JPS5914082A - 座標検知装置 - Google Patents

座標検知装置

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JPS5914082A
JPS5914082A JP57122216A JP12221682A JPS5914082A JP S5914082 A JPS5914082 A JP S5914082A JP 57122216 A JP57122216 A JP 57122216A JP 12221682 A JP12221682 A JP 12221682A JP S5914082 A JPS5914082 A JP S5914082A
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JP
Japan
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plane
coordinate
coordinate plane
light
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JP57122216A
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Hajime Enomoto
肇 榎本
Takeshi Matsushita
武史 松下
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Original Assignee
Individual
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    • G06F3/00Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/042Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by opto-electronic means
    • G06F3/0421Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by opto-electronic means by interrupting or reflecting a light beam, e.g. optical touch-screen
    • G06F3/0423Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by opto-electronic means by interrupting or reflecting a light beam, e.g. optical touch-screen using sweeping light beams, e.g. using rotating or vibrating mirror

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、XYY標平面上の任意の指定位置の座標を検
知して座標情報を送出することかできる座標検知装置に
関するものである。
この種の座標検知装置は、コンビーータによる図形パタ
ーンの処理に用いられる図形入力装置としても用いられ
ているが、従来の装置は動作速度が遅いこと、分解能が
高くないこと、図面を描く面に何らかの加工を要するこ
となどの欠点を有している。
本発明は、動作速度が速く、分解能が高く、かつ図形を
描く面に加工を必要としない座標検知装−7= 置を提供するものである。
以下図面により本発明の詳細な説明する。
第1図は本発明の一実施例の原理を説明するだめの平面
略図、第2図(a)は本発明に用いる方向可変の光ビー
ムの発生手段として回転ビーム発生のだめの構造例を示
す平面略図、第2図(b) (c)は本発明に用いられ
る筆記具の構造例を示す正面略図である。
第1図において、6は0点を原点として筆記具4の現在
位置(X1+ y+ )を検出すべきXYY標平面を表
わし、該XY座座標面面の近傍にはXY座座標圃面6沿
ってそれぞれ方向可変の光ビーノ、を発生する第1の方
向可変光ビーム発生手段1a及び第2の方向可変光ビー
