JPS591275B2 - ダイ 4 キユウアミノアルキレンホスホンサンノ セイホウ - Google Patents
ダイ 4 キユウアミノアルキレンホスホンサンノ セイホウInfo
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- JPS591275B2 JPS591275B2 JP50010905A JP1090575A JPS591275B2 JP S591275 B2 JPS591275 B2 JP S591275B2 JP 50010905 A JP50010905 A JP 50010905A JP 1090575 A JP1090575 A JP 1090575A JP S591275 B2 JPS591275 B2 JP S591275B2
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- -1 Amino Alkylene Phosphon Chemical compound 0.000 title description 13
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 27
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims description 6
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 230000029936 alkylation Effects 0.000 claims description 3
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 claims description 3
- 238000005956 quaternization reaction Methods 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-M 2-methylbenzenesulfonate Chemical group CC1=CC=CC=C1S([O-])(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical group CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001118 alkylidene group Chemical group 0.000 claims description 2
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-M benzenesulfonate Chemical group [O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 229940077388 benzenesulfonate Drugs 0.000 claims description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 claims description 2
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 18
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 11
- 239000002168 alkylating agent Substances 0.000 description 10
- 229940100198 alkylating agent Drugs 0.000 description 10
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N N,N-Diisopropylethylamine (DIPEA) Chemical compound CCN(C(C)C)C(C)C JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 6
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 5
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PTMHPRAIXMAOOB-UHFFFAOYSA-N phosphoramidic acid Chemical group NP(O)(O)=O PTMHPRAIXMAOOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 4
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YDONNITUKPKTIG-UHFFFAOYSA-N [Nitrilotris(methylene)]trisphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CN(CP(O)(O)=O)CP(O)(O)=O YDONNITUKPKTIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 3
- INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N iodomethane Chemical compound IC INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 2
