JPS59107074A - 真空装置の温度制御装置 - Google Patents

真空装置の温度制御装置

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JPS59107074A
JPS59107074A JP21665982A JP21665982A JPS59107074A JP S59107074 A JPS59107074 A JP S59107074A JP 21665982 A JP21665982 A JP 21665982A JP 21665982 A JP21665982 A JP 21665982A JP S59107074 A JPS59107074 A JP S59107074A
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JP
Japan
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heat medium
medium
mandrel
heat
sealed
Prior art date
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Pending
Application number
JP21665982A
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English (en)
Inventor
Ryohei Shintani
新谷 量平
Shinichi Miura
真一 三浦
Rikio Aozuka
青塚 力夫
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Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS59107074A publication Critical patent/JPS59107074A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/54Controlling or regulating the coating process
    • C23C14/541Heating or cooling of the substrates

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (技術分野) 本発明は、真空装置の温度制御装置に関し、より詳細に
は、真空蒸着装置等に適用し得る真空装置の温度制御装
置に関するものである。
(従来技術) 複写機等に用いられる感光体の表面は、例えば、真空蒸
治法によって感光材料が蒸着形成されるようになってい
る。このような蒸雁を行なう真空装着装置は、例えば、
真空槽を形成するベルンセーや、このベルンヤー内を回
転用能に設けられ、感光体等の被蒸着体を取り付ける密
封容器としてのマンドレルや、ペルジャー内の下位に配
設される蒸着ルツボ等から主に構成されていて、密封容
器内に被凝縮性ガスを取り除いた状態で封入された、ジ
フェニール等の熱媒体を昇温気化させることによシ、密
封容器をブrして、被蒸着体を均一に加熱し、この状態
で、蒸着ルツボから蒸発させた感光材料を被蒸着付表面
に蒸着させるものである。
ところで、このような真空装N装置においては、蒸着后
蒸N層の均質化を図ることや、次の蒸着に備えるために
、マンドレルを冷却することが行なわれており、このよ
うな冷却手段を含む真空蒸着装置が、従来、例えば、実
願昭57−129802号において提案されている。
この−従来例は、マンドレルに導管をプrして冷却筒を
連接し/ヒ上、この冷却筒をベルツヤ−外部に露呈せし
め、この冷却筒を直接、水冷または空冷するようにした
ものであり、マンドレルおよび被蒸着体の冷却は、冷却
筒からの熱伝導によって行なわれている。
しかし乍ら、この方式では、マンドレルや被蒸着体を効
果的に冷却することは理論的にはできるようKなってい
るが、実用上は熱伝導による熱移!v1−litが、マ
ンドレル等の部分の熱蓄積量と比較して相対的に少ない
ため、さほどの冷却効果を期待することができないもの
となっている。
従って、このような従来例のものでは、冷却に長い時間
を必要することになり、このため、蒸着を行なうだめの
段取9作業に多くの時間を必要とすることで、生産性が
低下したり、あるいは、蒸着層を均質化することが困難
であるなどの問題があった。
(発明の目的) 本発明は、斜上の点に鑑みなされた、冷却効果にすぐれ
た機能を発揮する、真空装置の温度制御装置を提供する
ことを目的とする。
(発明の構成) 本発明の構成について、以下、1実施例に基づいて説明
する。
第1図は、本発明1実施例装置を示していて、符号1は
真空槽2を形成するペルジャーを、3は真空槽2内にお
いて気密保持された密封容器としてのマンドレルを、4
は真空槽2内の下位に配設された蒸着ルツボをそれぞれ
示すものである。
こCで、マンドレル3に所定の間隙をもって貫挿された
筒状の被蒸着体5への蒸着物の蒸着は、次のようにして
行なわれるようになっている。
マンドレル3は、これと一体連接された筒状回転軸6と
共に、駆動ギア7により、軸受8,8に支持されて回転
駆動されるよう[なっている。fRJち、マンドレル3
は被蒸着体5と共に真空槽2内を回転する。
マンドレル3内には、7フエニール等の第1の熱媒体1
1が空気等の非凝縮性ガスを取除いた状態で封入されて
いる。また、マンドレル3の、駆10熱媒体]】(i′
−含む密封空間3Aには、この空間に対し気密保持きれ
