JPS5911679B2 - ニツケル−クロム合金メツキ方法 - Google Patents
ニツケル−クロム合金メツキ方法Info
- Publication number
- JPS5911679B2 JPS5911679B2 JP12900780A JP12900780A JPS5911679B2 JP S5911679 B2 JPS5911679 B2 JP S5911679B2 JP 12900780 A JP12900780 A JP 12900780A JP 12900780 A JP12900780 A JP 12900780A JP S5911679 B2 JPS5911679 B2 JP S5911679B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- nickel
- plating
- current density
- chromium alloy
- chromium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はニッケル−クロム合金の電気メッキ方法に関し
、特に例えば耐熱合金に対して厚いニッケル−クロム被
膜を与えて耐食性を持たせるようにするメッキ方法に関
する。
、特に例えば耐熱合金に対して厚いニッケル−クロム被
膜を与えて耐食性を持たせるようにするメッキ方法に関
する。
高温におけるバナジウムアタックに対しては、ニッケル
−クロム合金が有効であることは公知であるが、該合金
は加工性が劣る等の欠点を有するので、耐熱金属の表面
にニッケル−クロム合金層を被覆する方法を考えるべき
である。
−クロム合金が有効であることは公知であるが、該合金
は加工性が劣る等の欠点を有するので、耐熱金属の表面
にニッケル−クロム合金層を被覆する方法を考えるべき
である。
被覆方法としては、溶射法と電気メッキ法が考えられる
。溶射法は母材との密着性が悪いことや、ク？ツクが多
い等の欠点を持つている。一方電気メッキ法によりニッ
ケル−クロム合金を被覆することを試みると、電気析出
したニッケル−クロム合金は非常に内部応力が大きい利
点を有する代りに、厚メッキを施すとクラックが入り、
もろいメッキ層となる欠点を有している。本発明は上記
欠点を除去し、密着性が良くしかもクラックのない厚ニ
ッケル−クロム合金層を得ることのできる電気メッキ方
法を提供するもので５ ある。
。溶射法は母材との密着性が悪いことや、ク？ツクが多
い等の欠点を持つている。一方電気メッキ法によりニッ
ケル−クロム合金を被覆することを試みると、電気析出
したニッケル−クロム合金は非常に内部応力が大きい利
点を有する代りに、厚メッキを施すとクラックが入り、
もろいメッキ層となる欠点を有している。本発明は上記
欠点を除去し、密着性が良くしかもクラックのない厚ニ
ッケル−クロム合金層を得ることのできる電気メッキ方
法を提供するもので５ ある。
以下本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
溶液中のＮｉ２＋とＣｒ３＋が電気化学的に還元されて
金属のニッケルとクロムが析出される電位はＮｉ２＋の
方がＣｒ３＋より約０．１貴にある。従つ１０てＮｉ２
＋とＣｒ３＋の混合溶液からメッキを行なう場合には、
ニッケルの方がクロムより析出し易いが、電流密度およ
び溶液中のＮｉ２＋とＣｒ３＋の濃度を適当に選定する
と、任意の組成のニッケル−クロム合金層を析出させる
ことが可能となる。こ１５こで溶液中のＮｉ２＋とＣｒ
３＋濃度が決まつているとき、電流密度をｏから徐々に
増加していくと、ニッケルが最初単独に析出される。こ
のニッケルメッキ層は下地との密着性のよい内部応力の
低いメッキである。更に電流密度を増加していき、あ２
０る電流密度（Ｉｔとする）を越えるとニッケルとクロ
ムの合金が析出されるようになる。この合金は内部応力
が高くクラックが入り易い性質を有している。勿論この
Ｉｔは溶液中のＮｉ２＋とＣｒ３＋の濃度により異なる
が、通常のメッキ液組成では２５５〜１０Ａ／ｄｍ″で
ある。本発明の特徴は、母材を脱脂、酸洗い等の前処理
をした後に、Ｎｉ２＋とＣｒ３＋の混合溶液中で、例え
ば第１回目のメッキとしてＩｔ以下の低電流密度でメッ
キを行ない、第２回目のメッキとして３０Ｉｔ以上の高
電流密度でメッキを行なうというように、交互に電流密
度を変えてメッキを行ない、内部応力の低いニッケル層
と内部応力の高いニッケル−クロム合金層を交互に析出
させることによつて厚メッキを行なう点にある。
金属のニッケルとクロムが析出される電位はＮｉ２＋の
方がＣｒ３＋より約０．１貴にある。従つ１０てＮｉ２
＋とＣｒ３＋の混合溶液からメッキを行なう場合には、