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical group [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001351 alkyl iodides Chemical class 0.000 description 1
- IYABWNGZIDDRAK-UHFFFAOYSA-N allene Chemical group C=C=C IYABWNGZIDDRAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- DUYCTCQXNHFCSJ-UHFFFAOYSA-N dtpmp Chemical compound OP(=O)(O)CN(CP(O)(O)=O)CCN(CP(O)(=O)O)CCN(CP(O)(O)=O)CP(O)(O)=O DUYCTCQXNHFCSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFDRPXJGHKJRLJ-UHFFFAOYSA-N edtmp Chemical compound OP(O)(=O)CN(CP(O)(O)=O)CCN(CP(O)(O)=O)CP(O)(O)=O NFDRPXJGHKJRLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000219 ethylidene group Chemical group [H]C(=[*])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003574 free electron Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical group 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000012452 mother liquor Substances 0.000 description 1
- OCZBPNBIXHLBFM-UHFFFAOYSA-N n,n-di(propan-2-yl)cyclohexanamine Chemical compound CC(C)N(C(C)C)C1CCCCC1 OCZBPNBIXHLBFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- PTMHPRAIXMAOOB-UHFFFAOYSA-L phosphoramidate Chemical group NP([O-])([O-])=O PTMHPRAIXMAOOB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000011027 product recovery Methods 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000005588 protonation Effects 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 239000012265 solid product Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000001665 trituration Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
- C07F9/3804—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)] not used, see subgroups
- C07F9/3826—Acyclic unsaturated acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
- C07F9/3804—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)] not used, see subgroups
- C07F9/3808—Acyclic saturated acids which can have further substituents on alkyl
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は第4級アミノアルキレンホスホン酸化合物およ
びそれらの塩、そして第3級アミノアルキレンホスホン
酸化合物からこれらを製造するための方法に関する。
びそれらの塩、そして第3級アミノアルキレンホスホン
酸化合物からこれらを製造するための方法に関する。
アミノアルキレンホスホン酸およびそれらの塩例えばア
ミノトリ(メチレンホスホン酸)およびそれらのアルカ
リ金属およびアンモニウム塩は周知の化合物であり且つ
金属錯化剤として認識されている。
ミノトリ(メチレンホスホン酸)およびそれらのアルカ
リ金属およびアンモニウム塩は周知の化合物であり且つ
金属錯化剤として認識されている。
かような化合物の第4級化はこれまで達成されていなか
つた。普通の反応条件下では、中心窒素原子上の自由電
子対の明らかなプロトン化および結果的に閉塞がおこる
。前記プロトンを除去するに充分な程アルカリ性である