ム発生手段1bと第1の基準光 光センサ2a及び第2の基準センサ2bが配置される。
Δ 直線1a−2aはXY座座標圃面6OY軸に平行な第1
の基準線、また直線1b −2bはXYY標平面6のO
X軸に平行な第2の基準線であってこれら二つの基準線
は第2の方向可変光ビーム発生手段1bの位置で直交し
ている。筆記具4は第2図(b)に示す 8− ようにその先端部4aに近接して光センサ4−1を有す
る。第1の方向可変光ビーム発生手段1aから発する第
1の光ビームを筆記具4の光センサ4−1が検知したと
きの第1の光ビームの方向情報は、第1の基準線1a−
2aからの偏角αを計測して得られ、第2の方向可変光
ビーム発生手段1aから発する第2の光ビームを筆記具
4の光センサ4−1が検知したときの第2の光ビームの
方向情報は第2の基準線1b −2bからの偏角βを計
測することによって得られる。第1の方向可変光ビーム
発生手段1aと第2の方向可変光ビーム発生手段1bと
の間隔長をaとするならば、第1の光ビーム及び第2の
光ビームを筆記具4の光センサ4−1が検知したときの
偏角α及びβを計測することによって、第1の方向可変
光ビーム発生手段1aの位置を原点とするXYY準平面
5における筆記具4の座標(x+y)は、第1図の幾何
学的配置から明らかなように次の関係式から計算によっ
て導出することができる。
x = y―α y−1十−α・−β なお、XY座座標圃面6原点0に対する第1の方向可変
光ビーム発生手段1aの座標を(−す、c)とすれば、
XYY標平面6上における筆記具4の座標(X1+ y
+ )は xl=x−b y、=y+C によって容易に換算されることはいうまでもない。
光ビームの方向を変化する手段及びその偏角を言1測す
る手段としては周知の機械的方法を利用することが可能
であるが、以下本発明の実施に当たって好都合な一実施
例について詳細に説明する。
第2図(a)において、1−1は例えばレーザ光源のよ
うに光ビームを発生するだめの光源であり、1−2は該
光源による光ビームを反射して反射光ビームを偏向する
ための鏡車である。−例として8面鏡車を図示しである
が、必ずしもこれに限定するものではない。鏡車を等速
で回転すれば、鏡単によって反射された光ビームは鏡車
の角速度の2倍の角速度で等速回転することになる。本
発明の本実施例において、このような鏡車を利用した第
1の方向可変光ビーム発生手段1a及び第2の方向可変
光ビーム発生手段1bを第1図のように配置し、鏡単に
対してはそれぞれ適宜の方向から光ビームを照射するこ
とによって、あらかじめ定められた速度で等速回転し、
XYY標平面6に沿って照射される第1の光ビーム及び
第2の光ビームを得ることができる。第1図の第1の基
準線1a−2a上に第1の光ビームを受光する第1の基
準光センサ2aを置き、該第1の基準光センサ2aが受
光した時刻から筆記具4の光センサ4−1が受光するま
での第1の時間長を計測することによって、第1の光ビ
ームが第1の基準線1a−2a方向から筆記具4を指向
する方向まで回転した角度αを算出することができる。
第2の光ビームについても第2の基準線1b−2b上に
第2の基準光センサ2bを置き、上記と同様にして第2
の時間長の計測に基づいて第2の光ビームの回転角度β
を算出する。この際、第1の時間長と第2の時間長とを
互いに分離して測定し、α、β2個の角度情報を誤りな
く得ることが必要となる。その具体的実施手段の一例に
ついて以下詳細に説明する。
第6図はそのタイムチャートであって、(1a)と(1
b)は第1の光ビームと第2の光ビームとが時間的に交
互に発射されていることを示す。(2a)と(2b)は
、第1の光ビームが第1の光センサ2aで、また第2の
光ビームが第2の基準光センサ2bで、それぞれ受光さ
れた時刻に時間長計測の始点を示す信号パルスを発生す
ることを示す。(4)は筆記具4、の光センサ4−1が
第1及び第2の光ビームを受光する度に時間長計測の終
点を示す信号パルスを発生している状況を示している。
また(CL)は計数の対象となったクロックパルスであ
る。第7図において、10は第1及び第2の基準光セン
サ2a及び2bで発生する信号パルスを入力とするOR
回路、11はフリップフロノブ回路である。したがって
、OR回路10の入力端子のいずれかに信号パルスが与
えられると、OR回路10はフリップフロップ回路11
