JPS59137987A - グラフイツク・パタ−ン重ね合せ方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の技術分野］ 本発明は、印刷要素（画素すなわちドツト）の矩形アレ
イで表現提示されるグラフィック・パターンの重ね合せ
に係り、特にＣＲＴ表示装置、印刷装置又は他の像もし
くは文書表現提示装置に文書を表現提示するのに使用さ
れるグラフィック・パターンの重ね合せに関する。

［発明の背景］ ドツト・パターンの矩形アレイを使用する電子計算機化
プリンタ（例えば電子写真プリンタ）及びディスプレイ
（例えばＣＲＴ表示装置）は、文字グラフィックに下線
を重ね合せるのにラスタ・パターンを手動で作り出す必
要がある。なお、本明細書では、文字に下線を引く場合
、文字グラフィックを上位（ｄｏｍｉｎａｎｔ又は５ｕ
ｐｅｒｉｏｒ）グラフィックと指称し、下線を下位（ｒ
ｅｃｅｓｓｉｖｅ又は１ｎｆｅｒｉｏｒ）グラフィック
と相称する。下位グラフィックは上位グラフィックから
任意に選択された距離離隔するが上位グラフィックによ
って輪郭が決定される点において制限を受ける。

グラフィックの重ね合せは、例えばビデオ回路中で閉塞
信号を作り出し、上位像を画像から除去し重ね合される
像を閉塞領域に配置することによって行なうことができ
る。米国特許第３９６１１３３号はこのような閉塞信号
を示している。ラスタ・パターンの各線はビデオ・スク
リーン上のより大きな像上に重ね合されるべき像のため
のスペースを作り出すために時間領域で測定された閉塞
信号を有する。このような装置は、一方の像によって輪
郭が決定される像間の間隔を任意に選択できない。重ね
合せを含む文字グラフィックの発生は米国特許第３９８
４８２８号に示されている。

この特許は複数の数を作り出すのにバーすなわち矩形ア
レイを使用するが、重ね合されるグラフィック間の間隔
を任意に選択できる輪郭付番プを行なうことができない
。

米国特許第４３１７１１４号は、米国特許第３９６１１
３３号と同様に、一方の像を削除する事によって他方の
像を一方の像に重ね合す為に禁止即ち否定機能を使用す
るものである。この特許も、重ね合されたグラフィック
の見易く美しくする為に一方のグラフィックと他方のグ
ラフィックとの間隔を選択するものではない。従って、
どんな種類（特に下線、但しこれに限定されない）のグ
ラフィックであっても見易く美しい重ね合せグラフィッ
クを容易に発生できる自動装置が必要である。

［発明の概要］ 本発明によれば、上位グラフィック及び下位グラフィッ
クが一方を他方の上に重ね合せるために選択される。両
グラフィックは、一方の２進信号がグラフィック（前景
画素）を示し他方の２進信号が背景（背景画素）を示す
２進信号の矩形アレイによってそれぞれ発生され且つ表
現提示される。

ディジタル信号のアレイは、ディジタル信号を示す前景
画素を所要のグラフィック分離に従って上位グラフィッ
ク・アレイに付加することによって上位グラフィック・
アレイから発生される。発生されたアレイは、上位グラ
フィック・パターン中の各前景画素のまわりの円形アレ
イ中のドツトすなわち画素の数（整数）に等しい離隔寸
法によって拡張されることが好ましい。発生されたアレ
イは、閉塞すなわち分断アレイを作り出すために下位グ
ラフィック・アレイをマスクする。分断アイは、２つの
原稿ゲラフンツク・パターンの組み合せであって且つ両
パター′ンの間に所要の離隔寸法を有する重ね合せグラ
フィック・パターンを作り出すために上位アレイとの論
理和がとられる。この結果得られたアレイは、見やすく
美しい重ね合せグラフィックを発生するために使用でき
る。

重ね合せを能率的に行なうために、上位グラフィック・
パターンの一部のみが重ね合せ処理に使用される。下位
グラフィック・パターンが測定され、下位グラフィック
・パターンの寸法に離隔距離を加えた値に等しい寸法の
グラフィック・パターンの一部が、中間ラスタ・パター
ンを作り出すのに選択される。最終的に論理和をとるこ
とにより、上位グラフィック・パターン全体が含まれる
ようになる。なお、グラフィック重ね合せ結果に多様性
をもたせるために本発明の範囲内でアレイ寸法選択を変
化させることができる。

［実施例の説明コ 第１図には、適当な結合装置１４を介してプログラムド
・ディジタル計算機１３に結合される対話式端末装置ｌ
Ｏが示されている。対話式端末装置１０はＣＲＴ表示ス
クリーン１１及び入力キーボード１２を有する。割算機
１３は、該計算機１３中の種々のプログラムが本発明を
実施するために端末装置１０とどのように相互作用する
かを示す論理形式で示されている。計算機１３の電子回
路は汎用のプログ斐マブル・ディジタル計算機を構成す
るのに通常使用される電子回路である。

