JPS5911679B2 - ニツケル−クロム合金メツキ方法 - Google Patents
ニツケル−クロム合金メツキ方法Info
- Publication number
- JPS5911679B2 JPS5911679B2 JP12900780A JP12900780A JPS5911679B2 JP S5911679 B2 JPS5911679 B2 JP S5911679B2 JP 12900780 A JP12900780 A JP 12900780A JP 12900780 A JP12900780 A JP 12900780A JP S5911679 B2 JPS5911679 B2 JP S5911679B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- nickel
- plating
- current density
- chromium alloy
- chromium
- Prior art date
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- Expired
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- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はニッケル−クロム合金の電気メッキ方法に関し
、特に例えば耐熱合金に対して厚いニッケル−クロム被
膜を与えて耐食性を持たせるようにするメッキ方法に関
する。
、特に例えば耐熱合金に対して厚いニッケル−クロム被
膜を与えて耐食性を持たせるようにするメッキ方法に関
する。
高温におけるバナジウムアタックに対しては、ニッケル
−クロム合金が有効であることは公知であるが、該合金
は加工性が劣る等の欠点を有するので、耐熱金属の表面
にニッケル−クロム合金層を被覆する方法を考えるべき
である。
−クロム合金が有効であることは公知であるが、該合金
は加工性が劣る等の欠点を有するので、耐熱金属の表面
にニッケル−クロム合金層を被覆する方法を考えるべき
である。
被覆方法としては、溶射法と電気メッキ法が考えられる
。溶射法は母材との密着性が悪いことや、ク?ツクが多
い等の欠点を持つている。一方電気メッキ法によりニッ
ケル−クロム合金を被覆することを試みると、電気析出
したニッケル−クロム合金は非常に内部応力が大きい利
点を有する代りに、厚メッキを施すとクラックが入り、
もろいメッキ層となる欠点を有している。本発明は上記
欠点を除去し、密着性が良くしかもクラックのない厚ニ
ッケル−クロム合金層を得ることのできる電気メッキ方
法を提供するもので5 ある。
。溶射法は母材との密着性が悪いことや、ク?ツクが多
い等の欠点を持つている。一方電気メッキ法によりニッ
ケル−クロム合金を被覆することを試みると、電気析出
したニッケル−クロム合金は非常に内部応力が大きい利
点を有する代りに、厚メッキを施すとクラックが入り、
もろいメッキ層となる欠点を有している。本発明は上記
欠点を除去し、密着性が良くしかもクラックのない厚ニ
ッケル−クロム合金層を得ることのできる電気メッキ方
法を提供するもので5 ある。
以下本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
溶液中のNi2+とCr3+が電気化学的に還元されて
金属のニッケルとクロムが析出される電位はNi2+の
方がCr3+より約0.1貴にある。従つ10てNi2
+とCr3+の混合溶液からメッキを行なう場合には、
ニッケルの方がクロムより析出し易いが、電流密度およ
び溶液中のNi2+とCr3+の濃度を適当に選定する
と、任意の組成のニッケル−クロム合金層を析出させる
ことが可能となる。こ15こで溶液中のNi2+とCr
3+濃度が決まつているとき、電流密度をoから徐々に
増加していくと、ニッケルが最初単独に析出される。こ
のニッケルメッキ層は下地との密着性のよい内部応力の
低いメッキである。更に電流密度を増加していき、あ2
0る電流密度(Itとする)を越えるとニッケルとクロ
ムの合金が析出されるようになる。この合金は内部応力
が高くクラックが入り易い性質を有している。勿論この
Itは溶液中のNi2+とCr3+の濃度により異なる
が、通常のメッキ液組成では255〜10A/dm″で
ある。本発明の特徴は、母材を脱脂、酸洗い等の前処理
をした後に、Ni2+とCr3+の混合溶液中で、例え
ば第1回目のメッキとしてIt以下の低電流密度でメッ
キを行ない、第2回目のメッキとして30It以上の高
電流密度でメッキを行なうというように、交互に電流密