にセント信号を与え、筆記具4の光センサ4−1からの
信号によってフリップフロップ回路11はリセットされ
る。13はカウンタ14で時間長を計数するためにあら
かじめ定められた安定な時間間隔の(すなわち安定な繰
返し周波数の)クロックパルスを発生するパルス発生器
であって、その出力はフリップフロップ回路11の出力
とともにAND回路12に入力されている。しだがって
、AND回路12の出力には、フリップフロップ回路1
1がセット状態にある間だけ第6図の(CL)に示すよ
うなりロックパルスが出力され、カウンタ14はこのパ
ルスを計数し、筆記具4の光センサ4−1からのパルス
でリセットされ、その時のパルス計数値を交互に第1の
時間長及び第2の時間長に相当する計数値としてゲート
回路15へ出力する。ゲート回路15は、カウンタ14
から前記第1の時間長及び第2の時間長に相当する計数
値を受け、これを前記偏角α及びβに相当する第1及び
第2の角度情報として、筆記具4の光センサ4−1から
のパルスに同期して、第8図に示す言1算回路20に送
出する。
計算回路20は、前記第1及び第2の角度情報に基づい
て前述の計算式で示されるような計算を実行することに
よって、前記2個の角度情報をXYY標情報に変換して
出力する。計算回路20は、周知の論理回路の組合せ又
はマイクロプロセッサ等を利用して容易に構成すること
ができるので、詳細説明は省略する。
以上の説明では、方向可変光ビーム発生手段と基準光セ
ンサは直交する二つの基準線上にあるものとしたが、必
ずしもこれに限定するものではない。基準光センサが基
準線上にないときは、測定した角度を光ビーム発生手段
と基準光センサを結ぶ直線と基準線とのなす角度で修正
してから前述の計算を行えば良いことは明らかである。
また第2の方向可変光ビーム発生手段1bが、二つの基
準線の交点上になく(すなわち第1の基準線上になく)
二つの基準線の交点からOXに平行な方向に距離dの位
置にあるならば、測定した角度情報βを用いて前述の式
を修正して とすnば良いことも明らかである。
上述のように等速回転鏡車を用いて十分に細い光ビーム
を偏向し、安定なパルス発生器の・クルレス数を計数す
ることによって角度情報とする手段を採れば、鏡車の回
転速度を上げ、早い周期の・ζルス列を発生するパルス
発生器を用いることによって、極めて動作速度が早く、
分解能が高く、かつ図形を描く面に加工を必要としない
座標検知装置を容易に得ることができることは明らかで
ある。
なお、既知の安定な回転速度で鏡車を回転させるために
は、鏡車の駆動モータを前記パルス発生器13のクロッ
クパルスの繰返し周波数に同期させる手段を採用するこ
とも一つの方法である。
また、前述したように光ビームの角度情報を得る手段と
しては、等速回転鏡車とパルス発生器及びカウンタの組
合せに限定するものではない。他の一例を挙げれば、電
流に比例して鏡を回転させ光ビームを左右に振るオプテ
ィカル・スキャナを採用し、その電気的入力を計測して
角度情報とすることができる。
なお、XYY標平面6上における筆記具4による図形の
描画に当たっては、通常描かれた図形を目視によってチ
ェックできることが必要であるが、上述の実施例におい
てはXYY標平面6上に例えば感圧紙を置くことによっ
て容易に可能である。
まだXYY標情報をディスプレイ装置に入力することに
よってCRT等に表示させることもできる。
第3図は本発明の他の実施例の原理を説明するだめの平
面略図である。第3図において、XY座座標肉面6OX
軸と平行にかつ該XY座座標圃面の近傍にこれと直交す
るように平面鏡3が配置され、XY座座標圃面6近傍に
前記平面鏡3を含む面から離れて位置する基準位置(X
Y座座標肉面6原点に対する座標は(−す、c)  と
する)には方向可変の光ビーム発生手段が配置されてい
る。平面鏡3とXY座座標圃面6OX軸と平行な基準線
1−2とは、基準の光セ/す2の位置において直交して
いる。別の光センサを先端部4aに有する筆記具4が図
示のような位置に位置する。このような配置においては
、方向可変の光ビーム発生手段1の平面鏡・3による鏡
像1′は前述の実施例における第2の方向可変光ビーム
発生手段に相当する機能を果すとみなすことができる。
光ビームが平面鏡3によって反射されて筆記具4の光セ
ンサ4−1に到達した時に光ビームの方向が基準線1−
