JPS59124038A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS59124038A JPS59124038A JP23363382A JP23363382A JPS59124038A JP S59124038 A JPS59124038 A JP S59124038A JP 23363382 A JP23363382 A JP 23363382A JP 23363382 A JP23363382 A JP 23363382A JP S59124038 A JPS59124038 A JP S59124038A
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- Japan
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- magnetic recording
- recording medium
- frequency
- glow discharge
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、金属薄膜型の磁気記録媒体の製造方法に関す
る・ 従来例の構成とその問題点 近年、高密度記録を進める上で、高分子基板上にＣ０Ｎ
ｉ系合金の面内磁化膜を配した媒体や、０ｏＯｒ系合金
等の垂直磁化膜を配した媒体の開発が強力に各方面で進
められている。
る・ 従来例の構成とその問題点 近年、高密度記録を進める上で、高分子基板上にＣ０Ｎ
ｉ系合金の面内磁化膜を配した媒体や、０ｏＯｒ系合金
等の垂直磁化膜を配した媒体の開発が強力に各方面で進
められている。
金属薄膜型磁気記録媒体を実現する上で、保磁力の制御
、飽和磁束密度の制御等戸同様に重要゛なのは、生産技
術面で、陶工な物性の媒体を大量に且つ再現良く得る技
術の改良である。
、飽和磁束密度の制御等戸同様に重要゛なのは、生産技
術面で、陶工な物性の媒体を大量に且つ再現良く得る技
術の改良である。
基本的には、巻取蒸着機を改良していく訳であるが、生
産技術面で一番深酷な問題は、これまでの巻取蒸着で利
用された蒸着金属が殆んどアルミニウムであシ、それに
比べて、磁気記録媒体の製造では、Ｇｏ 、 Ｎｉ 、
Ｆｅ等の高融点材料が蒸着の対象になるだめ、融点、
軟化点の低い高分子基板の熱破損を起さないように、確
実な冷却手段を開発する必要がある。
産技術面で一番深酷な問題は、これまでの巻取蒸着で利
用された蒸着金属が殆んどアルミニウムであシ、それに
比べて、磁気記録媒体の製造では、Ｇｏ 、 Ｎｉ 、
Ｆｅ等の高融点材料が蒸着の対象になるだめ、融点、
軟化点の低い高分子基板の熱破損を起さないように、確
実な冷却手段を開発する必要がある。
本発明者等は、既に静電引力による基板と回転支持体と
の間の密着状態の改良による冷却効果の増大をはかる方
法の有用性を提案した。
の間の密着状態の改良による冷却効果の増大をはかる方
法の有用性を提案した。
その後、かかる方法にもよシ改良を要する課題のあるこ
とが判明した。
とが判明した。
幅方向、長手方向について特性の均一性がロットによシ
得られないことがあシ、この傾向は基板の幅がよシ広く
なるにつれ、よシ長尺になるにつれ、より平滑な表面性
に訛るにつれ増大する。
得られないことがあシ、この傾向は基板の幅がよシ広く
なるにつれ、よシ長尺になるにつれ、より平滑な表面性
に訛るにつれ増大する。
発明の目的
長尺の媒体の均一性を確保し、ロット間の再現性の改良
された、金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法の提供を目
的とする。
された、金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法の提供を目
的とする。
発明の構成
本発明は基板に加速電子を注入し、磁性層を電子ビーム
蒸着するに先立ち、回転支持体に沿った高周波電極で基
板を高周波グロー放電処理することを要旨とするもので
ある。
蒸着するに先立ち、回転支持体に沿った高周波電極で基
板を高周波グロー放電処理することを要旨とするもので
ある。
高周波グロー放電処理を、回転支持体に沿った状態で行
うことの意義は後述する。
うことの意義は後述する。
本発明でいう回転支持体は、これまで最も多く使用され
てきた、円筒状の回転キャンであっても良いし、エンド
レスベルトマあってもいい。