度を変えてメッキを行ない、内部応力の低いニッケル層
と内部応力の高いニッケル−クロム合金層を交互に析出
させることによつて厚メッキを行なう点にある。
金属のニッケルとクロムが析出される電位はNi2+の
方がCr3+より約0.1貴にある。従つ10てNi2
+とCr3+の混合溶液からメッキを行なう場合には、
ニッケルの方がクロムより析出し易いが、電流密度およ
び溶液中のNi2+とCr3+の濃度を適当に選定する
と、任意の組成のニッケル−クロム合金層を析出させる
ことが可能となる。こ15こで溶液中のNi2+とCr
3+濃度が決まつているとき、電流密度をoから徐々に
増加していくと、ニッケルが最初単独に析出される。こ
のニッケルメッキ層は下地との密着性のよい内部応力の
低いメッキである。更に電流密度を増加していき、あ2
0る電流密度(Itとする)を越えるとニッケルとクロ
ムの合金が析出されるようになる。この合金は内部応力
が高くクラックが入り易い性質を有している。勿論この
Itは溶液中のNi2+とCr3+の濃度により異なる
が、通常のメッキ液組成では255〜10A/dm″で
ある。本発明の特徴は、母材を脱脂、酸洗い等の前処理
をした後に、Ni2+とCr3+の混合溶液中で、例え
ば第1回目のメッキとしてIt以下の低電流密度でメッ
キを行ない、第2回目のメッキとして30It以上の高
電流密度でメッキを行なうというように、交互に電流密
度を変えてメッキを行ない、内部応力の低いニッケル層
と内部応力の高いニッケル−クロム合金層を交互に析出
させることによつて厚メッキを行なう点にある。
35そこで本発明では低電流密度領域を1〜10A/d
77Z’に、高電流密度領域を5〜40A/d7FI’
に設定する。
77Z’に、高電流密度領域を5〜40A/d7FI’
に設定する。
これは低電流密度領域において、1りAウーA/dイ未
満では、ニツケルメツキ層の電着速度が低すぎるので、
メツキ時間を非常に多く必要とし、また10A/dイを
越えると、ニツケルメツキ層にクラツクが入つたり、ピ
ンホールが生じたりするので、ニツケルークロム合金メ
ツキ層をつなぐためのニツケルメツキとしては1〜10
A/dイが適当な電流密度範囲となるからである。
満では、ニツケルメツキ層の電着速度が低すぎるので、
メツキ時間を非常に多く必要とし、また10A/dイを
越えると、ニツケルメツキ層にクラツクが入つたり、ピ
ンホールが生じたりするので、ニツケルークロム合金メ
ツキ層をつなぐためのニツケルメツキとしては1〜10
A/dイが適当な電流密度範囲となるからである。
また高電流密度領域において、5A/dイ未満では溶液
中のCr3+が高濃度である場合でもクロムが析出せず
、また40A/dイを越えると、Cr3+の拡散限界電
流密度以上になり、電着速度が飽和になるからである。
なお1回目のメツキを1〜10A/dイの低電流密度で
行なえば、母材との密着性は非常によくなる。さらに低
電流密度でのメツキと高電流密度でのメツキを行なう場
合の1周期の時間としては0〜200分とするのがよい
。
中のCr3+が高濃度である場合でもクロムが析出せず
、また40A/dイを越えると、Cr3+の拡散限界電
流密度以上になり、電着速度が飽和になるからである。
なお1回目のメツキを1〜10A/dイの低電流密度で
行なえば、母材との密着性は非常によくなる。さらに低
電流密度でのメツキと高電流密度でのメツキを行なう場
合の1周期の時間としては0〜200分とするのがよい
。
これは、高電流密度で200分を越えてメツキすると、
ニツケルークロム合金層が厚くなつてクラツクが入るか
らである。次に本発明の具体的な実施例を示す。5母材
の前処理 市販の脱脂剤で脱脂した後、10%H2SO4中で酸洗
いを行なつた。
ニツケルークロム合金層が厚くなつてクラツクが入るか
らである。次に本発明の具体的な実施例を示す。5母材
の前処理 市販の脱脂剤で脱脂した後、10%H2SO4中で酸洗
いを行なつた。
6電解条件
下記のように低電流密度と高電流密度のメツキを1時間
ごとに繰り返し、合計8時間のメツキを行なつた。
ごとに繰り返し、合計8時間のメツキを行なつた。
上記実施例で調製された試料の断面のSEM像を観察し
たところ、第1図に示すように、母材に密着してクラツ
クのないメツキ層が見られた。
たところ、第1図に示すように、母材に密着してクラツ
クのないメツキ層が見られた。
第1図で1は母材、2はニツケルメツキ層、3はニツケ
ルークロム合金メツキ層を示し、ニツケルメツキ層2お
よびニツケルークロム合金メツキ層3はそれぞれ2μm
および10μmであつた。次に比較例として上記実施例
のうち1〜5までを同じにし、母材の前処理後FlC.
