JPS59107071A - 被処理物の外表面にスパッタリング膜を形成する装置 - Google Patents
被処理物の外表面にスパッタリング膜を形成する装置Info
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- JPS59107071A JPS59107071A JP57217496A JP21749682A JPS59107071A JP S59107071 A JPS59107071 A JP S59107071A JP 57217496 A JP57217496 A JP 57217496A JP 21749682 A JP21749682 A JP 21749682A JP S59107071 A JPS59107071 A JP S59107071A
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- main chamber
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、例えは太陽放射スペクトル域で吸収が大き
く、熱放射スペクトル域で放射率が小さい特性を有する
、反応性蒸着膜を被処理物の外表面に形成する装置に関
する。
く、熱放射スペクトル域で放射率が小さい特性を有する
、反応性蒸着膜を被処理物の外表面に形成する装置に関
する。
従来の被処理物の外衣面に反応性蒸着膜を形成する装置
(特願昭52−68382号)は、装置の主要部が一体
に形成されたものとなっているため、保守、管理が非常
に面倒で作業性が惑く、又火炉生産には不向きで実用性
に乏しい。
(特願昭52−68382号)は、装置の主要部が一体
に形成されたものとなっているため、保守、管理が非常
に面倒で作業性が惑く、又火炉生産には不向きで実用性
に乏しい。
この発明は、上61点に鑑み、保守、管理を容易にし、
作業性を良くし大蓋生産に向く被処理物の外表面に反応
性蒸着膜を形成する装置を提供するもので、その要旨は
被処理物を水平に支持するホルダーと、当該ホルクーと
共に被処理物に自転。
作業性を良くし大蓋生産に向く被処理物の外表面に反応
性蒸着膜を形成する装置を提供するもので、その要旨は
被処理物を水平に支持するホルダーと、当該ホルクーと
共に被処理物に自転。
公転を与える自転0公転機構と、ホルダーの基部側にメ
インチャンバー閉鎖用の垂直蓋とを具えたカル−セルア
ッセンブリと、金属電極をオーバーハング状態に水平に
支持したマニフォールドチャンバーと、上記被処理物と
金属電極を包囲する長さと直径を有し、外周部にフィー
ルドコイル層を有する横向き筒形のメインチャンバーと
の3部とカラなり、マニフォールドチャンバーは床mJ
上に定着し、メインチャンバーは当該マニフォールドチ
ャンバーに分離自在に水平に連結し、カル−セルアッセ
ンブリはメインチャンバーに対して移動oJ能としたと
ころにある。
インチャンバー閉鎖用の垂直蓋とを具えたカル−セルア
ッセンブリと、金属電極をオーバーハング状態に水平に
支持したマニフォールドチャンバーと、上記被処理物と
金属電極を包囲する長さと直径を有し、外周部にフィー
ルドコイル層を有する横向き筒形のメインチャンバーと
の3部とカラなり、マニフォールドチャンバーは床mJ
上に定着し、メインチャンバーは当該マニフォールドチ
ャンバーに分離自在に水平に連結し、カル−セルアッセ
ンブリはメインチャンバーに対して移動oJ能としたと
ころにある。
以下、この発明を図面に示す実施例に基づき詳細に説明
する。
する。
図面において、1けカル−セルアッセンブリで、カル−
セルアッセンブリ1は管体からなる被処理物2を水平に
支持するホルタ−3と、当該ホルダー3と共に被処理物
2に自転、公転を与える自転ψ公転機構4と、ホルダー
3の基部側に後述するメインチャンバー閉鎖用の垂直蓋
5とを具えている。
セルアッセンブリ1は管体からなる被処理物2を水平に
支持するホルタ−3と、当該ホルダー3と共に被処理物
2に自転、公転を与える自転ψ公転機構4と、ホルダー
3の基部側に後述するメインチャンバー閉鎖用の垂直蓋
5とを具えている。
史に許しくけ、垂直蓋5の中央に垂直蓋5に直交する回
転軸6を導通して設け、垂直蓋5の表側に突出している
回転軸6の端部にはプーリー1を設け、同裏側に突出し