条件は、アルキル化剤をそれが所望のように反応し得る
よりも一層早く破壊する傾向がある。それ故本発明の目
的は、新規物質としての第4級化アミノアルキレンホス
ホン酸化合物を製造することである。
つた。普通の反応条件下では、中心窒素原子上の自由電
子対の明らかなプロトン化および結果的に閉塞がおこる
。前記プロトンを除去するに充分な程アルカリ性である
条件は、アルキル化剤をそれが所望のように反応し得る
よりも一層早く破壊する傾向がある。それ故本発明の目
的は、新規物質としての第4級化アミノアルキレンホス
ホン酸化合物を製造することである。
更に本発明の目的は前記新規物の製造方法を提供するこ
とである。本発明のその他の目的は次の記載から明らか
となろう。本発明の第4級アミノアルキレンホスホン酸
およびそれらの塩は一般構造〔式中各Rはそれぞれ炭素
原子数1ないし201固を有するアルキノレ、シクロア
ノレキノレまたはアラルキル基であるかまたは式または (式中R1はそれぞれ炭素原子数2〜8個を有するアル
キレンであり、R′はそれぞれ炭素原子数1〜201固
を有するアノレキノレまたはアルケニノレであり、R〃
はそれぞれ炭素原子数1〜6個を有するアルキレンまた
はアルキリデンでありそしてMはそれぞれ水素、アルカ
リ金属またはアンモニウムイオンである)の基であり、
そしてnは1〜3である〕を有している。
とである。本発明のその他の目的は次の記載から明らか
となろう。本発明の第4級アミノアルキレンホスホン酸
およびそれらの塩は一般構造〔式中各Rはそれぞれ炭素
原子数1ないし201固を有するアルキノレ、シクロア
ノレキノレまたはアラルキル基であるかまたは式または (式中R1はそれぞれ炭素原子数2〜8個を有するアル
キレンであり、R′はそれぞれ炭素原子数1〜201固
を有するアノレキノレまたはアルケニノレであり、R〃
はそれぞれ炭素原子数1〜6個を有するアルキレンまた
はアルキリデンでありそしてMはそれぞれ水素、アルカ
リ金属またはアンモニウムイオンである)の基であり、
そしてnは1〜3である〕を有している。
これらの化合物はアミノアルキレンホスホン酸化合物を
アルキル化剤例えばアルキルハライドと極性有機溶媒中
でそして立体障害を有する第3級アミンの存在下で反応
させることによつて製造される。
アルキル化剤例えばアルキルハライドと極性有機溶媒中
でそして立体障害を有する第3級アミンの存在下で反応
させることによつて製造される。
式1における第4級アミノホスホン酸化合物は一般式(
式中R,R″およびnは上記に定義のとおりである)を
有する対応する第3級アミノホスホン化合物から誘導さ
れる。
式中R,R″およびnは上記に定義のとおりである)を
有する対応する第3級アミノホスホン化合物から誘導さ
れる。
本発明の好ましい態様では、Rは(1)炭素原子数1〜
20個そして最も好ましくは炭素原子数1〜12個を有
するアルキル基、(2)炭素原子数5〜6個を有するシ
クロアルキル基または(3)そのアルキル部分に1〜4
個の炭素原子を有しそしてその芳香族部分に1〜3個の
環を有するアラルキル基(ベンジル基はアラルキル基の
好ましい例である)である。
20個そして最も好ましくは炭素原子数1〜12個を有
するアルキル基、(2)炭素原子数5〜6個を有するシ
クロアルキル基または(3)そのアルキル部分に1〜4
個の炭素原子を有しそしてその芳香族部分に1〜3個の
環を有するアラルキル基(ベンジル基はアラルキル基の
好ましい例である)である。
本発明の好ましい態様でもまたR″は炭素原子数1〜6
1固を有するアノレキレンまたはアノレキリデン基であ
りそして例えばメチレン、エチレン、イソプロピレン、
へキシレンおよびエチリデンを含めて直鎖状または分枝
状であつてよい。しかしながらもつとも好ましくはビは
メチレンである。式1の第4級アミノアルキレンホスホ
ン酸基はまた例えば一般式(式中mは1または2であり
そしてR1およびビは前記定義のとおりである)を有す
るようなポリアルキレンポリアミノポリ(アルキレンホ
スホン酸)からも誘導される。
1固を有するアノレキレンまたはアノレキリデン基であ
りそして例えばメチレン、エチレン、イソプロピレン、
へキシレンおよびエチリデンを含めて直鎖状または分枝
状であつてよい。しかしながらもつとも好ましくはビは
メチレンである。式1の第4級アミノアルキレンホスホ
ン酸基はまた例えば一般式(式中mは1または2であり
そしてR1およびビは前記定義のとおりである)を有す
るようなポリアルキレンポリアミノポリ(アルキレンホ
スホン酸)からも誘導される。
式の範囲内の好ましいメチレンホスホン酸の具体例はア
ミノトリ(メチレンホスホン酸)、メチルアミノジ(メ
チレンホスホン酸)、ドデシルアミノジ(メチレンホス
ホン酸)、ジメチルアミノメチレンホスホン酸、ジドデ
シルアミノメチレンホスホン酸、エチルヘキシルアミノ
メチレンホスホン酸、2−エチルヘキシルアミノジ(メ
チレンホスホン酸)、エチレンイミノメチレンホスホン
酸、プロピレンイミノメチレンホスホン酸、ピロリジノ
メチレンホスホン酸およびピペリジノメチレンホスホン
酸を包含するが、ただしこれらに限定されるものではな
い。
ミノトリ(メチレンホスホン酸)、メチルアミノジ(メ
チレンホスホン酸)、ドデシルアミノジ(メチレンホス
ホン酸)、ジメチルアミノメチレンホスホン酸、ジドデ
シルアミノメチレンホスホン酸、エチルヘキシルアミノ
メチレンホスホン酸、2−エチルヘキシルアミノジ(メ
チレンホスホン酸)、エチレンイミノメチレンホスホン
酸、プロピレンイミノメチレンホスホン酸、ピロリジノ
メチレンホスホン酸およびピペリジノメチレンホスホン