た密封発熱体13が第2図に示す如く円周方向に4箇、
配設されている。そして、この密封発熱体J3はヒータ
13Aと、これを被うヒータ保護管13Bとから構成さ
れている。
密封発熱体13から熱供給を受けた第]の熱媒体11は
、脱気されたマンドレル3内で気化して、所謂、ヒート
ポンプ作用により、低温部から高温部へと移動し、マン
ドレル30表面を各所均一に加熱する。
これにより、被蒸着体5も均一に加熱され、こノ状?に
て、蒸着ルツボ4から蒸発した感光材料等の蒸着物14
は被蒸着体5にむらなく蒸着し、この被蒸着体5は例え
ば複写機等の感光体ドラムとして構成される。
とCろで、このような真空蒸着装置において、晶温で蒸
着を完了した被蒸着体5を、マンドレル3と共に、蒸着
層を冷却することや、次の蒸着に備えることを目的とし
て、冷却する必要がある。
ここで、第1図において、マンドレル3の、第1の熱媒
体11を含む密封空間3Aには、この空間3AV!#1
し気密保持づれたパイズ状の容器15が設けられ、この
容器15と、この内部に設けたパイプJ6とで、次に述
べるような冷却用循環路を構成している。
即ち、容器15はパイプ16と共に、右方のロータリー
ジヨイント17に連接されていて、先ず、バルブ18お
よびロータリージヨイント】7を介して、第2の熱媒体
の一例である水12(第2図参照)がパイプ状容器へ流
入し、かつ、この流入した水は、孔16Aを弁して、パ
イプ状容器15の内壁へ回けて水流として噴射されるよ
うになっている。
このような水流噴射は、冷媒としての水が気化する際の
潜熱を奪う機能を達成することにな9、効率良く、大容
量の熱移動を行なわせることができる。即ち、第jの熱
媒体月の系と、第2の熱媒体12(第2図参照)の系と
の間で相互に熱交換が行なわれ、マンドレル3を含む被
蒸治体5を、効率良く、短時間に冷却せしめることがで
きる。従って、蒸着のだめの段取り時間は短縮化きれ、
生産性も向上することになる。
なお、気化後の蒸気および残留熱媒体は、パイプ状谷器
15内′ff曲り、排出パイプ19を経て外部へ放出さ
れる。このように、容器15やパイプ】6は第2の熱媒
体流人出用の冷却用循環路を構成するのである。
なお、パイプ〕6からの水噴流は、できるだけ噴霧状態
とする方が好ましく、冷却効星は富くなる。
また、噴流を作るノスルロ径16Aとしては、径が小さ
く、また、その数が多し)いオ呈、7令去P咬刀果は高
められる。しかし乍ら、ノスルロ径を小さくすると、噴
出時、あるいは、管内流動時、液体の移動抵抗が大きく
なるため、この点に対処すべく、パイプ16へ流入する
液体に所定の圧力を印加するようにしでもよい。
高圧で効率良く水等を送り込めば、冷却のりδ熱移!i
lI量が大となるため、素早く被蒸着体を冷却すること
ができ、また、水等の給送を低圧にするか、あるいは、
断続的にすれば、冷却を緩やかな速度で行なうことがで
きる。つまり、冷却の遅速を制御できることになシ、冷
却速度栄件によって決定される、例えばセレン系感光体
等の感度を適正なものに設定することができる。
なお、第2の熱媒体として、水道水を用いてこnを実験
に供したところ、水道水の水圧程度で、かつ、ノスルロ
径を5%程度として、水の粘性抵抗および管摩擦抵抗を
考慮しても、充分、水蒸気化による急速冷却効果を確認
することができた。
第3図は、本発明装置の別の実施例を示していて、密封
容器としてのマンドレル21内には、第1の熱媒体11
が封入せられ、この熱媒体11は、ヒータ22を内装し
た密閉発熱体23により、昇温せしめられるようになっ
ている。
一方、マンドレル21内の密封空間には、この空間に対
し気密保持きれた外バイブ24が設けられていて、さら
に、この内部には内バイブ25が設けられている。なお
、図に示す装置は、前の実施例と同様に、真空槽内を回
転し得るようVCなっていて、かつ、マンドレル21に
は筒状の被蒸着体が貫挿されるようになっている。
この実施例は、前記実施例の噴流式とは違って、水等の
第2の熱媒体が内パイプ25へ流入し、かつ、この流入
した熱媒体が外パイプ24を曲して外部へ流出する方式
となっている。
この実施例の場合も、外バイブ24と内パイプ25とで
、第2の熱媒体が流入出する冷却用循環路を構成し、前
記実施例と同様に、マンドレル21を被蒸着体もろとも
、短時間に冷却することができる。
第4図は、冷却すべき被蒸着体の温度低下と、冷却経過
時間との19互の関係を示すものであって、破線は従来
例の熱伝導方式のもの、一点鎖線は第3図に示す実施例
のもの、実線は第1図に示す実施例のものをそれぞれ示
している。
この図から理解されるように、従来例(破線)のものよ
りは、第3図に示す実施例(一点鎖線)のものの方が冷
却効果にすぐれる。この実施例の場合、熱媒体即ち冷媒
として、できるだけ温度落差の大きいものを流動させる
方式の方が冷却効果にすぐれることになる。
また、この図から理解されるように、単純な冷媒流動方
式(一点鎖線)のものと比して、噴流および蒸気化を利
用する方式(実線)のものの方が冷却効果にすぐれてい
る。
本発明者らの実験によれば、被蒸着体を想定して、アル
ミニウムパイプを200 ”G K加熱したあと、水の
噴流をして、パイプ状容器】5(第1図参照)の内壁し
て、噴霧したところ、当該アルミニウムパイプを100
℃近辺まで急速に冷却せしめることができた(第4図参
照)。また、100°Cを過ぎても、冷却速度としては
低下するが、依然として冷却機能を達成するCとができ
た。
ここで、第2の熱媒体を、高沸点の熱媒体と、低沸点の
熱媒体とに使い分け、前者を第1段階で流入させ、後者
を第2段階で流入させるようにすると、さらに冷却効果