計算機１３は対話式端末装置１０と動作させるサポート
・プログラム２０を有している。サポート・プログラム
２０は本発明に従ってグラフィック発生パターン・アレ
イを重ね合わすのに使用する入力を端末装置１０から受
ける。計算機１３は、ジョブ入力装置（ＪＥＳ）２１が
計算機１３内の他のテキスト及びグラフィック又は他の
プログラムとの関係で端末装置１０の動作時期を選択的
に決定できるようにマルチプログラム型とすることが好
ましい。テキスト及びグラフィック処理プログラム２２
は端末装［１０の動作に直接関係づけることができ、種
々の源からの全ての型のテキスト及びグラフィックを処
理することができる。テキスト及びグラフィック゛処理
プログラム２２は、例えば本発明に従って発生されたグ
ラフィック文字等を呼び出すことができる文書フォーマ
ット化プログラムを含む。Ｉｌｏ及び出力書出しプログ
ラム２３は文書を電子的形態でＤＡＳＤ　（直接アクセ
ス記憶装置すなわちディスク・ファイル）２５に記憶す
るだけでなく文書を電子的形態で出力文書表現提示装置
２６に供給するためにテキスト及びグラフィック処理プ
ログラム２２を結合するプログラムである。

表現提示装置２６は、植字機、あらゆる型のプリンタ、
端末装置１０のための表示装置１１のような電子的ディ
スプレイ、磁気テープ、他のＤＡＳＤ又は通信リンク（
ＣＯＭＭＯ）とすることができる。ライブラリー・プロ
グラム２４は、テキスト及びグラフィック処理プログラ
ム２２によって使用されるためにＤＡＳＤ２５に記憶さ
れた電子的フォント（文字グラフィック発生パターンを
示す２通信号の組）をアクセスするプログラムである。

上述した対話式テキスト処理の全てをサポートするため
に、グラフィック機能プログラム３０は、Ｉｌｏ及び出
力書出プログラム２３の動作時期を決定するために上述
のような電子的フォント（フォント発生パターン）を作
り出しＪＥＳ２１を使用してＤＡＳＤ２５に挿入するこ
とを可能にする。電子的フォントは表現提示装置２６に
よって表現提示されるべきグラフィックに相当する２進
ディジタル信号のラスタ・アレイから成るのが一般的で
ある。グラフィック・ユーティリティー３０内には、例
えば作り出されたグラフィックのかどを丸めるグラフィ
ック平滑化プログラム３１、グラフィックを文書表現提
示装置２６によってあらゆる方位で表現提示できるよう
にラスタ・パターンを回転させる回転プログラム３２等
の種々のプログラムが存在する。スケーラ３３は表現提
示されるべき文字グラフィック又は他のグラフィックの
ポイント寸法（Ｓ直高さ）ピッチ及び幅を調整する。解
像度プログラム３４はグラフィック・パターンの解像度
を表現提示装置２６の解像度に変更する。例えば、複数
の文字グラフィック・パターンから成る電子フォシトは
、グラフィック・ユーティリティの制御の下に、１ｃｍ
当り１４２個（１インチ当り３６個）の画素の解像度が
ら１　ｃｍ熱り９４個（１インチ当り２４０個）の画素
の解像度に変更できる。

本発明は、第２図に示された機械動作に従って動作する
重ね合せプログラム３５によってグラフィック発生ユー
ティリティー３０中で実施される。

グラフィック・ユーティリティはＤＡＳＤ２５がらグラ
フィック・パターンを取り出して重ね合せプログラム３
５に供給し、重ね合せプログラム３５によって新たに作
り出されたグラフィック発生パターンをテキスト及びグ
ラフィック処理プログラム２２が表現提示装置２６で使
用するのに識別できるようにＤＡＳＤ２５に記憶する。

このように、グラフィック・ユーティリティ３０は広範
囲の種々の文字及び他のグラフィック形式で文書を表現
提示するのを容易にするために前に作り出されたグラフ
ィック・パターンに基いてグラフィック発生パターンを
自動的に作り出す。

第２図に示された重ね合せ機械動作においてまずステッ
プ４０で下位グラフィック・パターンが拡張される。こ
のステップにより、原下位グラフィック・パターンに背
景画素信号が付加される。

拡張された下位グラフィック・パターンは、ステップ４
１において、上位グラフィック・パターンの部分的に重
ね合されたグラフィック・セグメントを作り出すのに使
用される上位グラフィック・パターンのセグメントを識
別するのに使用される。