ニッケルの方がクロムより析出し易いが、電流密度およ
び溶液中のＮｉ２＋とＣｒ３＋の濃度を適当に選定する
と、任意の組成のニッケル−クロム合金層を析出させる
ことが可能となる。こ１５こで溶液中のＮｉ２＋とＣｒ
３＋濃度が決まつているとき、電流密度をｏから徐々に
増加していくと、ニッケルが最初単独に析出される。こ
のニッケルメッキ層は下地との密着性のよい内部応力の
低いメッキである。更に電流密度を増加していき、あ２
０る電流密度（Ｉｔとする）を越えるとニッケルとクロ
ムの合金が析出されるようになる。この合金は内部応力
が高くクラックが入り易い性質を有している。勿論この
Ｉｔは溶液中のＮｉ２＋とＣｒ３＋の濃度により異なる
が、通常のメッキ液組成では２５５〜１０Ａ／ｄｍ″で
ある。本発明の特徴は、母材を脱脂、酸洗い等の前処理
をした後に、Ｎｉ２＋とＣｒ３＋の混合溶液中で、例え
ば第１回目のメッキとしてＩｔ以下の低電流密度でメッ
キを行ない、第２回目のメッキとして３０Ｉｔ以上の高
電流密度でメッキを行なうというように、交互に電流密
度を変えてメッキを行ない、内部応力の低いニッケル層
と内部応力の高いニッケル−クロム合金層を交互に析出
させることによつて厚メッキを行なう点にある。
３５そこで本発明では低電流密度領域を１〜１０Ａ／ｄ
７７Ｚ’に、高電流密度領域を５〜４０Ａ／ｄ７ＦＩ’
に設定する。
７７Ｚ’に、高電流密度領域を５〜４０Ａ／ｄ７ＦＩ’
に設定する。
これは低電流密度領域において、１りＡウーＡ／ｄイ未
満では、ニツケルメツキ層の電着速度が低すぎるので、
メツキ時間を非常に多く必要とし、また１０Ａ／ｄイを
越えると、ニツケルメツキ層にクラツクが入つたり、ピ
ンホールが生じたりするので、ニツケルークロム合金メ
ツキ層をつなぐためのニツケルメツキとしては１〜１０
Ａ／ｄイが適当な電流密度範囲となるからである。
満では、ニツケルメツキ層の電着速度が低すぎるので、
メツキ時間を非常に多く必要とし、また１０Ａ／ｄイを
越えると、ニツケルメツキ層にクラツクが入つたり、ピ
ンホールが生じたりするので、ニツケルークロム合金メ
ツキ層をつなぐためのニツケルメツキとしては１〜１０
Ａ／ｄイが適当な電流密度範囲となるからである。
また高電流密度領域において、５Ａ／ｄイ未満では溶液
中のＣｒ３＋が高濃度である場合でもクロムが析出せず
、また４０Ａ／ｄイを越えると、Ｃｒ３＋の拡散限界電
流密度以上になり、電着速度が飽和になるからである。
なお１回目のメツキを１〜１０Ａ／ｄイの低電流密度で
行なえば、母材との密着性は非常によくなる。さらに低
電流密度でのメツキと高電流密度でのメツキを行なう場
合の１周期の時間としては０〜２００分とするのがよい
。
中のＣｒ３＋が高濃度である場合でもクロムが析出せず
、また４０Ａ／ｄイを越えると、Ｃｒ３＋の拡散限界電
流密度以上になり、電着速度が飽和になるからである。
なお１回目のメツキを１〜１０Ａ／ｄイの低電流密度で
行なえば、母材との密着性は非常によくなる。さらに低
電流密度でのメツキと高電流密度でのメツキを行なう場
合の１周期の時間としては０〜２００分とするのがよい
。
これは、高電流密度で２００分を越えてメツキすると、
ニツケルークロム合金層が厚くなつてクラツクが入るか
らである。次に本発明の具体的な実施例を示す。５母材
の前処理 市販の脱脂剤で脱脂した後、１０％Ｈ２ＳＯ４中で酸洗
いを行なつた。
ニツケルークロム合金層が厚くなつてクラツクが入るか
らである。次に本発明の具体的な実施例を示す。５母材
の前処理 市販の脱脂剤で脱脂した後、１０％Ｈ２ＳＯ４中で酸洗
いを行なつた。
６電解条件
下記のように低電流密度と高電流密度のメツキを１時間
ごとに繰り返し、合計８時間のメツキを行なつた。
ごとに繰り返し、合計８時間のメツキを行なつた。
上記実施例で調製された試料の断面のＳＥＭ像を観察し
たところ、第１図に示すように、母材に密着してクラツ
クのないメツキ層が見られた。
たところ、第１図に示すように、母材に密着してクラツ
クのないメツキ層が見られた。
第１図で１は母材、２はニツケルメツキ層、３はニツケ
ルークロム合金メツキ層を示し、ニツケルメツキ層２お
よびニツケルークロム合金メツキ層３はそれぞれ２μｍ
および１０μｍであつた。次に比較例として上記実施例
のうち１〜５までを同じにし、母材の前処理後ＦｌＣ．
２ＯＡ／Ｄｗｌで６時間メツキを行なつて試料を調製し
た。この試料の断面のＳＥＭ像を観察したところ、メツ
キ層にクラツクが入り、母材から剥離しているのが見ら
れた。第２図はこの状態のメツキ層を示し、１１は母材
、１２はニツケルークロム合金メツキ層である。以上本
発明によれば、母材に内部応力の低いニツケルメツキ層
と内部応力の高いニツケルークロム合金メツキ層を交互