2となす角をψとし、光ビームを直接に筆記具4の光セ
ンサ4−1が受光した時の光ビームの方向が基準線1−
2となす角をθとすれば、常にψ〈θの関係が成立する
。したがって、光ビームを等速回転させる回転ビーム発
生手段を光源として用いるならば、光ビームを基準の光
センサが受光した時刻から筆記具4の光センサ4−1が
最初に受光した時刻までの第1の時間長と、光ビームを
基準の光センサが受光した時刻から筆記具4の光センサ
4−1が2度目に受光した時刻までの第2の時間長は、
それぞれ前記のψとθのh度情報を与えることになる。
しだがってX二y Ia++θ 2a 3′−1+―θ;q の計算式によって角度情報を方向可変の光ビーム発生手
段】の位置を原点とする座標情報(x 、 y)に変換
し、更にXY座座標部面6座標情報(x++y+ )に
変換するだめには、前述の第1図によって説明した実施
例におけると同様の手段を用いればよいことは明らかで
ある。ただし、本実施例においては第1の時間長は必ず
第2の時間長より短いので、パルスの言i数によって時
間長を計測するに当たって、前述の実施例のように第1
の時間長ど第2の時間長を別個の時間帯に区別して開側
する必要はない。カウンタは基準の光センサが受光した
ら計数を始め、筆記具4の光センサ4−1が最初に受光
した時のカウンタの計数値をψに相当する角度情報とし
て読み取り、引き続き計数を継続して筆記具4の光セン
サ4−1の次の受光時におけるカウンタの言−(数値を
θに相当する角度情報として読み依ればよい。したがっ
て、本実施例においては良好な平面鏡の配置を必要とす
るが、前述の実施例よりも動作速度をトげることができ
る利点があるほか、方向可変の光ビーム発生手段及びそ
の制御手段の構成は前述の実施例におけるとほぼ同じで
も1組で足り、Iだ角度の基準方向を定める基準の光セ
フすも1個でよいなど全体的に構成の簡易化が可能であ
る。
本発明の基本原理は、1個又は複数個の光源及び光セン
サを備え、光の直進性を利用してXYY標平面6上の位
置を2個の角度情報として捕捉し、これをXY座標に変
換するものであるから、第1図と第3図において、光源
を光センサに、光セ/すを光源に置換することによって
、本発明の他の実施例を得ることができる。すなわち第
1図において、筆記具4は先端部4aKXY座標千面6
に沿ってほぼ全方向に光を放射する光源を備え、基準位
置には鋭い指向性を持ちかつXY座座標圃面6沿った方
向に受光方向可変の第1の受光方向可変光センサ1a及
び第2の受光方向可変光センサ1bを配置し、2aは第
1の受光方向可変光センサ1aを照射するが第2の受光
方向可変光センサ]bを照射しないようにした第]の基
準光源(lbO側を遮光した通常の光源でよい)とし、
2bは第2の受光方向可変光センサ1bを照射するが第
1の受光方向可変光センサ1aを照射しないようにした
第2の基準光源とする。第1の受光方向可変光センサ1
aが第1の基準光源2aから受光した時から回転して筆
記具4の光源から受光した時1での回転角度αに相当す
る角度情報と、第2の受光方向可変光センサ1bが第2
の基準光源2bから受光した時から回転して暗記週4の
光源から受光した時までの回転角度βに相当する角度情
報とを、前述のように第7図の計算回路20に入力すれ
ば、筆記具4の位置のXYY標情報を出力させることが
できる。
受光方向可変の光センサとして、例えば第2図(a)の
1−1を指向性を有する光センサとして鏡車1−2が等
速回転することによって受光方向を等速回転する光セン
サを用いる場合には、第1の受光方向可変光センサ1a
の出力によって動作するパルスカウンタと、第2の受光
方向可変光センサ1bの出力によって動作するパルスカ
ウンタとを別個に設け、それぞれ角度αに相当する第1
の時間長と角度βに相当する第2の時間長とを別個に計
測させてもよく、まだ、第1の受光方向可変光センサ1
aの出力と第2の受光方向可変光センサ1bの出力とを
時間的に切り替えて、共通の1個のパルスカウンタで第
1の時間長と第2の時間長とを適宜に別個の時間帯にお
いて計測するように回路を構成することも容易にできる
ので、それらの詳細な説明は省略する。なおこの実施例
においては、筆記具4の描くパターンは前述のように感
圧紙によるほか感光紙によっても記録することができる
また、XY座座標部面6近傍に、これと直交するように