このセグメント化により、重ね合せを行なうのに必要計
算機処理電力を低減できる。すなわち、重ね合せによる
影響を受けないグラフィック・パタ−ンの部分は処理さ
れない。ステップ４２において、セグメント化された上
位グラフィック・パターンは、作業中のグラフィック・
パターン中の下位グラフィックと上位グラフィックとの
間の所要の物理的間隔をセグメント化された上位グラフ
ィックに加えたものに従ってマスクすなわち閉塞アレイ
を作り出すために本発明に従って操作される。

マスクは、分断されたグラフィック・アレイを作り出す
ために下位グラフオツク・パターンと否定論理積がとら
れる。分断されたグラフィックは、ステップ４３におい
て上位グラフィックと組合される。″否定論理積″をと
ることによりマスク画素表示信号と同じアレイ位置にあ
る前景画素表示信号が背景画素表示信号に切り換って、
マスク・パターンの背景画素表示信号と一致する下位グ
ラフィック・パターンの前景画素表示信号のみが残る。

ステップ４３の組合せステップは２つのステップに分か
れる。まず、セグメント化された下位グラフィックは処
理に使用される上位グラフィックのセグメントと組合さ
れる。この結果得られたグラフィックは原上位グラフィ
ックのアレイに挿入される。原グラフィック・パターン
は依然としてＤＡＳＤ２５中に記憶されており、新たに
作り出されたグラフィック・パターンは通常のデータ記
憶装置割振り方法を使用して特に割振られたＤＡＳＤ２
５中のデータ記憶スペースに記憶される。

第２図のステップは、Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ　Ｂ
ｕｓｉｎｅｓｓＭａｃ、ｈｉｎｅｓ　Ｃｏｒｐｏｒａｔ
ｉｏｎからＡ　Ｐ　Ｌ　　Ｌａｎｇｕａｇｅ″という題
名で発行されている刊行物ＧＣ２６−３８４７（ファイ
ル番号Ｓ　３７０−２２　（Ｊｕｌｙ、１９７８））に
記載されているようなＡＰＬ言語を使用してグラフィッ
ク重ね合せプログラム３５において実施されるのが好ま
しい。ＡＰＬはアレイを能率的に取扱うことができる能
力を有する。

第３図は、単一の上位前景画素５ｏのための閉塞画素パ
ターン・マスクを作り出す処理を示す。

文字グラフィックを発生する画素アレイ内では、グラフ
ィック内の各前景画素は下位グラフィックの前景画素を
発生できない閉塞した同様な円５１を有する。第３図は
３つの画素からなる（ＴＴＣ＝３）上位グラフィックと
下位グラフィックの間の間隔に従って拡張された閉塞ア
レイを示す。一般的方法は、中心が各前景画素の位置に
あり半径がＴＴＣの１つの円内の全ての画素位置に閉塞
画素が存在するように単一の上位画素５０のまわりの前
景画素アレイを拡張するために閉塞画素をはじめに垂直
方向に発生し次に水平方向に発生する方法である。ディ
ジタル信号アレイは、一定のスペースを置いて画素が所
°定位置に存在する画素アレイを示す。まず、矢印５２
で示されるように、単一の上位画素５０の上又は下の閉
塞画素が縦座標に沿って付加される。次に、円５１の左
半内部中に閉塞画素が発生される。左側の両方向矢印５
３は拡張された画素アレイに７個の閉塞画素が付加され
ることを示す。画素の１つは画素５０の横座標上にある
。３つの閉塞画素が横座標の上方に位置し、２つの画素
が横座標の下方に位置する。

次のステップは、左側め矢印５４によって示されるよう
に５つの閉塞画素を付加することである。

１つの閉塞画素が横座標上に位置し、それぞれ２つの閉
塞画素が横座標の上方と下方に位置する。

最後に、矢印５５で示されているように円５１に沿う横
座標位置に１つの閉塞画素が付加される。

円５１の右側の半円部と同様に発生される。

全てのグラフィックを画素の円形アレイではなく画素の
矩形アレイとして自動的に処理するのが好ましいので、
第３図の閉塞アレイを矩形アレイの電気的表現で示すと
第４図のようになる。単一の前景上位画素５０は矩形ア
レイの中心に残っている。Ｘは背景画素（２進の０）を
示し、＠５９は上位グラフィック・パターンと下位グラ
フィック・パターンとの間にスペースを作り出すために
単一画素５０のまわりに付加された閉塞すなわちマスキ
ング画素を示す。