2OA/Dwlで6時間メツキを行なつて試料を調製し
た。この試料の断面のSEM像を観察したところ、メツ
キ層にクラツクが入り、母材から剥離しているのが見ら
れた。第2図はこの状態のメツキ層を示し、11は母材
、12はニツケルークロム合金メツキ層である。以上本
発明によれば、母材に内部応力の低いニツケルメツキ層
と内部応力の高いニツケルークロム合金メツキ層を交互
に析出させるので、クラツクのない状態で厚メツキを施
すことができ、さらに母材への密着性を良くできるもの
であり、しかも同一メツキ溶液中で単に電流密度を変え
るという操作のみで厚メツキができるので、工程が極め
て単純になる利点を有する。
ルークロム合金メツキ層を示し、ニツケルメツキ層2お
よびニツケルークロム合金メツキ層3はそれぞれ2μm
および10μmであつた。次に比較例として上記実施例
のうち1〜5までを同じにし、母材の前処理後FlC.
2OA/Dwlで6時間メツキを行なつて試料を調製し
た。この試料の断面のSEM像を観察したところ、メツ
キ層にクラツクが入り、母材から剥離しているのが見ら
れた。第2図はこの状態のメツキ層を示し、11は母材
、12はニツケルークロム合金メツキ層である。以上本
発明によれば、母材に内部応力の低いニツケルメツキ層
と内部応力の高いニツケルークロム合金メツキ層を交互
に析出させるので、クラツクのない状態で厚メツキを施
すことができ、さらに母材への密着性を良くできるもの
であり、しかも同一メツキ溶液中で単に電流密度を変え
るという操作のみで厚メツキができるので、工程が極め
て単純になる利点を有する。
第1図は本発明の一実施例によるメツキ層の拡大断面図
、第2図は比較例によるメツキ層の拡大断面図である。 1・・・・・・母材、2・・・・・・ニツケルメツキ層
、3・・・・・・ニツケルークロム合金メツキ層。
、第2図は比較例によるメツキ層の拡大断面図である。 1・・・・・・母材、2・・・・・・ニツケルメツキ層
、3・・・・・・ニツケルークロム合金メツキ層。
Claims (1)
- 1 NiイオンとCrイオンとを含む混合溶液中で電気
メッキを行ない、ニッケル−クロム合金層を得る際に、
低電流密度によるメッキと高電流密度によるメッキとを
交互に行ない、厚いニッケル−クロム合金層を得ること
を特徴とするニッケル−クロム合金メッキ方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12900780A JPS5911679B2 (ja) | 1980-09-16 | 1980-09-16 | ニツケル−クロム合金メツキ方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12900780A JPS5911679B2 (ja) | 1980-09-16 | 1980-09-16 | ニツケル−クロム合金メツキ方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5754295A JPS5754295A (ja) | 1982-03-31 |
JPS5911679B2 true JPS5911679B2 (ja) | 1984-03-16 |
Family
ID=14998846
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12900780A Expired JPS5911679B2 (ja) | 1980-09-16 | 1980-09-16 | ニツケル−クロム合金メツキ方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5911679B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0331865U (ja) * | 1989-08-08 | 1991-03-28 | ||
CN106929888A (zh) * | 2017-05-03 | 2017-07-07 | 上海电力学院 | 一种层状复合纳米结构镍的制备方法 |
-
1980
- 1980-09-16 JP JP12900780A patent/JPS5911679B2/ja not_active Expired
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0331865U (ja) * | 1989-08-08 | 1991-03-28 | ||
CN106929888A (zh) * | 2017-05-03 | 2017-07-07 | 上海电力学院 | 一种层状复合纳米结构镍的制备方法 |
CN106929888B (zh) * | 2017-05-03 | 2018-12-14 | 上海电力学院 | 一种层状复合纳米结构镍的制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5754295A (ja) | 1982-03-31 |
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