平面鏡3を配置した第3図において、筆記具4の先端部
4a及び基準線上の位置にそれぞれ光源4.−1及び基
準光源2と、基準位置に受光方向可変の光センサ1を設
けることによって、他の実施例とすることができる。こ
の実施例の動作及び効果は前述の実施例について述べた
事項から明らかであるので説明を省略する。
方向可変の光ビームを筆記J:4−4が遮光したことを
検知して、光ビームの基準線からの偏角を開側すること
によって、本発明の他の実施例が得られる。第4図にお
いて、基準位置に方向可変の光ビーム発生手段を、XY
座座標圃面6OY軸に平行な基準線1.−2−、hに基
準の光センサ2を、基準線】−2と直交しかつXY座座
標圃面6直交する平面鏡3を、更にXY座座標圃面6外
側に光ビームがXY座座像圃面6沿って移動したときに
絶えず光ビームを受光できる位置に光センサ7X及び7
yを設ける。光センサ7X及び7yは帯状の構造を有す
る1個の光センサでも、複数の光センサを並列に接続し
たものでもよい。以下、方向可変光ビームとして前述し
た等速回転光ビームを用いた場合について説明する。光
ビームが基準の光センサ2によって受光された基準時刻
から、平面@3による反射光を筆記具4がXYY標平面
に近接した位置において遮光することによって、光セン
サ7X及び7yのどこにも光ビームが到達しないことを
該光センサの出力が零となることによって検知し、この
瞬間捷での第1の時間長と、前記基準時刻から光ビーム
が直接暗記具4を照射して筆記具4によって遮光され、
同様に光ビームの直接光も平面鏡3による反射光のいず
れも光センサ7X及び7yのどこにも到達しない第2の
瞬間までの第2の時間長を開側することによって、それ
ぞれ図示の角ψとθに対する角度情報とすれば、これら
二つの角度情報に基づいてXY座標(x+ + y+ 
)を算出するためには、既に詳しく説明したと同様の手
段を用いればよいことは明らかである。なお、本実施例
において筆記具4は、第2図(c)に示すように単に先
端部4aを有すればよいが、°感圧紙等を用いず普通紙
に描画できるボールペンや7ヤーグペンンルなどの構造
を持たせることも可能である。
なお、第5図に示すように第1の方向可変光ビーム発生
手段1a及び第2の方向可変光ビーム発生手段1bと、
XY座欅平面6上のいかなる位置に暗記具4が位置して
も該筆記具4による遮光を検知できるようにXYY標平
面6の周辺に光センサ7x。
7y及び7Zを配置し、第6図(ia) 、 (tb)
に示すよ23− うに第1の光ビームと第2の光ビームの発生時間を切り
替える手段を採用するならば、筆記具4の遮光を利用し
た本発明の他の実施例が得られることも明らかである。
以上説明したように、本発明によりば、光を角度計測の
手段として用いるので、(1)動作速度が早く、(2)
分解能が高く、(3)図面を描く面に加工を必要としな
い座標検知装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図、第3図、第4図及び第5図は本発明の実施例の
原理を説明するだめの平面略図、第2図(a)は本発明
に用いる回転ビーム発生手段の構造例を示す平面略図、
第2図(b)(c)は本発明に用いられる筆記具の構造
例を示す正面略図、第6図は第1図に示す実施例の動作
を説明するためのタイムチャート、第7図及び第8図は
本発明に用いられる測定手段の一例を示すブロック図で
ある。 1・・・方向可変の光ビーム発生手段又は受光方向可変
の光センサ、1′・・・1の鏡像、1a・・・第1の方
向24− 可変光ビーム発生手段又は第1の受光方向可変光センサ
、tb・・第2の方向可変光ビーム発生手段又は第2の
受光方向可変光セ/す、1−1・・光ビーム発生光源又
は指向性光センサ、■−2・・・回転鏡車、2・・・基
準の光センサ又は基準光源、2a・・・第1の基準光セ
/す又は第1の基準光源、2b・・・第2の基準光セン
サ又は第2の基準光源、3・・・平面鏡、4・・・暗記
具、4a・・・筆記具の先端部、4−1・・・筆記具の
光センサ又は光源、5・・・XYY準平面、6・・・X
Y座標平°面、O・・・XYY標平面の原点、OX・・
・XYY標平面のX軸、OY・・・XYY標平面のY軸
、7x 、 7y 、 7z・・・XYY標平面の外側
に設けられた光センサ、10・・OR回路、11・・・