第５図は１つのラインに沿う２つの前景画素から成る上
位グラフィック・パターン７０上に下位グラフィック・
パターン（第５図（Ｂ））を重ね合せるために第３図及
び第４図に示された原理を使用することを示す。簡単の
ために背景画素は図示しない。２つの画素７０のまわり
の＠６９は第３図の円５１に相当する。＠６９は画素７
０のまわりにＴＴＣ＝３の実効半径を有する。第５図（
Ａ）は閉塞すなわちマスク・パターンを作り出すために
ＴＴＣ拡張された（円の外周上の画素を含ますように画
素含有計算を丸めたすなわちグラフィック相互間のスペ
ースを所与の値一定にされた）上位グラフィックを示す
。パターンは、■で示された複数の閉塞画素６９によっ
て取り囲まれたアレイの中心に２つの前景画素７０を有
する。アレイの右側の数字は、数字０で示された前景画
素７０のベース・ラインからの行の変位を示す。第５図
の（Ｂ）の下位グラフィックは９個の画素の厚さを有す
る水平線の一部として示されている。第５図（Ａ）の閉
塞パターンは、第５図（Ｃ）の中間下位パターンを発生
するために下位グラフィック・パターン（第５図（Ｂ）
）と否定論理積がとられる。この結果、下位グラフィッ
ク・パターンから下位前景画素７４（Ｘで示されている
）が削除され、下位グラフィック・パターンの行＋２、
＋３、＋４、−２、−３．−４中のドツト７７で示され
るように下位前景画素が残る。マスキングが完了すると
、中間下位パターン及び上位グラフィック・パターンが
第５図（Ｄ）の新たなグラフィック・パターンを作り出
すために論理和がとられて組合される。

第５図（Ｄ）のパターンは、残った下位グラフィック前
景画素で囲まれた原前景上位画素７０を含む。

背景画素は理解を容易にするために図示されていない。

第５図（Ｄ）の新たなパターンは、上位グラフィック７
０からすべての方法に３つの画素位置離隔した下位グラ
フィックを有する。離隔空間は前景画素７０の形に従っ
て輪郭付けられている。

すなわち、両方向矢印７６によって示される領域は重ね
合されるグラフィック間に所要の画素スペースを得るた
めに削除される画素を含む。このような輪郭について次
に第６図及び第７図を参照して説明する。

第６図には下線から引かれた文字１ｒ　Ｏ＃ｌが示され
、第７図にはスラッシュが入れられた文字ａｔ　Ｏｔ＋
が示されている。第６図において一様なドツトは前景画
素を示す。背景画素は簡単のために示されてぃない。第
１の組の画素８０は文字ｔｒ　Ｏ＋７を示し、画素８１
は上位グラフィック８ｏ上に重ね合されるべき下線すな
わち下位グ之フィックを示す。一様なドラ１〜画素は上
位グラフィック・パターンと下位グラフィック・パター
ンとの間の２つの画素の分離を示す。グラフィック・パ
ターン８ｏの内側の２つの画素８２は下線８１の一部を
示す。上位グラフィック゛′０″に従った下線すなわち
下位グラフィックの輪郭を完成させる際に、重ね合され
たグラフィックが見やすく美しくなるように本発明によ
り下位グラフィック内に画素８２が挿入される。上位パ
ターンと下位パターンの間のスペースを変更することの
影響をさらに示すために、単一画素位置の下位グラフィ
ックと上位グラフィックの間の間隔を示す画素８３及び
８５がＸで描かれている。上位グラフィック・パターン
８ｏに対向しこれによって輪郭が決定される下位グラフ
ィック・パターン８１の画素の別個の線を残すのに加え
て、上位グラフィックと下位グラフィックとの間のスペ
ースをより完全に一定に維持してグラフィックを見やす
く美しくするために、上位グラフィック・パターン８０
の下の曲線の別個の画素８４が付加される。第３図を参
照して説明したように、上位グラフィック８０中の閉塞
画素の付加によって示される如く上位グラフィック８０
の個々の前景画素のそれぞれについて前述のマスキング
を行なうことにより上述の別個の画素８４が生じる。さ
らに、上位グラフィック・パターン８０の内側には、上
位グラフィックと下位グラフィックの間のスペースを減
少するために前景下位画素８５が付加され、この結果、
上位グラフィック８゜によって制限される下位グラフィ
ック８１の輪郭が見やすくなる。なお、印刷されるべき
文字グラフィック中の画素の数は実際には第６図に示さ
れた密度より非常に高い密度を有するので、グラフィッ
ク８０及び８１の縁部は非常に見やすく優良な品質を有
するものである。

下位グラフィック８１が上位グラフィック８゜に対して
重ね合されるべきときには、上位グラフィツク８０全体
を処理する必要はない。従って、第５図に示されたステ
ップの前に、下位グラフィック８１は両方向矢印８７で
示されるように垂直方向の大きさが測定される。２つの
画素のグラフィックの間のスペースが所要のものとする
と、下位グラフィック８１の画素を削除するように作用
する上位グラフィックの画素は下位グラフィックから所
要のスペース離隔した画素である。従って、両方向矢印
８８で画定される垂直方向の範囲内（下位グラフィック
の垂一方向の寸法に下位グラフィックの垂直方向の両境
界に関する所要の間隔を加えたもの）にある上位グラフ
ィック８０の部分は第５図に示されているようにマスキ
ング動作に使用される。第５図（Ｄ）に示されているよ
うに新たなグラフィックを完成させるとき、上位グラフ
ィック８０の上記部分に下位グラフィック８１を加えた
ものが上位グラフィック８０の全矩形プレイに再挿入さ
れる。新たなグラフィックを発生させるために下位グラ
フィックの大きさに基いて上位グラフィックをセグメン
ト化すると、処理時間及びデータ記憶の必要が低減する
。