てきた、円筒状の回転キャンであっても良いし、エンド
レスベルトマあってもいい。
高周波グロー放電処理と加速電子の注入は、前処理とみ
なせる処理で、蒸着に先立ち前処理の行われるのは公知
であるが、高周波グロー放電処理の次に加速電子を注入
する処理が行われることが重要であり、これ等の処理が
蒸着を受ける基板の支持、搬送の役目をする１つの回転
支持体に沿つて行われることが重要で、そこに発明の要
点があるのでａる。
なせる処理で、蒸着に先立ち前処理の行われるのは公知
であるが、高周波グロー放電処理の次に加速電子を注入
する処理が行われることが重要であり、これ等の処理が
蒸着を受ける基板の支持、搬送の役目をする１つの回転
支持体に沿つて行われることが重要で、そこに発明の要
点があるのでａる。
先ず、高周波グロー放電の有用性は、加速電子の注入効
果を均一たらしめることにある。
果を均一たらしめることにある。
高分子基板に、帯電した状態で加速電子を注入した時、
注入しようとする電子が反発されて同一量注入されない
ため、密着状態が局部的に劣化し時として基板の熱破損
につながるか、外見的には殆んど判別できなくても、ス
チルライフが極端に低い場所が生ずるなどの不都合が起
っていたが、本発明により、あらかじめ帯電が除かれる
だめ、均一に加速電子が注入されることで、前記した問
題が発生しない。
注入しようとする電子が反発されて同一量注入されない
ため、密着状態が局部的に劣化し時として基板の熱破損
につながるか、外見的には殆んど判別できなくても、ス
チルライフが極端に低い場所が生ずるなどの不都合が起
っていたが、本発明により、あらかじめ帯電が除かれる
だめ、均一に加速電子が注入されることで、前記した問
題が発生しない。
帯電除去目的のグローの種類として、高周波グロー放電
以外の他の公知のグロー処理が選ばれ得なかったのは、
異常放電が発生し易いためであって、本発明の対象とす
る厳しい均一性能要求に耐えないからである。
以外の他の公知のグロー処理が選ばれ得なかったのは、
異常放電が発生し易いためであって、本発明の対象とす
る厳しい均一性能要求に耐えないからである。
即ち異常放電により、帯電除去目的のグローによシ、逆
に帯電してしまうことが起るからである。
に帯電してしまうことが起るからである。
後述の実施例で明らかなように、高周波グロー放電は安
定であシ、前記した異常放電は起らないため、本発明の
効果のひとつをもたらしているといえる。
定であシ、前記した異常放電は起らないため、本発明の
効果のひとつをもたらしているといえる。
高周波グロー放電を、回転支持体に沿った状態で主とし
て起した時、他のグローの種類ではみられない、回転支
持体の周側面に沿って、′グロー放電を全体に及ぼすこ
とができるが、この現象は、蒸着過程に、荷電粒子の共
存する活性な蒸着を提供すると共に、蒸着後の基板が永
久帯電したことで起る不都合である、巻き取り時の過大
な張力を必要とする現象を、従来の巻き取シ蒸着と同様
に取り扱えるような帯電除去作用を行うことができる利
点も併せ持っている。
て起した時、他のグローの種類ではみられない、回転支
持体の周側面に沿って、′グロー放電を全体に及ぼすこ
とができるが、この現象は、蒸着過程に、荷電粒子の共
存する活性な蒸着を提供すると共に、蒸着後の基板が永
久帯電したことで起る不都合である、巻き取り時の過大
な張力を必要とする現象を、従来の巻き取シ蒸着と同様
に取り扱えるような帯電除去作用を行うことができる利
点も併せ持っている。
実施例の説明
前記した如き本発明の作用効果を具体化するために、第
１図で示した巻取蒸着装置により、面内磁化膜、垂直磁
化膜の両者の媒体の製造を試み、従来法にない、媒体の
製法としての効果を確かめた点について以下詳述する。
１図で示した巻取蒸着装置により、面内磁化膜、垂直磁
化膜の両者の媒体の製造を試み、従来法にない、媒体の
製法としての効果を確かめた点について以下詳述する。
勿論、本発明の実施のために用いられる装置′は第１図
の構成に限るものではないし、巻き取シ蒸着を実施する
上で不可欠であるが、本発明に直接関係しない要素につ
いては簡略化しである。
の構成に限るものではないし、巻き取シ蒸着を実施する
上で不可欠であるが、本発明に直接関係しない要素につ
いては簡略化しである。
高分子基板１は、回転支持体２に沿って移動し送シ出し
軸３より、巻取シ軸４に巻き取られるよう構成される。
軸３より、巻取シ軸４に巻き取られるよう構成される。
中間ローラー５を介して、回転支持体２に沿って入った