酸を包含するが、ただしこれらに限定されるものではな
い。
式の範囲内の好ましいメチレンホスホン酸化合物の具体
例はエチレンジアミンテトラ(メチレンホスホン酸)、
ジエチレントリアミンペンタ(メチレンホスホン酸)、
ヘキサメチレンジアミンテトラ(メチレンホスホン酸)
およびピスヘキサメチレントリアミンペンタ(メチレン
ホスホン酸)を包自するが、しかしこれに限定されるも
のではない。
例はエチレンジアミンテトラ(メチレンホスホン酸)、
ジエチレントリアミンペンタ(メチレンホスホン酸)、
ヘキサメチレンジアミンテトラ(メチレンホスホン酸)
およびピスヘキサメチレントリアミンペンタ(メチレン
ホスホン酸)を包自するが、しかしこれに限定されるも
のではない。
式およびの第3級アミノホスホン酸化合物を4級化する
のに有用なアルキル化剤は式(式中R′は上記の意味を
有しておりそしてXはハライド、アセテート、トルエン
スルホネート、ベンゼンスルホネートまたはその他の残
基である)からなる。
のに有用なアルキル化剤は式(式中R′は上記の意味を
有しておりそしてXはハライド、アセテート、トルエン
スルホネート、ベンゼンスルホネートまたはその他の残
基である)からなる。
好ましくはR′は炭素原子数1〜20個そして一層好ま
しくは炭素原子数1〜6個を有するアルキルまたはアル
ケニル基である。特に好ましいアルキル化剤として吐級
アルキルハライド例えばメチルヨーダイドがある。本発
明の方法に有用な立体障害された第3級アミンには少な
くとも約8そして好ましくは約8ないし約11のPKa
を有するようなアミンがある。
しくは炭素原子数1〜6個を有するアルキルまたはアル
ケニル基である。特に好ましいアルキル化剤として吐級
アルキルハライド例えばメチルヨーダイドがある。本発
明の方法に有用な立体障害された第3級アミンには少な
くとも約8そして好ましくは約8ないし約11のPKa
を有するようなアミンがある。
約8よりも小さいかまたは約11よりも大きいPKaを
有するアミンは好ましくない。なぜなら反応の速度は任
意の一層低いPKaにおいては激しく減少し、一方アル
キル化剤の実質的加水分解が任意の一層高いPKaにお
いて起るからである。この立体障害された第3級アミン
は4級反応中プロトン除去剤として働く。この点におい
ては、このアミンの窒素は4級化される第3級アミノホ
スホン酸化合物の窒素と少なくとも同程度に塩基・曲で
あることおよびこのアミンがそれ自体の4級化を阻止す
るために充分に障害されることが好ましい。好ましい障
害された第3級アミンはジイソプロピルアルキルアミン
でありそしてそのアルキルは炭素原子数2〜約20個で
且つ脂肪族または脂環族であつてよい。ジイソプロピル
エチルアミンおよびジイソプロピルシクロヘキシルアミ
ンが適当な化合物の例である。容易に4級化されず且つ
約8ないし約11のPKaを有するその他の第3級アミ
ンは当業者には容易に明白であろう。本発明の方法に有
用な溶媒は有機極性溶媒例えば低級アルコール、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシドおよびヘキサメ
チルホスホロトリアミドである。本発明の第4級アミノ
アルキレンホスホン酸化合物は、本発明の方法によつて
式またはの第3級アミノホスホン酸化合物を極性溶媒お
よび上記定義したような障害された第3級アミンプロト
ン除去剤の存在下に式のアルキル化剤と反応させること
により製造される。
有するアミンは好ましくない。なぜなら反応の速度は任
意の一層低いPKaにおいては激しく減少し、一方アル
キル化剤の実質的加水分解が任意の一層高いPKaにお
いて起るからである。この立体障害された第3級アミン
は4級反応中プロトン除去剤として働く。この点におい
ては、このアミンの窒素は4級化される第3級アミノホ
スホン酸化合物の窒素と少なくとも同程度に塩基・曲で
あることおよびこのアミンがそれ自体の4級化を阻止す
るために充分に障害されることが好ましい。好ましい障
害された第3級アミンはジイソプロピルアルキルアミン
でありそしてそのアルキルは炭素原子数2〜約20個で
且つ脂肪族または脂環族であつてよい。ジイソプロピル
エチルアミンおよびジイソプロピルシクロヘキシルアミ
ンが適当な化合物の例である。容易に4級化されず且つ
約8ないし約11のPKaを有するその他の第3級アミ
ンは当業者には容易に明白であろう。本発明の方法に有
用な溶媒は有機極性溶媒例えば低級アルコール、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシドおよびヘキサメ
チルホスホロトリアミドである。本発明の第4級アミノ
アルキレンホスホン酸化合物は、本発明の方法によつて
式またはの第3級アミノホスホン酸化合物を極性溶媒お
よび上記定義したような障害された第3級アミンプロト
ン除去剤の存在下に式のアルキル化剤と反応させること
により製造される。
本発明の方法においては、第3級アミノホスホン酸およ
びアルキル化剤反応成分は、攪拌器、加熱手段および還
流コンデンサを備えた反応器中で、障害された第3級ア
ミンおよび溶媒と一緒にされる。
びアルキル化剤反応成分は、攪拌器、加熱手段および還
流コンデンサを備えた反応器中で、障害された第3級ア
ミンおよび溶媒と一緒にされる。
アルキル化剤対第3級アミノホスホン酸の割合はモル当
量基準で好ましくは少なくとも約1/1でありそして最
も好ましくは約1.5/1ないし約3/1である。しか
し3/1以上の量でアルキル化剤を用いることができる
が、大過剰は障害された第3級アミンのアルキル化を強