第７図はｇｔ　Ｏｐｐルブラフィック９に重ね合わされ
るスラッシュＩＩＡ９１を示す（背景画素は図示されて
いない）。左下かどにおいては、１１０１７グラフイツ
ク９０が上位グラフィックであり、右上かどにおいては
スラッシュ線９１が上位グラフィックである。従って、
決果として生じる新たなグラフィックにおいては、スラ
ッシュ線９１がＩＩ　Ｏ＃Ｊグラフィック９０の制限を
受け、参照番号９２で示される位置においてＩＩ　ＯＩ
Ｔグラフィック９０から１つの背景画素（図示せず）だ
け離隔する。同様に、上布かどにおいては、″′０″グ
ラフィック９０はスラッシュ線グラフイック９１の制限
を受は且つ１つの画素スペース９３だけスラッシュ線グ
ラフイック９１から離隔する。スペース９２はグラフィ
ック９０の輪郭に従い、スペース９３はグラフィック９
１の輪郭に従う。

アレイ拡張は第３図乃至第５図に教示されていることに
従って行なわれる。グラフィックは座標軸９５及び９６
によって示されている４つの象限に分割される。各象限
に入る画素はそれぞれ独立に取り扱われる。背景画素は
図を見やすくするために図示されていない。象限■すな
わち右上の象限では、象限サブアレイの４つのかどのす
べてにおいて（スペース９３を含めて）１つの画素位置
拡張される。すなわち、当該象限の下位グラフィック９
０が拡張され他の３つの象限■、■及びＩＶからの下位
グラフィック９０の画素を象限Ｉに含まれるようになる
。象限ｌについての次に続く処理は前述の処理手順に従
゛う。象限■すなわち右下の象限においては、グラフィ
ック９０は上位グラフィックであり、グラフィック９１
は前述の処理手順に従う下位グラフィックとして拡張さ
れる。

同様に、象限■においては、グラフィック９０は上位グ
ラフィックであり、グラフィック９１は下位グラフィッ
クである。象限■において、グラフィック９０は上位グ
ラフィックである。従って、第６図に示されたセグメン
ト化を使用し、これをグラフィック・パターンの複数部
分に適用すると、パターンのあらゆる数のセグメントは
、各セグメントが別個のグラフィック・パターンである
かのように拡張されて上位グラフィック又は下位グラフ
ィックになることができる。セグメントを再び組合せて
単一のグラフィック・パターンを作るには、個別的に処
理されたセグメントの論理和をとればよい。

第８図は輪郭が分離した重ね合せグラフィックを電子計
算機を使用して発生するためのフローチャートである。

ステップ１００において、下位グラフィックＩＧが第６
図及び第７図に示されるように測定される。ステップ１
０１において、ユーザが上位グラフィックと重ね合せを
受ける下位グラフィックと上位グラフィックとの間の画
素位置に所要のスペースを入力することによってステッ
プ１００で測定された下位グラフィックが拡張される。

スペースはＴＴＣで示されている。スキップ１０２にお
いて、拡張された下位グラフィックの寸法に等しい寸法
を有する上位グラフィックＳＧの当該部分（以下、セグ
メント″′Ａ″と相称する）が選択される。ステップ１
０３において、上位グラフィックのセグメントＡは第４
図に示されているように拡張され、主記憶装置（図示せ
ず）中の計算機レジスタＴＥＭＰ３及びＴＥＭＰ４に拡
張アレイが記憶される。これらの２通信号アレイによっ
て示される全ての画素が背景画素であるようにレジスタ
ＴＥＭＰ３及びＴＥＭＰ４がゼロにセットされる。ステ
ップ１０５において、上位グラフィックのセグメントＡ
は第３図及び第４図に示されるように拡張され、ステッ
プ１０６において第４図の画素５９のよう＆閉塞画素を
上位グラフィックのセグメントＡにすでに存在する画素
に付加することによってマスクに変換される。ステップ
１０７において、レジスタＴＥＭＰ３及びＴＥＭＰ４の
内容によって示されるアレイ部分が削除される。第５図
に示されているように、多くの前景上位画素が上位グラ
フィック画素５０に隣接した閉塞画素上だけでなく上位
グラフィックの画素上に重ね合される。ステップ１０８
において、上述のようにして得られた閉塞マスクが、付
加された閉塞画素及び上位グラフィックの原前景画素に
一致した下位グラフィック部分を削除するために下位グ
ラフィックと否定論理積がとられ、輪郭付けされた離隔
スペースが発生される。ステップ１０９において、ステ
ップ１０８で発生された下位グラフィック分断パターン
と上位グラフィックのセグメントＡとの論理和をとるこ
とによって新たなグラフィックＮ’Ｇが発生される。そ
してステップ１１０において新たなグラフィックＮＧが
上位グラフィックの残りの部分とともに記憶され、２つ
の原稿グラフィックの複合グラフィックが得られる。原
稿グラフィックはそれぞれのデータ記憶スペースに保存
でき、新たなグラフィックはＤＡＳＤ２５の新たに割振
られた領域に記憶される。