を高めることができる。
第1図において、パイプj6へ、例えば、水、油等の高
沸点熱媒体を先ず流入せしめ、この熱媒体の気化熱によ
る熱移動を利用して、第1段階の冷却N能を達成したあ
と、第2段階として低沸点の熱媒体を流入させる。
すると、低沸点の熱媒体は、高沸点熱媒体の沸、ウリ、
下の温度範囲(水の場合は100℃以V)で気化し、こ
の際の気化熱により、第2段階の冷却機能が達成せられ
、被蒸着体が急速に冷却ばれることになる。
この場合、低沸点の熱媒体をパイプ]6へ、いきなり導
入することもできるが、このようにすると、気化が激発
的に行なわれることになり、また、低沸点の熱媒体が高
温化にさらされることによってその熱媒体の分解、劣化
を生じることになシ、これらの点を防出する意味からも
、2段気化方法によるものの方が有利である。
第5図は、2段気化法による、被蒸着体の温度低下と、
冷却経過時間との相互関係を示すものであって、I(は
高沸点熱媒体の沸点を、Lは低沸点熱媒体の沸点をそれ
ぞれ示しておシ、破線で示す」:うに、沸点トI以下で
の急速冷却機能が達成されている。
なお、このような方式において、第1段1@にて高沸点
の熱媒体を噴霧したパイプ状容器J5へ、第2段階とし
て、低沸点の熱媒体を流すようにしてもよいが、この場
合、高沸点の熱媒体と、低沸点の熱媒体とが、配管系内
部で混合することもあり得るので、このような点に対処
すべく、別途に冷却パイプを2本挿入しておき、一方の
パイプに高沸点の熱媒体を、他方のパイプに低沸点の熱
媒体をそれぞれ流入させる」:うにしてもよい。
なお、高υ七点の熱媒体としては、市販の油状熱媒体や
水などを挙げることができ、また、低沸点の熱媒体とし
ては、フレオン、アルコール、エステル類、エーテル類
および炭化水素系液体などを挙げることができる。この
場合、両者の熱媒体に沸点差を生じるものであれば、パ
イプを腐fE−Gせないもの以外において、どんなもの
でも使用は可能である。これらのうち、コストや取り扱
いの上から、水−フレオン等の組み合わせが実用的な1
例である。
なお、今まで述べた実施例では、真柴蒸層技術を適用し
たものであるが、この他、一般的な真空技術やスパッタ
リングや電子写真技術−や半導体製造技術等の範時にお
いても本発明の適用可能である。
(発明の効果) 以上本発明によれば、従来装置と比して、冷却効果にす
ぐれた機能を発揮する、真空装置の温度制御装置を提供
することができる。
【図面の簡単な説明】
第」図は本発明一実施例装置の部分断面図、第2図は第
1図におけるA−A線に沿う断面図、第3図は本発明の
別の実施例装置の部分断面図、第4図は被蒸着体の温度
低下と冷却経過時間との相互関係を、従来例と本発明実
施例装置との場合につき、比較した図、第5図は2段気
化法による、被蒸着体の温度低下と冷却経過時間との相
互関係を示す図である。 2・・・真空槽、3,2]・・密封容器、3A  ・密
封空間、】】・・・第1の熱媒体、12・−・第2の熱
媒体、13゜23・・密封発熱体、15. 16. 2
4. 25・・・冷却用循環路。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 真空槽内を回転用能に設けられていて、非凝縮性ガ
    スを取除いた状態で、第1の熱媒体を封入する密封容器
    と、前記第1の熱媒体昇温用の密閉発熱体と、前記密封
    容器内の、第1の熱媒体を含む密封空間内に設けられて
    いて、この空間に対し気密保持された、第2の熱媒体が
    流入出する冷却用循環路とを補え、該循環路内の第2の
    熱媒体の系と、?Pl−封容器内容器内の熱媒体の系と
    で熱又換を行なわしめて、前記密封容器の臨席を制御す
    ることを特徴とする、真空装置の温度制御装置。 24 第2の熱媒体を、纂J段階で流入させるものとし
    て高沸点熱媒体とし、第2段階で流入させるものとして
    低沸点熱媒体としたことを特徴とする特許請求の範囲m
    1項記載の真空装置の温度制御装置。
JP21665982A 1982-08-30 1982-12-10 真空装置の温度制御装置 Pending JPS59107074A (ja)

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JP21665982A JPS59107074A (ja) 1982-12-10 1982-12-10 真空装置の温度制御装置
GB08323002A GB2129018B (en) 1982-08-30 1983-08-26 Vacuum evaporation apparatus
US06/527,662 US4534312A (en) 1982-08-30 1983-08-30 Vacuum evaporation apparatus
KR1019830004041A KR910000978B1 (ko) 1982-08-30 1983-08-30 진공증착장치

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JP21665982A JPS59107074A (ja) 1982-12-10 1982-12-10 真空装置の温度制御装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009125496A1 (ja) * 2008-04-11 2009-10-15 東芝三菱電機産業システム株式会社 均熱装置

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