めて、全体のプロセス効率を減少する傾向がある。障害
された第3級アミン対第3級アミノホスホン酸の割合は
好ましくはモル当量基準で少なくとも約1.5/1およ
び最も好ましくは約2/1ないし約5/1である。
量基準で好ましくは少なくとも約1/1でありそして最
も好ましくは約1.5/1ないし約3/1である。しか
し3/1以上の量でアルキル化剤を用いることができる
が、大過剰は障害された第3級アミンのアルキル化を強
めて、全体のプロセス効率を減少する傾向がある。障害
された第3級アミン対第3級アミノホスホン酸の割合は
好ましくはモル当量基準で少なくとも約1.5/1およ
び最も好ましくは約2/1ないし約5/1である。
しかし5/1より過剰でそのような第3級アミンを用い
ることもできるが、大過剰は単に余分の回収努力を必要
とするに過ぎず、全体のプロセス効率を減少させる結果
となる。溶媒は反応のための媒体を提供するものであり
そして充分量が用いられて反応体および障害されたアミ
ンをして反応可能ならしめる。一般に溶媒は総反応混合
物の20〜90重量eを構成するが、もちろん一層大量
を用いることもできる。均質な反応混合物そして最も好
ましくはその他の成分の均一な溶液を生ずるに充分な量
の溶媒を用いることが好ましい。低級アルコールとくに
メチル、エチル、プロピルおよびブチルアルコールは好
ましい溶媒でありそして普通には反応混合物の50〜8
0%を占める。上記成分を一緒にした後、その反応混合
物は約50℃ないし約250後Cに加熱されその間攪拌
して第3級アミノホスホネートのアルキル化を促進する
。
ることもできるが、大過剰は単に余分の回収努力を必要
とするに過ぎず、全体のプロセス効率を減少させる結果
となる。溶媒は反応のための媒体を提供するものであり
そして充分量が用いられて反応体および障害されたアミ
ンをして反応可能ならしめる。一般に溶媒は総反応混合
物の20〜90重量eを構成するが、もちろん一層大量
を用いることもできる。均質な反応混合物そして最も好
ましくはその他の成分の均一な溶液を生ずるに充分な量
の溶媒を用いることが好ましい。低級アルコールとくに
メチル、エチル、プロピルおよびブチルアルコールは好
ましい溶媒でありそして普通には反応混合物の50〜8
0%を占める。上記成分を一緒にした後、その反応混合
物は約50℃ないし約250後Cに加熱されその間攪拌
して第3級アミノホスホネートのアルキル化を促進する
。
有意量の反応が約50℃において起こり始まるが、反応
速度を増加するためには一層高い温度が好ましい。大気
系中ではこの反応混合物は反応を終結させるに充分な時
間加熱され且つ還流温度に保持されるのが好ましい。還
流温度および時間は反応物の組成および反応せしめられ
ている物質の性質に依存する。しかしながら大多数の系
に関しては、一般に反応温度は少なくとも約75にCで
あり且つ反応時間は約12時間よりも少ないことが好ま
しい。一層高い温度および一層短い反応時間が所望され
る場合には、超大気圧系を用いて反応温度を約250℃
までとすることができる。しかしながら場合によつては
約250℃またはそれ以上の高い温度でさえも用いられ
てよい。加圧反応器および高温度を利用することによつ
て反応時間は多くの場合1時間またはそれ以下に減少で
きる。反応が完結した後、第4級アミノアルキレンホス
ホン酸生成物は反応物を室温またはそれ以下に冷却する
ことによりワツクス状またjま油状固体として回収され
る。
速度を増加するためには一層高い温度が好ましい。大気
系中ではこの反応混合物は反応を終結させるに充分な時
間加熱され且つ還流温度に保持されるのが好ましい。還
流温度および時間は反応物の組成および反応せしめられ
ている物質の性質に依存する。しかしながら大多数の系
に関しては、一般に反応温度は少なくとも約75にCで
あり且つ反応時間は約12時間よりも少ないことが好ま
しい。一層高い温度および一層短い反応時間が所望され
る場合には、超大気圧系を用いて反応温度を約250℃
までとすることができる。しかしながら場合によつては
約250℃またはそれ以上の高い温度でさえも用いられ
てよい。加圧反応器および高温度を利用することによつ
て反応時間は多くの場合1時間またはそれ以下に減少で
きる。反応が完結した後、第4級アミノアルキレンホス
ホン酸生成物は反応物を室温またはそれ以下に冷却する
ことによりワツクス状またjま油状固体として回収され
る。
生成物の回収アルキル化された第3級アミンの結晶状沈
殿物の形成により達成することができる。通常、所望の
反応生成物は反応器の冷却表面上に沈殿し、一方母液中
には結晶状沈殿が形成し、そして所望の生成物の分離は
傾瀉によつて容易に達成される。このワツクス状固体反
応生成物は4級化されたアミノアルキレンホスホン酸で
ありそして水性系中で金属イオン錯体を形成するための
ものとして用いることができ、またはそれは更に精製し
て反応からその他の物質の含有量を除去してもよい。
殿物の形成により達成することができる。通常、所望の
反応生成物は反応器の冷却表面上に沈殿し、一方母液中
には結晶状沈殿が形成し、そして所望の生成物の分離は
傾瀉によつて容易に達成される。このワツクス状固体反
応生成物は4級化されたアミノアルキレンホスホン酸で
ありそして水性系中で金属イオン錯体を形成するための
ものとして用いることができ、またはそれは更に精製し
て反応からその他の物質の含有量を除去してもよい。
精製は便利には有機溶媒での洗浄、塩の形成および分離
、イオン交換およびその他の慣用操作によつて達成され
る。かような精製方法の例は次の実施例に記載されるが