ている回転軸6の端部には回転軸6の回転によシ回転す
る回転板8を設け、この回転板8には、軸心に対し同一
円周方向に適宜間隔で前記被処理物2を軸方向水平に支
持するホルダー3の基部を回転自在に設け、このホルダ
ー3の基部には遊星歯車9を設け、この遊星歯車9を、
前記垂直蓋5の裏面に設けたリング状のギヤ10に噛合
させ、前記回転軸6を回転することにより、回転板8に
設けたホルダー3を公転させ、同時に前記遊星歯車9が
ギヤ10により回転させられることによシホルダー3が
自転し、ホルダー3に支持された被処理物2に自転、公
転を与える構成となっている。11Vi回転軸6を回転
させるモーターである。
転軸6を導通して設け、垂直蓋5の表側に突出している
回転軸6の端部にはプーリー1を設け、同裏側に突出し
ている回転軸6の端部には回転軸6の回転によシ回転す
る回転板8を設け、この回転板8には、軸心に対し同一
円周方向に適宜間隔で前記被処理物2を軸方向水平に支
持するホルダー3の基部を回転自在に設け、このホルダ
ー3の基部には遊星歯車9を設け、この遊星歯車9を、
前記垂直蓋5の裏面に設けたリング状のギヤ10に噛合
させ、前記回転軸6を回転することにより、回転板8に
設けたホルダー3を公転させ、同時に前記遊星歯車9が
ギヤ10により回転させられることによシホルダー3が
自転し、ホルダー3に支持された被処理物2に自転、公
転を与える構成となっている。11Vi回転軸6を回転
させるモーターである。
12Hマニフオールドチヤンバーで、マニフォールドチ
ャンパー12Vi一端を開にし、他端を閉じた筒状体1
3の開口側に2本の平行する金pATh。
ャンパー12Vi一端を開にし、他端を閉じた筒状体1
3の開口側に2本の平行する金pATh。
極14をホルタ−15によυ軸方向水平にオーバーハン
グ状態に支持した構成となっている。上記2本の金M[
極14には、その内部に冷却水を導通する水路16が形
成されている。17は2本の電極14間を遮蔽する遮蔽
板であり、この遮蔽板17内にも冷却水を導通する水路
18が形成されている。19は前記筒状体13の開口端
部に形成したフランジである。
グ状態に支持した構成となっている。上記2本の金M[
極14には、その内部に冷却水を導通する水路16が形
成されている。17は2本の電極14間を遮蔽する遮蔽
板であり、この遮蔽板17内にも冷却水を導通する水路
18が形成されている。19は前記筒状体13の開口端
部に形成したフランジである。
20はメインチャンバーで、メインチャンバー20は前
記被処理物2と金九奄極14を包囲する長さと直径を有
し、外周部にフィールドコイル層21を有する横向き筒
形をもって構成されている。
記被処理物2と金九奄極14を包囲する長さと直径を有
し、外周部にフィールドコイル層21を有する横向き筒
形をもって構成されている。
更に詳しくは、金属筒からなる主筒体22の外周m1部
に、端部に雌ねじを刻設したポス23を、該主筒体22
の円周方向と軸心方向に夫々所定の間隔をあけて放射状
に突設して、絶縁キャップ24を頭部に具えたボルト付
きのサポータ−25を上記ボス23に求遠心方向に進退
自在に螺合し、フィールドコイル7121を外周部に持
つ複数個のフィールドチャンバー26を上記サポータ−
25を介して主筒体22の外周に同心上に支承した構成
となっている。27.28は主筒体22の両側開口端部
に形成した7ランジである。
に、端部に雌ねじを刻設したポス23を、該主筒体22
の円周方向と軸心方向に夫々所定の間隔をあけて放射状
に突設して、絶縁キャップ24を頭部に具えたボルト付
きのサポータ−25を上記ボス23に求遠心方向に進退
自在に螺合し、フィールドコイル7121を外周部に持
つ複数個のフィールドチャンバー26を上記サポータ−
25を介して主筒体22の外周に同心上に支承した構成
となっている。27.28は主筒体22の両側開口端部
に形成した7ランジである。
以上のカル−セルアッセンブリ1とマニフォールドチャ
ンパー12とメインチャンバー20の3部材であって、
マニフォールドチャンパー12は床面上に支持体29に
より水平に支持され、このマニフォールドチャンパー1
2にメインチャンバー20が分離自在に水平に連結され
る。この連結は、マニフォールドチャンパー12に形成
された7ランジ19とメインチャンバー20に形成され