基板を、回転支持体２の周側面に沿って配設された高周
波電極６と、回転支持体２との間に絶縁導入端子７を介
して、整合回路８の調整により、高周波電源９より高周
波電界を発生させ、例えば、高周波電極６の図示せぬ支
持部より、放電ガス（例えば酸素、酸素とアルゴンの混
合気体等が利用される）を導入し、高周波グロー放電を
発生させる。
基板を、回転支持体２の周側面に沿って配設された高周
波電極６と、回転支持体２との間に絶縁導入端子７を介
して、整合回路８の調整により、高周波電源９より高周
波電界を発生させ、例えば、高周波電極６の図示せぬ支
持部より、放電ガス（例えば酸素、酸素とアルゴンの混
合気体等が利用される）を導入し、高周波グロー放電を
発生させる。
この時、ガス導入量の調節と、排気系の位置。
能力を含めての設計によシ、回転支持体２の周側面近傍
（全周に渡って）に、前記高周波電極６と対向した部分
よりは、はるかにプラズマ密度は小さいが、プラズマが
発生するように構成することができる。
（全周に渡って）に、前記高周波電極６と対向した部分
よりは、はるかにプラズマ密度は小さいが、プラズマが
発生するように構成することができる。
条件によシ若干異なるが、電極６の対向部分に比べて、
１／１０〜１／２０程度の電子、イオン密度であっても
、充分後述する効果は得られるものである。
１／１０〜１／２０程度の電子、イオン密度であっても
、充分後述する効果は得られるものである。
高周波グロー処理された基板へ、均一に電子線１０が照
射されるよう電子銃１１が配設される。
射されるよう電子銃１１が配設される。
加速電子のエネルギーは、基板の厚みにもよるが実用的
には、１６ＫＶ〜３０ＫＶが適している。更に高電圧で
あっても差し支えないが、真空放電の発生確率が、余シ
電圧を高くすると増大することから、主眼を、電子線の
均一照射におくべきである。
には、１６ＫＶ〜３０ＫＶが適している。更に高電圧で
あっても差し支えないが、真空放電の発生確率が、余シ
電圧を高くすると増大することから、主眼を、電子線の
均一照射におくべきである。
そのだめのひとつの方法は、電子線のスポット径を大き
くして、かつ、走査磁界によシ、基板の幅板上に、好ま
しくは基板の幅の２０係以上の幅となるように走査する
方法である。
くして、かつ、走査磁界によシ、基板の幅板上に、好ま
しくは基板の幅の２０係以上の幅となるように走査する
方法である。
この電子注入により、基板は静電引力により回転支持体
へ密着し、蒸着時に受ける熱を回転支持体に逃がし、高
分子基板を保護することが、微祝的にみても均一に行わ
れるようになる。
へ密着し、蒸着時に受ける熱を回転支持体に逃がし、高
分子基板を保護することが、微祝的にみても均一に行わ
れるようになる。
即ち、電子銃１２よシ発生する加速電子１３により、加
熱された蒸発源１４より放射される蒸気流によシ、基板
１上に所望の磁性層が形成される訳であるが、生産性を
向上させるために、蒸発源の温度はより高温に保持し、
大きい蒸発速度を得ることが工業的には行われるのであ
るが、そのために、基板の受ける輻射熱は極めて大きく
なシ、最も耐熱性の高い高分子として知られるポリイミ
ドフィルムでも、冷却に失敗したら（例えば電子注入を
０．１豊止めたら）瞬時に溶けてしまう程で、冷却が均
一に行われることの重要性が理解される。
熱された蒸発源１４より放射される蒸気流によシ、基板
１上に所望の磁性層が形成される訳であるが、生産性を
向上させるために、蒸発源の温度はより高温に保持し、
大きい蒸発速度を得ることが工業的には行われるのであ
るが、そのために、基板の受ける輻射熱は極めて大きく
なシ、最も耐熱性の高い高分子として知られるポリイミ
ドフィルムでも、冷却に失敗したら（例えば電子注入を
０．１豊止めたら）瞬時に溶けてしまう程で、冷却が均
一に行われることの重要性が理解される。
図面、では、斜め蒸着による磁気記録媒体の製造に用い
た場合が示されているが、垂直成分に近い蒸気流による
垂直磁化膜の製造も可能で、その場合、マスク１６が工
夫されるだけである。
た場合が示されているが、垂直成分に近い蒸気流による
垂直磁化膜の製造も可能で、その場合、マスク１６が工
夫されるだけである。
本発明によれば、蒸着を受ける所にも、前記した弱電離
気体（例えば酸素イオンを含む）が存在するため、結晶
粒子表面がち密な酸化膜でおおわれだ、耐久性の高い磁
性膜を得ることができる点にも特長がある。
気体（例えば酸素イオンを含む）が存在するため、結晶