、このような実施例は本発明の好ましい態様を示すもの
であり且9・本発明はこれに限定されるものではない。
攪拌器、加熱ジヤケツトおよび還流コンデンサを備えた
フラスコに5.98y(20ミリモル)のアミノトリ(
メチレンホスホン酸)、12.93y(100ミリモル
)のジイソプロピルエチルアミン、18.6y(131
ミリモル)のメチルヨーダイドおよび50m1のエタノ
ールを仕込む。
、イオン交換およびその他の慣用操作によつて達成され
る。かような精製方法の例は次の実施例に記載されるが
、このような実施例は本発明の好ましい態様を示すもの
であり且9・本発明はこれに限定されるものではない。
攪拌器、加熱ジヤケツトおよび還流コンデンサを備えた
フラスコに5.98y(20ミリモル)のアミノトリ(
メチレンホスホン酸)、12.93y(100ミリモル
)のジイソプロピルエチルアミン、18.6y(131
ミリモル)のメチルヨーダイドおよび50m1のエタノ
ールを仕込む。
この混合物は約75℃において還流するまで攪拌加熱さ
れそして12時間還流状態に保たれた。還流中油状固体
がフラスコの壁上に沈着するのがみとめられた。還流時
間の後、反応混合物を室温に冷却すると結晶状沈殿が反
応物中に現われた。ジイソプロピルエチルアミンメチオ
ダイドとして同定された結晶状沈殿および液体は注ぎ出
されそしてフラスコの壁上のワツクス状または油状固体
生成物は水100d中に溶解された。PHが約14にな
るまで固体状KOHをフラスコに添加しそして水性溶液
をクロロホルム50m1ずつで2回抽出しそして次いで
蒸発させて無定形ガラス状物を得、これをアセトン10
0m1ずつで3回よく洗浄する。この生成物を水に再溶
解し、そして水素型イオン交換樹脂を通過させて酸型に
再変換しそして最終的に蒸発乾固した。得られる生成物
は60MHzにおけるD2O中のプロトンNMR分析(
2:1の相対強度で、5.5δにおけるN−C−P結合
に対するタブレットおよび3.9δにおけるCH3−N
結合に対するシングレツトを示す)によつてとして同定
された。
れそして12時間還流状態に保たれた。還流中油状固体
がフラスコの壁上に沈着するのがみとめられた。還流時
間の後、反応混合物を室温に冷却すると結晶状沈殿が反
応物中に現われた。ジイソプロピルエチルアミンメチオ
ダイドとして同定された結晶状沈殿および液体は注ぎ出
されそしてフラスコの壁上のワツクス状または油状固体
生成物は水100d中に溶解された。PHが約14にな
るまで固体状KOHをフラスコに添加しそして水性溶液
をクロロホルム50m1ずつで2回抽出しそして次いで
蒸発させて無定形ガラス状物を得、これをアセトン10
0m1ずつで3回よく洗浄する。この生成物を水に再溶
解し、そして水素型イオン交換樹脂を通過させて酸型に
再変換しそして最終的に蒸発乾固した。得られる生成物
は60MHzにおけるD2O中のプロトンNMR分析(
2:1の相対強度で、5.5δにおけるN−C−P結合
に対するタブレットおよび3.9δにおけるCH3−N
結合に対するシングレツトを示す)によつてとして同定
された。
エタノールと摩砕すると酸性のガラス状物がモノエタノ
ールとして結晶化し且つ50%収率で3.6fが回収さ
れた。
ールとして結晶化し且つ50%収率で3.6fが回収さ
れた。
この物質をC4Hl4NO,P3・C2H5OHとして
元素分析した結果は次のとおりであつた。先の実施例に
おいて、最初に反応フラスコから回収された粗製ワツク
ス状固体のメチルアミノトリ(メチレンホスホン酸)は
、カリウム塩に変換しそしてアセトンで洗浄してアセト
ン可溶性カリウムヨーダイドを除去することによつて精
製されるのが便利である。
元素分析した結果は次のとおりであつた。先の実施例に
おいて、最初に反応フラスコから回収された粗製ワツク
ス状固体のメチルアミノトリ(メチレンホスホン酸)は
、カリウム塩に変換しそしてアセトンで洗浄してアセト
ン可溶性カリウムヨーダイドを除去することによつて精
製されるのが便利である。
当業者には自明の類似の操作および溶媒の選択によつて
アルキルヨーダイド以外のアルキル化剤を用いる反応に
よつて得られた物質の精製は容易に達成でき且つかよう
な精製操作は本発明の本質的な部分ではない。本明細書
に記載した方法における変更が本発明の範囲から逸脱す
ることなしに可能であることは当業者にとつて明白であ
ろう。
アルキルヨーダイド以外のアルキル化剤を用いる反応に
よつて得られた物質の精製は容易に達成でき且つかよう
な精製操作は本発明の本質的な部分ではない。本明細書
に記載した方法における変更が本発明の範囲から逸脱す
ることなしに可能であることは当業者にとつて明白であ
ろう。
例えば第3級アミノホスホン酸無水物を出発反応成分と
して用いることおよび第4級化反応の一部として酸まで
加水分解することは許容し得る。その他の成分例えば基
本反応に対する促進剤、助触媒および触媒もまた包自さ
れてよい。これらそしてその他の変更は本明細書中に記
載され且つ開示された本発明の範囲内にある。前記の説
明は第4級アミノアルキレンホスホン酸およびこれらの
酸のアルカリ金属およびアンモニウム塩に関連している
が、その他の新規な組成物とくに金属イオン錯体もこれ
らの酸および塩の使用で得られる。
して用いることおよび第4級化反応の一部として酸まで
加水分解することは許容し得る。その他の成分例えば基
本反応に対する促進剤、助触媒および触媒もまた包自さ
れてよい。これらそしてその他の変更は本明細書中に記
載され且つ開示された本発明の範囲内にある。前記の説
明は第4級アミノアルキレンホスホン酸およびこれらの
