JPS5913640A - 光フアイバの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は加熱炉内でプリフォームロッドの線引を行なう
ことによって光ファイバの製造を行なう光ファイバの製
造方法に関する。

光ファイバの＠利たるブリフォームロノトヲ加熱炉内で
線引する際、加熱炉内にＡ［、Ｎ２等不活性ガスをパー
ジガスとして導入するのが一般である。

そして導入したパージガスは加熱炉に設けられた線引後
のガラスファイバの出１．．’ｌ　（Ｌ　、１１ろいは
加熱°枦の側壁に設けたＩ′Ｊｆ気（−１から１４１気
される。

ところで加熱炉内には蒸発した母材のガラス成分や加熱
炉内の部品から発生する不純物・カーボン粒子等が存在
しており、これらの微粒子は」１記パージガスと共にガ
ラスファイバの出口孔からり１出される。

もちろんりｌ気１」が設けられている場合ζこは、若干
の微粒子がそこから排出されるが、大部分は上記出１」
孔からＩＪｉ出されることになる。

問題となるのはこの微粒子−の動向であり、微粒子がそ
の１壕炉外へｔＪｌ出されれば支障ないが、す１出時未
被覆のガラスファイバに付着する■」化性が多分にあり
、この微粒子の４１着が光ファイバの機械的強度を劣化
させる１つの原因であろうと推論されている。

本発明は加熱炉内の気体をろ過し、ろ過後の気体を炉内
へ還流させることによって上記問題点をＩ’ｌ’？決し
ようといつもので、これを図面に示す実施例を参ＩＱ　
Ｌながら説明すると、図面に示すように加熱す１（１）
は、その天月面にプリフォームロッド（２）の装入孔（
３）を有していると３１２　Ｈとその底面に線引後のガ
ラスファイバ（４）が出るための出口孔（５）を有して
いる。

さらに加熱炉（１）の側面には同炉（１）内の気体を排
気するための排気口＋６１　（６）と、後述するように
ろ過後の気体を加熱炉（１）内に導入するための吸気口
（７）　［７）とが設けられている〇す１気ｌ」（６）
（６）及び吸気口ｔ７）　＋７）は通常夫々１対以上設
けられ、これら吸気口（７１［７）群はｔＪｊ気口（６
）　（６）群の上位に配置される。

そしてＩ１１気しｌ［６）（６）群及び吸気口ｔ７１　
Ｆ７１群の夫々は同−水モ面上に並置されるが、この際
夫々の水平面」二において排気口ｔ６）　＋６）相互の
距離及び吸気口（７１Ｆ？＋相互の距離は夫々はぼ均一
に設定されるのが奸才しい。

かくすることにより、加熱炉（１）内の気体の流れに偏
りが生ぜず、したがって気体の流れの不均一さに基因す
る湿度分布の乱れからガラスファイバ（４）に外径の変
動が生じたり、ガラスファイバ（４）が振動する等とい
ったことが防上されることになる。

土Ｊ１気１−．．ｌ　＋６１　＋６１と吸気Ｉｌｌ　（
７ｉ　（７）とは、加熱炉（１）の外部に配設されたパ
イプ＋８１　（８）によって連結されており、これらパ
イプ（８］　＋８）の中途には、ポンプ反び冷却装置が
組入まれた吸引機構＋！１１）　＋９）と、同機構の下
流側に配置されたろ過装置（１０）　ＱＯ）とが設けら
れている。

さら【こ加熱炉（１）の装入孔（３）及び出口孔（５）
の夫々には第１ガス導入室圓と第２ガス導入室０２）と
が連結されており、夫々の導入室００θ２にはガスＩｒ
ｉ’蔵設備から直接に新鮮なパージガスＧが導入される
。

尚図面中（鴎はグラファイトヒータである。

光ファイハラ製造するには、プリフォームロット（２）
を図示しない送り機構に取り利け、装入孔（３）から同
ロッド（２）を加熱炉（ｌ］内に装入する０加熱ｔＪ−
＋　（１）内の湿度を約２０００℃に設定し、第１及び
第２ガス導入室０１１０２１内にパージガスＯを導入す
る。