粒子表面がち密な酸化膜でおおわれだ、耐久性の高い磁
性膜を得ることができる点にも特長がある。
又蒸着された基板は、中間ローラー１６を介して巻取シ
軸４で容易に巻取れる点は、前述した通シである。
軸４で容易に巻取れる点は、前述した通シである。
Ｂ室１９．Ｃ室２Ｑは夫々、独立した排気系２１゜２２
．２３を具備している。２４はかく壁である。
．２３を具備している。２４はかく壁である。
真空度の条件により、必ずしも前記した３室でなくても
よいし、この点は本発明の制約事項ではない。
よいし、この点は本発明の制約事項ではない。
〔実施例１〕
回転支持体の直径を１ｍとし、高周波電極は曲率半径５
３Ｃ７ｒＬで周長は８０ｃＴｔで、注入電子は２０ＫＶ
、 ０．１ ｎ１人／ｃ、ｆｔの条件に保持した。
３Ｃ７ｒＬで周長は８０ｃＴｔで、注入電子は２０ＫＶ
、 ０．１ ｎ１人／ｃ、ｆｔの条件に保持した。
高周波電極の支持部より酸素ガスを導入し、Ａ。
Ｂ、Ｇ室の真空度（酸素分圧）を変えて、第１表１の条
件で、磁気記録媒体を製造した。
件で、磁気記録媒体を製造した。
〔実施例２〕
実施例１と共通条件は導入ガスがアルゴンである点を除
いて同一とし、垂直−（入射角が１σ以内）入射により
、垂直磁気記録媒体を第２表の条件で製造した。
いて同一とし、垂直−（入射角が１σ以内）入射により
、垂直磁気記録媒体を第２表の条件で製造した。
（以下余 白）
発明の効果
第１表に基板の幅方向の位置で中央部と中央よシ、２０
α離れた位置での、１／４インチ幅のテープを選び、長
さ方向の位置１ ｏｏ、、１ 、１ ｏｏｏ、７１゜２
０００ｍ、３０ｏｏｍの位置で１ｍに渡ってＣ／Ｎを調
べると共に、３０’Ｃ９０係ＲＨのスチルライフを調べ
た。比較として、高周波グロー処理を行なわない場合を
掲げたＣ／Ｎの劣化している所は、顕微鏡観察によシ基
板の異常収縮が起っており、本発明品については全くそ
れはみられなかった。
α離れた位置での、１／４インチ幅のテープを選び、長
さ方向の位置１ ｏｏ、、１ 、１ ｏｏｏ、７１゜２
０００ｍ、３０ｏｏｍの位置で１ｍに渡ってＣ／Ｎを調
べると共に、３０’Ｃ９０係ＲＨのスチルライフを調べ
た。比較として、高周波グロー処理を行なわない場合を
掲げたＣ／Ｎの劣化している所は、顕微鏡観察によシ基
板の異常収縮が起っており、本発明品については全くそ
れはみられなかった。
従来例と比較して、生産性、スチルライフ共に優れてい
ることが第２表からも理解できる。
ることが第２表からも理解できる。
本発明は、他の多くの実施例に於ても有用性が確かめら
れた。
れた。
磁性材料の種類、高分子基板の種類によらず、本発明の
効果は著しいもので、短波長記録を実現する上で実用上
、極めて有用な発明である。
効果は著しいもので、短波長記録を実現する上で実用上
、極めて有用な発明である。
図面は本発明を実施するために用いた巻取蒸着装置の要
部断面構成図である。 １・・・・・・基板、２・・・・・・回転支持体、６・
・・・・高周波電極、１１・・・・・電子銃、１２・・
・・・・電子銃、１４・・・・・・蒸発源。
部断面構成図である。 １・・・・・・基板、２・・・・・・回転支持体、６・
・・・・高周波電極、１１・・・・・電子銃、１２・・
・・・・電子銃、１４・・・・・・蒸発源。
Claims (1)
- 回転支持体に沿って移動する高分子基板上に、電子ビー
ム蒸着にて磁性層を形成する方法であって、前記回転支
持体の周側面の一部に沿った高周波電極により、高周波
グロー放電処理した前記基板に、加速電子を注入した後
に蒸着することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23363382A JPS59124038A (ja) | 1982-12-29 | 1982-12-29 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23363382A JPS59124038A (ja) | 1982-12-29 | 1982-12-29 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59124038A true JPS59124038A (ja) | 1984-07-18 |
| JPH0334616B2 JPH0334616B2 (ja) | 1991-05-23 |
Family
ID=16958096