に析出させるので、クラツクのない状態で厚メツキを施
すことができ、さらに母材への密着性を良くできるもの
であり、しかも同一メツキ溶液中で単に電流密度を変え
るという操作のみで厚メツキができるので、工程が極め
て単純になる利点を有する。
ルークロム合金メツキ層を示し、ニツケルメツキ層２お
よびニツケルークロム合金メツキ層３はそれぞれ２μｍ
および１０μｍであつた。次に比較例として上記実施例
のうち１〜５までを同じにし、母材の前処理後ＦｌＣ．
２ＯＡ／Ｄｗｌで６時間メツキを行なつて試料を調製し
た。この試料の断面のＳＥＭ像を観察したところ、メツ
キ層にクラツクが入り、母材から剥離しているのが見ら
れた。第２図はこの状態のメツキ層を示し、１１は母材
、１２はニツケルークロム合金メツキ層である。以上本
発明によれば、母材に内部応力の低いニツケルメツキ層
と内部応力の高いニツケルークロム合金メツキ層を交互
に析出させるので、クラツクのない状態で厚メツキを施
すことができ、さらに母材への密着性を良くできるもの
であり、しかも同一メツキ溶液中で単に電流密度を変え
るという操作のみで厚メツキができるので、工程が極め
て単純になる利点を有する。
第１図は本発明の一実施例によるメツキ層の拡大断面図
、第２図は比較例によるメツキ層の拡大断面図である。 １・・・・・・母材、２・・・・・・ニツケルメツキ層
、３・・・・・・ニツケルークロム合金メツキ層。
、第２図は比較例によるメツキ層の拡大断面図である。 １・・・・・・母材、２・・・・・・ニツケルメツキ層
、３・・・・・・ニツケルークロム合金メツキ層。
Claims (1)
- １ ＮｉイオンとＣｒイオンとを含む混合溶液中で電気
メッキを行ない、ニッケル−クロム合金層を得る際に、
低電流密度によるメッキと高電流密度によるメッキとを
交互に行ない、厚いニッケル−クロム合金層を得ること
を特徴とするニッケル−クロム合金メッキ方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12900780A JPS5911679B2 (ja) | 1980-09-16 | 1980-09-16 | ニツケル−クロム合金メツキ方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12900780A JPS5911679B2 (ja) | 1980-09-16 | 1980-09-16 | ニツケル−クロム合金メツキ方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5754295A JPS5754295A (ja) | 1982-03-31 |
| JPS5911679B2 true JPS5911679B2 (ja) | 1984-03-16 |
Family
ID=14998846
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12900780A Expired JPS5911679B2 (ja) | 1980-09-16 | 1980-09-16 | ニツケル−クロム合金メツキ方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5911679B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0331865U (ja) * | 1989-08-08 | 1991-03-28 | ||
| CN106929888A (zh) * | 2017-05-03 | 2017-07-07 | 上海电力学院 | 一种层状复合纳米结构镍的制备方法 |
-
1980
- 1980-09-16 JP JP12900780A patent/JPS5911679B2/ja not_active Expired
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0331865U (ja) * | 1989-08-08 | 1991-03-28 | ||
| CN106929888A (zh) * | 2017-05-03 | 2017-07-07 | 上海电力学院 | 一种层状复合纳米结构镍的制备方法 |
| CN106929888B (zh) * | 2017-05-03 | 2018-12-14 | 上海电力学院 | 一种层状复合纳米结构镍的制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5754295A (ja) | 1982-03-31 |
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