フリップフロップ、12・・・AND回路、13・・・
パルス発生器、14・・・カウンタ、15・・・ゲート
、20・・・計算回路。 特許出願人  榎 本   肇 外1名 代理人 犬塚 学 外1名 邪 1  図 1h 婚 3 図 第 2  図

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) XY座標情報に変換すべき位置又はパターンを
    表示するためのXY座標平面と、該XY座標平面」二に
    前記の位置又はパターンを表示するだめの先端部を有す
    る筆記具と、前記XY座標平面を含む平面に沿いかつ前
    記XY座標平面の近傍の第1の基準線上の第1の基準位
    置から前記茸座標平面に沿った第1の光ビームを発生す
    るだめの第1の光ビーム発生手段と、該第1の光ビーム
    の方向を該n′座標平面に沿う状態で変化させて該第1
    の光ビームが前記n′座標平面上を移動するように制御
    する第1の光ビーム制御手段と、前記n′座標平面を含
    む平面に沿いかつ前記W座標平面に近接して配置された
    第2の基準線上の第2の基準位置から前記℃座標平面に
    沿つた第2の光ビームを発生するだめの第2の光ビーム
    発生手段と、該第2の光ビームの方向を該V′座標平面
    に沿う状態で変化させて該第2の光ビームが前記n′座
    標平面上を移動するように制御する第2の光ビーム制御
    手段と、前記筆記具の前記先端部に配置された光センサ
    と、該光センサにより前記第1の光ビームと前記第2の
    光ビームとをそれぞれ検知したときの該第1の光ビーム
    の方向と該第2の光ビームの方向をそれぞれ測定した結
    果を用いて前記茸座標情報を出力するだめの測定手段と
    を備えた座標検知装置。
  2. (2) XY座標情報に変換すべき位置又はパターンを
    表示するだめの茸座標平面と、該茸座標平面上に前記の
    位置又はパターンを表示するだめの先端部を有する筆記
    具と、前記罫座標平面の近傍に該℃座標平面に直交する
    ように配置された平面鏡と、前記n′座標平面の近傍の
    前記平面鏡を含む面から離れた基準位置から前記℃座標
    平面に沿った光ビームを発生するだめの光ビーム発生手
    段と、該光ビームの方向を該罫座標平面に沿う状態で変
    化させて該光ビームが前記平面鏡により反射された反射
    光ビーム及び前記光ビームとが前記XY座標平面上を移
    動するように制御する光ビーム制御手段と、前記値記貝
    の先端部に配置されて前記光ビーム及び前記反射光ビー
    ムを検知するだめの光センサと、該光センサが前記反射
    光ビームを検知した時の該反射光ビームの方向と前記光
    ビームを検知したどきの該光ビームの方向をそれぞれ測
    定した結果を用いて前記XY座標情報を出力するだめの
    測定手段とを備えた座標検知装置。
  3. (3)XY座標情報に変換すべき位置又はパターンを表
    示するためのXY座標平面と、該XY座標平面上に前記
    の位置又はパターンを表示するための先端部を有する筆
    記具と、前記XY座標平面を含む平面に沿いかつ前記X
    Y座標平面の近傍の第1の基準線上の第1の基準位置に
    配置されて前記X’Y座標平面に沿った平面内で鋭い受
    光指向性を有する第1の光センサと、該第1の光センナ
    の受光方向を該XY座標平面に沿う状態で変化させて該
    第1の光センサの受光方向が前記XY座標平面」二を移
    動するように制御する第1の光センサの受光方向制御手
    段と、前記XY座標平面に沿いかつ前記XY座標平面に
    近接して配置された第2の基準線上の第2の基準位置に
    配置されて前記XY座標平面に沿った平面内で鋭い受光
    指向性を有する第2の光センサと、該第2の光センサの
    受光方向を該XY座標平面に沿う状態で変化させて該第
    2の光センサの受光方向が前記XY座標平面上を移動す
    るように制御する第2の光センサの受光方向制御手段と
    、前記筆記具の前記先端部に配置された光源と、該光源
    から発する光を前記第1の光センサと前記第2の光セン
    ザトカそれぞれ検知したときの該第1の光センサの受光