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23363382A Granted JPS59124038A (ja) | 1982-12-29 | 1982-12-29 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59124038A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6378337A (ja) * | 1986-09-19 | 1988-04-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPH0275338A (ja) * | 1988-09-09 | 1990-03-15 | Konica Corp | 磁気記録媒体の製造装置 |
| JPH02166280A (ja) * | 1988-12-21 | 1990-06-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | フイルムの温度処理方法 |
| JPH02247383A (ja) * | 1989-03-17 | 1990-10-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜の製造方法 |
| JPH0379763A (ja) * | 1989-08-21 | 1991-04-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 金属化フイルムの製造方法 |
| US5224441A (en) * | 1991-09-27 | 1993-07-06 | The Boc Group, Inc. | Apparatus for rapid plasma treatments and method |
| US5254169A (en) * | 1992-03-10 | 1993-10-19 | Leybold Aktiengesellschaft | High-vacuum coating apparatus |
-
1982
- 1982-12-29 JP JP23363382A patent/JPS59124038A/ja active Granted
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6378337A (ja) * | 1986-09-19 | 1988-04-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPH0275338A (ja) * | 1988-09-09 | 1990-03-15 | Konica Corp | 磁気記録媒体の製造装置 |
| JPH02166280A (ja) * | 1988-12-21 | 1990-06-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | フイルムの温度処理方法 |
| JPH02247383A (ja) * | 1989-03-17 | 1990-10-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜の製造方法 |
| JPH089782B2 (ja) * | 1989-03-17 | 1996-01-31 | 松下電器産業株式会社 | 薄膜の製造方法 |
| JPH0379763A (ja) * | 1989-08-21 | 1991-04-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 金属化フイルムの製造方法 |
| US5224441A (en) * | 1991-09-27 | 1993-07-06 | The Boc Group, Inc. | Apparatus for rapid plasma treatments and method |
| US5254169A (en) * | 1992-03-10 | 1993-10-19 | Leybold Aktiengesellschaft | High-vacuum coating apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0334616B2 (ja) | 1991-05-23 |
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