US10969677B2 (en) | 2016-01-27 | 2021-04-06 | Lg Chem, Ltd. | Film mask, method for manufacturing same, and method for forming pattern using film mask |
-
1983
- 1983-02-04 JP JP58017949A patent/JPS59143157A/ja active Granted
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6338941A (ja) * | 1986-08-04 | 1988-02-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 製版用マスクの作成方法及びマスク形成フイルム |
JPS63296048A (ja) * | 1987-05-28 | 1988-12-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | マスク形成用フイルム及び画像形成用マスクの作成方法 |
JP2019502143A (ja) * | 2016-01-27 | 2019-01-24 | エルジー・ケム・リミテッド | フィルムマスク、その製造方法、これを用いたパターンの形成方法およびこれを用いて形成されたパターン |
US10969686B2 (en) | 2016-01-27 | 2021-04-06 | Lg Chem, Ltd. | Film mask, method for manufacturing same, and method for forming pattern using film mask and pattern formed thereby |
US10969677B2 (en) | 2016-01-27 | 2021-04-06 | Lg Chem, Ltd. | Film mask, method for manufacturing same, and method for forming pattern using film mask |
US11029596B2 (en) | 2016-01-27 | 2021-06-08 | Lg Chem, Ltd. | Film mask, method for manufacturing same, and method for forming pattern using film mask and pattern formed thereby |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0339299B2 (ja) | 1991-06-13 |
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