    方向と該第2の光センサの受光方向をそれぞれ測定した
    結果を用いて前記XY座標情報を出力するための測定手
    段とを備えた座標検知装置。
  4. (4)XY座標情報に変換すべき位置又はパターンを表
    示するためのXY座標平面と、該XY座標平面上に前記
    の位置又はパターンを表示するだめの先 3一 端部を有する筆記具と、前記XY座標平面の近傍に該X
    Y座標平面に直交するように配置された平面鏡と、前記
    XY座標平面の近傍の前記平面鏡を含む面から離れた基
    準位置に配置されて前記XY座標平面に沿った平面内で
    鋭い受光指向性を有する光センサと、該光センサの受光
    方向を該XY座標平面に沿う状態で変化させて該光セン
    サの受光方向が前記XY座標平面上及び前記XY座標平
    面の平面鏡による鏡像平面上を移動するように制御する
    光センサの受光方向制御手段と、前記筆記具の前記先端
    部に配置された光源と、該光源から発する直接光と該光
    源から発し平面鏡によって反射された反射光とを前記光
    センサがそれぞれ検知したときの該光センサの該直接光
    の受光方向と該反射光の受光方向をそれぞれ測定した結
    果を用いて前記XY座標情報を出力するための測定手段
    とを備えた座標検知装置。
  5. (5) XY座標情報に変換すべき位置又はパターンを
    表示するためのXY座標平面と、該XY座標平面」二に
    前記の位置又はパターンを表示するだめの先 4一 端部を有する筆記具と、前記XY座標平面を含む平面に
    沿いかつ前記XY座標平面の近傍の第1の基準線上の第
    1の基準位置から前記XY座標平面に沿った第1の光ビ
    ームを発生するだめの第1の光ビーム発生手段と、該第
    1の光ビームの方向を該XY座標平面に沿う状態で変化
    させて該第1の光ビームが前記XY座標平面上を移動す
    るように制御する第1の光ビーム制御手段と、前記XY
    座標平面を含む平面に沿いかつ前記XY座標平面に近接
    して配置された第2の基準線上の第2の基準位置から前
    記XY座標平面に沿った第2の光ビームを発生するため
    の第2の光ビーム発生手段と、該第2の光ビームの方向
    を該XY座標平面に沿う状態で変化させて該第2の光ビ
    ームが前記XY座標平面上を移動するように制御する第
    2の光ビーム制御手段と、前記第1の光ビームと前記第
    2の光ビームとを前記筆記具の先端により遮光したとき
    にそれぞれ検知出力を出す光センサと、該光センサが前
    記第1の光ビームによる検知出力を出したときの該第1
    の光ビームの方向と前記第2の光ビーl、による検知出
    力を出しだときの該第2の光ビームの方向をそれぞれ測
    定した結果を用いて前記XYY標情報を出力するだめの
    測定手段とを備えた座標検知装置。
  6. (6)XYY標情報に変換すべき位置又はパターンを表
    示するだめのXYY標平面と、該XYY標平面上に前記
    の位置又はパターンを表示するだめの先端部を有する筆
    記具と、前記XYY標平面の近傍に該XYY標平面に直
    交するように配置された平面鏡と、前記XYY標平面の
    近傍の前記平面鏡を含む面から離れた基準位置より前記
    XYY標平面に沿った光ビームを発生するだめの光ビー
    ム発生手段と、該光ビームの方向を該XYY標平面に沿
    う状態で変化させて該光ビームが前記平面鏡により反射
    された反射光ビーム及び前記光ビームとが前記XYY標
    平面上を移動するように制御する光ビーム制御手段と、
    前記光ビームの前記平面鏡による反射光と前記光ビーム
    とを前記筆記具の先端により遮光したときにそれぞれ検
    知出力を出す光センサと、該光センサが前記反射光によ
    る検知出力を出した時の該反射光ビームの方向と前記光
    ビームによる検知出力を出したときの該光ビームの方向
    をそれぞれ測定した結果を用いて前記XYY標情報を出
    力するだめの測定手段とを備えた座標検知装置。
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