酸のアルカリ金属およびアンモニウム塩に関連している
が、その他の新規な組成物とくに金属イオン錯体もこれ
らの酸および塩の使用で得られる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 R_3_−_n−N−(R″PO_3H_2)_n(I
I)または一般式▲数式、化学式、表等があります▼(
III)(式中、Rは炭素原子数1〜20個を有するアル
キル、シクロアルキルまたはアラルキル基であり、R_
1は炭素原子数2〜8個を有するアルキレン基であり、
R″は炭素原子数1〜6個を有するアルキレンまたはア
ルキリデン基であり、nは1〜3であり、そしてmは1
または2である)を有する第3級アミノアルキレンホス
ホン酸を一般式R′−X(IV)(式中、R′は炭素原子
数1〜20個を有するアルキルまたはアルケニル基であ
りそしてXはハライド、アセテート、トルエンスルホネ
ートまたはベンゼンスルホネートである)のアルキル化
剤と極性有機溶媒中でそして8〜11のpKaを有する
第4級化に対して立体障害された第3級アルキルアミン
の存在下に50〜250℃の温度においてそのアミノア
ルキレンホスホン酸のアルキル化を達成するに充分な時
間接触させることを特徴とする、第4級アミノアルキレ
ンホスホン酸およびそれらの塩を製造する方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US436417A US3925453A (en) | 1974-01-25 | 1974-01-25 | Quaternary aminoalkylene phosphonic acids and method of preparation |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS50106928A JPS50106928A (ja) | 1975-08-22 |
JPS591275B2 true JPS591275B2 (ja) | 1984-01-11 |
Family
ID=23732311
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP50010905A Expired JPS591275B2 (ja) | 1974-01-25 | 1975-01-24 | ダイ 4 キユウアミノアルキレンホスホンサンノ セイホウ |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3925453A (ja) |
JP (1) | JPS591275B2 (ja) |
BE (1) | BE824744A (ja) |
BR (1) | BR7500499A (ja) |
CA (1) | CA1063616A (ja) |
DE (1) | DE2502953C2 (ja) |
FR (1) | FR2259105B1 (ja) |
GB (1) | GB1466035A (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3974090A (en) * | 1975-03-20 | 1976-08-10 | Monsanto Company | Imino alkylimino phosphonates and method for preparing and using same |
SE431285B (sv) * | 1976-08-16 | 1984-01-30 | Colgate Palmolive Co | Munvardskomposition innehallande en fosfonforening, for minskning av missfergning bildad av ett ingaende kvevehaltigt antibakteriellt plaquehemmande medel |
US4118472A (en) * | 1976-08-16 | 1978-10-03 | Colgate-Palmolive Company | Antibacterial oral composition |
DE2745083C2 (de) * | 1977-10-07 | 1985-05-02 | Henkel KGaA, 4000 Düsseldorf | Hydroxydiphosphonsäuren und Verfahren zu deren Herstellung |
US4416785A (en) * | 1982-05-17 | 1983-11-22 | Uop Inc. | Scale-inhibiting compositions of matter |
US4459241A (en) * | 1983-04-28 | 1984-07-10 | The Dow Chemical Company | Compounds containing quaternary ammonium and methylenephosphonic acid groups |
DE3636750A1 (de) * | 1986-10-29 | 1988-05-05 | Henkel Kgaa | Amphotere und zwitterionische phosphattenside |
WO2014089680A1 (en) | 2012-12-11 | 2014-06-19 | Nano Safe Coatings Incorporated (A Florida Corporation 3 P14000024914) | Uv cured benzophenone terminated quaternary ammonium antimicrobials for surfaces |