第９図は第８図の機械実施処理を行なうのに使用される
処理要素を示す。データ記憶装置１２０は領域１２１に
上位グラフィック・ラスタ・パターンを記憶し、領域１
２２に下位グラフィック・ラスタ・パターンを記憶する
。両うスク・パターンは、各パターンの上人かどに基準
点０を有する画素（２進ＩＩ　Ｉ　ＩＩ又はＩＩ　ＯＩ
Ｉ　）のアレイとして示される同じ相対アドレス・スペ
ースを有する。横座標軸は位置Ｘへ向けて延びており縦
断座標は位置Ｙへ向けて延びている。下位グラフィック
・パターン（前景画素〕が測定され、ステップ１３５に
おいてユーザによって入力された所要の分離間隔Ｊ（画
素位置の数（整数））は領域１２２に記憶された下位グ
ラフィック・パターンの測定値に加算され、アレイ１２
２の垂直座標０乃至Ｙに沿う上境界Ｍ及び下境界Ｎが得
られる。各アレイ１２１及び１２２によりて処理きれる
べきグラフィック・パターンの大きは、ステップ１２５
において、水平座標の０とＸの間であって垂直座標のＭ
とＮの間と決められる。上位パターン・アレイ１２１の
部分Ｍ乃至Ｎに“Ｊ　ＩＩを加えた境界（Ｍ＋Ｊ及びＮ
＋Ｊと示されている）は、アレイ・レジスタ１２７に点
１２６から読込まれる。ここおいて、レジスタ１２７は
重ね合せ機械処理に使用される上位グラフィック・パタ
ーンのセグメントを記憶していることになる。ステップ
１２８及び１２９において、垂直及び水平シフトのアレ
イ処理ステップに適合するように加算される。ステップ
１３６において行なわれる処理は、主記憶装置データ記
憶領域１２８及び１２９を画定するためにユーザから入
力されたスペースＪに応答する制御である。

結果として得られる閉塞アレイ（すなわち第５図のアレ
イ７１）とアレイ１２２から゛のＭとＮの間の下位グラ
フィック・パターンとがステップ１４０において否定論
理積がとられる。否定論理積がとられると、（第４図に
示されているように）拡張されたＡアレイの閉塞画素に
一致した下位グラフィック・パターンの前景画素が削除
される。第５図（Ｃ）の中間下位グラフィック・パター
ンに相当する分断アレイがレジスタＴ・ＥＭＰ２　（主
記憶装置１２０の一部）に記憶される。このアレイは、
パターン１４８としてディスプレイ１１上に表現提示さ
れる新たなグラフィック・パターンＮＧを作り出すため
にステップ１４７において上位グラフィック・アレイ１
２１と論理的に組合わされる。

新たなグラフィック・パターンはＤＡＳＤ２５に供給す
るためにデータ記憶装置又は主記憶装置１２０内に交互
に記憶される。

第１０図は、所要の輪郭付けされた離隔スペースＴＴＣ
を得るように上位グラフィック・パターンから閉塞アレ
イを作り出すためにステップ１３６の制御を具体的に実
施するためのＡＰＬブローチャー１〜を示す。この制御
には、デー°夕転送及びアレイ選択（アドレシング）の
ような他の制御から入る。矢印１５０で示されたところ
からはじまる上位グラフィック拡張ステップは、１５２
，１５５．１５７において次１こ続く繰返ロープのため
に制御信号をセットアツプすることを含む。パラメータ
Ｚ垂直方向における閉塞画素の作成を制御する。Ｚ＝１
は閉塞画素が水平座標軸の上方に付加されつつあること
を示し、Ｚ＝０は閉塞画素が水平座標軸の下方に付加さ
れつつあることを示す。