第１ガス導入室１１）から加Ｐ、炉（１）内に入ったパ
ージガスＯは同炉（１）内を流下し、出口孔（５）へ向
い、第２ガス導入室０ｚに導入されたパージガスＧは加
熱炉ｍ内に入ることなく、流下し同室α２の出口部−か
ら外部に流出する。

他方、吸引機構（９）（９）及びろ過装置（１０）ＱＯ
）はこの間作動状態にあり、したがって加熱炉（１）内
の気体は排気口＋６１　＋６１からパイプ［８１［８）
を介して吸引機構ｔ９１　＋９’ｌ　ｔこ吸引され、こ
こで冷却装置により常湿まで冷却される。

冷却後の気体はろ過装置ＱＯ）００）に導入され、ろ過
によって清浄化された気体はパイプ＋８＋　＋８）を介
し、吸気Ｄ　（７ｉ　（Ｔ）から加熱炉（１）内に還流
される。

１す具体的に述べると、上記パージガスＯとしてＡｒを
用い、第１及び第２ガス導入室０１）（１２）に合計ｔ
ｏｔ／ｉ導入し、同ガスの循環速度は、加熱炉（１）内
が常に正圧に保持されるよう設定する。

またろ過装置ＱＯ）（１０）のフィルターζこは厚さ０
５μｍのものを使用する。

尚、パージガスＧの導入箇所は上記に限らす加熱炉（１
）の任意箇所を選択することができる。

例えばろ過装置（１０）ＱＯ＋の下流側のパイプ＋８）
　ｆ８）に導入してもよい。

また加熱Ｖ’　（１）としては図面に示す母４２直熱型
以外に炉心管を介して母材を加熱するタイプのものでも
よく、ヒータ０３）加熱の手段としては抵ＩＡ、加熱で
も高周波誘導加熱でもよい。

以上のように本発明に−おいては加熱炉内の気体をろ過
し、これを同炉内に還流させるようにしたので、加熱炉
内で発生する不純物がろ過によって除去されることにな
り、したがって加熱炉の出口孔からＩＪ［出される不純
物の量が大幅に減少し、この結果線引後の未被俊ガラス
ファイバへの不純物の伺着が防［）−されることになる
ため、元ファイバの機械的強度が大幅に改善されること
になる。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明に係る製造方法の説明図である。 （１）・・・・・加熱炉 （２）・・・・・プリフォームロッド Ｇ・・・・・パージガス 特許出願人 代理人　弁理士　　井　藤　　　酸 第１頁の続き ■出　願　人　古河電気工業株式会社 東京都千代田区丸の内２丁目６ 番１号

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）　　加熱υ１内にパージガスを導入しつつプリフ
   ォームロフトの線引を（ｊなう光ファイバの製造方法に
   おいて、」−記加熱ＩＪｉ内の気体をろ過した後これを
   同炉内強制還流させることを特徴とする光ファイバの製
   造方法。
2. （２）　　加熱炉とろ過装置とを連通状態に配置してお
   ぎ、該加熱力１内の気体を凹かとろ過装置との間て強制
   循環させることを特徴とする特許請求の範囲第１項記戦
   の光ファイバの製造方法。
3. （３）　　加熱炉に設けられたソリフオームロッドの装
   入孔と線引後の光ファイバの出１」孔との夫々に第１及
   び第２ガス導入室を連結し、夫々のガス導入室内にバー
   ンガスを導入すると共に加熱炉の側面に吸気［−１とｋ
   Ｊｌ気口どを設け、該ＩＪＩ出１−１から吸引した気体
   をろ過装置でろ過した後、これを上記吸入口から加熱炉
   内に還流させることを特徴とする特許請求の範囲第２項
   記載の光ファイバの製造方法。
4. （４）吸気Ｕと排気口とを夫々１対以上設け、これら吸
   気口群もしくは排気［１群の何れか一方を他方より上位
   、に配置すると式に夫々の群を同一水平面上に並置し、
   夫々の水平面」−において各吸気口または各１′Ｊ１気
   口相互の距離をほぼ均一にしたことを特徴とする特８′
   １′請求の範囲第３項記戦の光ファイバの製造方法。