WO2014127451A1 (en) * | 2013-02-19 | 2014-08-28 | Nano Safe Coatings Incorporated (A Florida Corporation 3 P 14000024914) | Phosphorus functional antimicrobial coatings for metal surfaces |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2774786A (en) * | 1953-08-10 | 1956-12-18 | Gen Mills Inc | Phosphono-ammonium surface active agents |
CH336065A (de) * | 1954-03-05 | 1959-02-15 | Ciba Geigy | Verfahren zur Herstellung von neuen Stickstoff und Phosphor enthaltenden Verbindungen |
US2841611A (en) * | 1954-09-01 | 1958-07-01 | Dow Chemical Co | Nu-alkyl substituted alkylene polyamine methylene phosphonic acids |
US3400148A (en) * | 1965-09-23 | 1968-09-03 | Procter & Gamble | Phosphonate compounds |
US3507937A (en) * | 1966-10-04 | 1970-04-21 | Procter & Gamble | Reversed zwitterionic phosphorus compounds |
US3453301A (en) * | 1966-11-21 | 1969-07-01 | Stauffer Chemical Co | Tris-betahydroxyethyl phosphonomethylene ammonium compounds |
US3738937A (en) * | 1970-05-08 | 1973-06-12 | Textilana Corp | Polyalkylene polyamino polykis methylene phosphonic acids and salts thereof and methods for producing same |
US3751451A (en) * | 1970-05-26 | 1973-08-07 | Kendall & Co | Monomeric emulsion stabilizers derived from alkyl/alkenyl succinic anhydride |
US3792084A (en) * | 1972-03-24 | 1974-02-12 | Petrolite Corp | Polyquaternary ammonium methylene phosphonates and uses thereof |
-
1974
- 1974-01-25 US US436417A patent/US3925453A/en not_active Expired - Lifetime
-
1975
- 1975-01-24 CA CA218,612A patent/CA1063616A/en not_active Expired
- 1975-01-24 DE DE2502953A patent/DE2502953C2/de not_active Expired
- 1975-01-24 JP JP50010905A patent/JPS591275B2/ja not_active Expired
- 1975-01-24 BR BR499/75A patent/BR7500499A/pt unknown
- 1975-01-24 FR FR7502322A patent/FR2259105B1/fr not_active Expired
- 1975-01-24 BE BE152677A patent/BE824744A/xx not_active IP Right Cessation
- 1975-01-24 GB GB311675A patent/GB1466035A/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2259105B1 (ja) | 1978-03-10 |
FR2259105A1 (ja) | 1975-08-22 |
DE2502953C2 (de) | 1984-05-10 |
BR7500499A (pt) | 1976-10-26 |
JPS50106928A (ja) | 1975-08-22 |
BE824744A (fr) | 1975-07-24 |
GB1466035A (en) | 1977-03-02 |
US3925453A (en) | 1975-12-09 |
DE2502953A1 (de) | 1975-07-31 |
CA1063616A (en) | 1979-10-02 |
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