パラメータ＃　Ｘ　１１は横すなわち水平方向における
閉塞画素作成を制御する。Ｘ＝１はＦ３５１の左半分が
処理されていることを示し、Ｘ＝０円５１の右半分が処
理されていることを示す。内部計算機レジスタＬ７（図
示せず）において、パラメータＩがゼロにセットされる
。パラメータＩは単一画素５０の水平方向の拡張におい
て第３図に示されているように、左及び右方向の横運動
のための指示子の計数値制御を行なうものである。内部
レジスタＬ９（図示せず）はゼロに等しいパラメータＫ
を有する。パラメータには第３図の矢印５２．５３及び
５４によって示されているように垂直方向に関する制御
を行なう計算値である。数字１５２．１５５及び１５７
は画素拡張又は閉塞パターン発生処理におけるすべての
ループのための戻り点を示す。第１０図に示された処理
が行なわれると、セグメントＡの全ての上位グラフィッ
ク・アレイの処理が行なわれることになる。第３図を参
照するに、矢印５２が上位グラフィック画素５０に対す
る単一閉塞画素の付加を示すとき、上位グラフィック内
のすべての画素は拡張された上位グラフィック又は閉塞
アレイ内の同じ相対位置内に付加される閉塞画素を有す
る。ステップ１５１において、ゼロのアレイ（ＴＥＭＰ
２）すなわち背景画。

素を示す信号が作り出される。これはセグメントＡの大
きさを有する。レジスタＴＥＭ’Ｐ２は、ステップ１５
８において、セグメントＡの前景画素の上述の拡張によ
って作り出された閉塞画素を累積する。ステップ１５８
において閉塞画素が第３図の上位グラフィック画素５０
の上方の最初の画素位置に対応する上位グラフィックの
セグメントＡの各画素に付加される。Ｋの値はステップ
１５９において増加される。そして、ステップ１６０に
おいて、Ｋの値がステップ１５４で作り出された値ＴＥ
ＭＰと比較され菰。すなわち、所要の輪郭付けされたス
ペースに等しい上位グラフィック画素５０の上方におい
て垂直方向に付加された閉塞画素の数を有する。Ｋの値
がＴＥＭＰの値と一致しないと、上述の処理が次の垂直
画素位置すなわち例えば上位グラフィック画素の上方の
２つの画素について繰返される。ステップ１５８におい
て、別の閉塞画素が付加され、ステップ１６０において
Ｋの値がＴＥＭＰの値を越えるまでループが繰返される
。ここにおいて、セグメントＡの全てのグラフィック画
素（２進値のＩＩ　１　＃Ｔ）についての第３図の上向
きの矢印で示された処理が完了する。背景画素について
は閉塞画素が付加されないことに留意されたい。

ループ１５７乃至１６０から、ＡＰＬ重ね合せモジュー
ル３．５はステップ１６．１に進む。ステップ１６１に
おいて、下向き矢印５２に関する処理が完了したか否か
すなわちパラメータＺがゼロに等しいか否かが判断され
る。処理が完了していなければ、前景画素、５０の上方
の閉塞画素のみが付加される。従って、ステップ１６２
において、パラメータＺがゼロにセットされ、接合点１
５５に戻って上位前景画素５０の下方の閉塞画素を発生
するためにステップ１５７乃至１６０が繰返される。そ
して、ステップ１６１が再び実行されるが、この場合、
Ｚはゼロに等しく、矢印５２によって示されるすべての
閉塞画素がセグメントＡに付加されたことを示す。ステ
ップ１５３において、画素５０を通る縦座標上の画素位
置は■及びＸの値によって決定される。■の値はステッ
プ１６３において１つ増加される。そして、ステップ１
６４において、■の値がＴＴＣの値と比較される。Ｉは
上位グラフィック画素５０と交差する重置座標を示すた
めにゼロにプリセットされているので、ＴＴＣの値より
大きくない。従って、ステップ１５９において、現在の
画素位置が左へ１つの画素′位置移動し、ＴＥＭＰの新
たな値がステップ１５４のように新たな座標位置のため
に計算される。

第３図の最も左の矢印５３によって示される閉塞画素を
発生するためにステップ１５５乃至１６２が繰返される
。この処理は水平パラメータＩがステップ１６４におい
て所要の輪郭付けれたスペースＴＴＣより大きくなるま
で繰返される。ステップ１６６において、ＡＰＬモジュ
ール３５は半円パラメータＸが（１５０でセットされた
ように）１かどうかが検査される。Ｘが１ならば、円５
１の左半分のみが閉塞画素を受取ったことを意味する。

そして、ステップ１６７において、半ループ較正ステッ
プがＩ＝０．Ｚ＝１及びＸ＝Ｏにする。

１５２ではじまる上述のステップは円５１の右半分につ
いても繰返される６次に、機械ステップ１６６が実行さ
れ、Ｘ＝Ｏによって全ての閉塞画素が対応する円５１内
の上位グラフィック画素のために付加されたことが示さ
れる。これは、下位グラフィック・パターンをマスクす
なわち閉塞するために拡張された上位グラフィックがそ
の中に完成されたことを意味する。ＡＰＬアレイ処理に
ついて知られているように、第１Ｏ図に示されたステッ
プは全てのセグメントＡの前景画素につし１て行なわれ
る。従って、ステップ１６８において、ＡＰＬモジュー
ル３５はステップ１０７に進み、特別の領域を削除し、
ステップ１０７Ａにお＆Ｎてマスクと下位グラフィック
・パターンとの否定論理積がとられる。

なお１図に示された全てのグラフィック・ノ（ターンは
１重ね合わされるべき１組のグラフィック・パターン間
の分離スペースの輪郭付けを示すのに使用されるパター
ンについて比較的粗い解像度を有するが、高解像度のグ
ラフィック（ＩＣＩＯ当り９４個（１インチ当り２４０
個）以上）においては、最初に上位グラフィック・パタ
ーンをセグメント化するのに下位グラフィック・パター
ンを拡張し、次にマスクすなわち閉塞アレイを発生する
ためにセグメント化されたグラフィック・パターン（又
は完全な上位グラフィック・パターン）を拡張し、次に
閉塞アレイと下位グラフィック・パターンの否定論理積
をとり、次に分断アレイを再び組合せることにより（下
位グラフィックと原稿上位グラフィックとの否定論理積
をとることにより）、ユーザによって選択された間隔を
有し上位グラフィックに従って輪郭付けされた見やすく
美しい一組の重ね合せグラフィックが得られる。選択的
スペーシングの利点は、重ね合されるべきグラフィック
の種類に応じて間隔を選択できることである。

例えば１文字グラフィックスには、比較的ウエートの重
い文字を有するフォントと比較的ウエートの軽い文字を
有するフォントが存在する。″重いウエート″及びパ軽
いウエート″とは文字を構成するライン又はストローク
の幅に関することである。

重いウエートの′文字の場合、より大きな間隔が好まし
く、軽いウエートの文字の場合、見やすい文字を得るの
は間隔がかなり小さくできる。多くのフォントは、セリ
フや他の装飾グラフィック形態を有する文字グラフィッ
クを有するカーこのような場合も、上記処理によれば、
分断すなわち切取られた下位グラフィックの輪郭付けを
上位グラフィックの下位グラフィックの背景部分中Ｌ；
下位グラフィックを有する上位グラフィックに従って行
なうことができる。上述の輪郭付けは、上位グラフィッ
クの一般的輪郭に自動的に追従するだけでなく、人間の
介入又は観察を必要とすることなく上位グラフィックの
デザインの精巧さにｄ致したものにすることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明を使用したグラフィック作成装置を示す
説明図、第２図は第１図のグラフィック作成装置中で行
なわれる機械動作を簡単に示す流れ線図、第３図は第１
図に示された装置におＶｌて本発明を実施するために上
位画素すなわちドツトを拡張することを示す説明図、第
４図は第１図番；示された装置において本発明を実施す
るため１二上位グラフィックの各画素からの矩形アレイ
拡張を示す説明図、第５図は２画素アレイをより大きな
下位グラフィック・ラスタ・パターンに重ね合せる間に
第１図に示された装置の一連の機械ステップから得られ
る一連のドツトすなわち画素パターンを示す説明図、第
６図及び第７図は第１図の装置によって重ね合された単
一の上位グラフィックに２つの異なった下位グラフィッ
クを重ね合せることを示す説明図、第８図は本発明を実
施するために第１図の装置で行なわれる機械動作を示す
流れ線図、第９図は第８図に示された動作を実際に行な
うための機械動作を示す流れ線図、第１０図は第９図に
示された機械動作の機械実現ステップのいくつかを示す
流れ線図である。 １０・・・・対話式端末装置、１３・・・・ディジタル
計算機、２５・・・・直接アクセス記憶装置、２６・・
・・出力文書表現提示装置、５０・・・・上位前景画素
、５９．６９・・・・マスキング画素、７０・・・・上
位前景画素、７４．７７・・・・下位前景画素、８０・
・・・上位グラフィック、８１・・・・下位グラフィッ
ク、１２０・・・・データ記憶装置。 ？Ｑ　Ｎ　−０−Ｎ　Ｗｌ　？吟Ｎ−０−（％１ｆｆｉ
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Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ドツト・ラスタ・パターンに対応するように配列された
   前景ディジタル信号アレイとしてそれぞれ示された第１
   グラフイツク・パターンと第２グラフイツク・パターン
   を重ね合す方法において、前記第１及び第２グラフイツ
   ク・パターンの間隔をドツトの数で選択する過程と、 前記第１グラフイツク・パターンの周囲の前記ドツトの
   数で画定される範囲のドツト位置に閉塞アレイを発生さ
   せる過程と、 前記閉塞アレイの前景ディジタル信号に一致しない前景
   ディジタル信号のみを有する前記第２グラフイツク・パ
   ターンから分断アレイを発生するために前記第２グラフ
   イツク・パターンの前景ディジタル信号と前記閉塞アレ
   イの前景ディジタル信号との否定論理積をとる過程と、 前記第１グラフイツク・パターンと前記分断アレイとの
   論理和をとる過程と。 を含むグラフィック・パターン重ね合せ方法。