たフランジ27とを接合しボルト(図示せず)締めによ
り行なわれるようになっている。30はメインチャンバ
ー20を支持する支持体である。又カルーセルアツセン
ブ!J1ih、前記マニフォールドチャンパー12に連
結じているメインチャンバー20に対し、後述するレー
ルに載ってメインチャンバー20の開口部に正対して移
動可能となっておシ、メインチャンバー2Qの開口部に
カル−セルアッセンブリ1の垂直蓋5をフック(図示せ
ず)により固定し、上記開口部を閉鎖するようになって
いる。31はカル−セルアッセンブリを支持する支持体
で、この支持体31の底部には360°回転する軸32
に支えられた方向を自由に変えられる車輪33が設けて
あり、後述するレール上を転動するようになっている。
ンパー12とメインチャンバー20の3部材であって、
マニフォールドチャンパー12は床面上に支持体29に
より水平に支持され、このマニフォールドチャンパー1
2にメインチャンバー20が分離自在に水平に連結され
る。この連結は、マニフォールドチャンパー12に形成
された7ランジ19とメインチャンバー20に形成され
たフランジ27とを接合しボルト(図示せず)締めによ
り行なわれるようになっている。30はメインチャンバ
ー20を支持する支持体である。又カルーセルアツセン
ブ!J1ih、前記マニフォールドチャンパー12に連
結じているメインチャンバー20に対し、後述するレー
ルに載ってメインチャンバー20の開口部に正対して移
動可能となっておシ、メインチャンバー2Qの開口部に
カル−セルアッセンブリ1の垂直蓋5をフック(図示せ
ず)により固定し、上記開口部を閉鎖するようになって
いる。31はカル−セルアッセンブリを支持する支持体
で、この支持体31の底部には360°回転する軸32
に支えられた方向を自由に変えられる車輪33が設けて
あり、後述するレール上を転動するようになっている。
34はメインチャンバー20の真下床面上に水平に敷設
したレールで、このレール34はメインチャンバー20
の軸心線と平行な主レール35と、これと直交する待機
レール36とからなっており、主レール35と待機レー
ル36との交叉部にはレールポイント37が回転自在に
設置されており、各レールポイント37はリンク38に
連結され、エアシリンダ39によシ同時に主レール35
及び待機レールあ方向に90°旋回するようになってい
る。このレール34上を前記カル−セルアッセンブリ1
か移動する。
したレールで、このレール34はメインチャンバー20
の軸心線と平行な主レール35と、これと直交する待機
レール36とからなっており、主レール35と待機レー
ル36との交叉部にはレールポイント37が回転自在に
設置されており、各レールポイント37はリンク38に
連結され、エアシリンダ39によシ同時に主レール35
及び待機レールあ方向に90°旋回するようになってい
る。このレール34上を前記カル−セルアッセンブリ1
か移動する。
401−、!:上部にメインチャンバー載島゛部41を
設けた台車で、底部に前記カル−セルアッセンブリ1を
支持する支持体31の底部に設けた車輪33と同じ構造
の車輪42が設けられており、上記レール34上を走行
自在となっている。この台車40は必要が無い場合はレ
ール34から外されている0次に、上記実施例に基づい
てこの発明の詳細な説明する。
設けた台車で、底部に前記カル−セルアッセンブリ1を
支持する支持体31の底部に設けた車輪33と同じ構造
の車輪42が設けられており、上記レール34上を走行
自在となっている。この台車40は必要が無い場合はレ
ール34から外されている0次に、上記実施例に基づい
てこの発明の詳細な説明する。
カル−セルアッセンブリ1は、被処理物2を支持するホ
ルダー3と、当該ホルダー3と共に被処理物2に自転、
公転を与える自転・公転機構4と、メインチャンバー2
0の閉鎖用の垂直蓋5とを具えたものからなっているの
で、レール上カル−セルアッセンブリ1を移動させるこ
とによシ、メインチャンバー20の開閉と同時にメイン
チャンバー20への被処理物2の搬送、搬出が行なえ、
又カル−セルアッセンブリ1の移動時に、カル−セルア
ッセンブリ1を支持する支持体31の底部に設けた車輪
33をレールポイント37上に位置させ、レールポイン
ト37を切換えることにより、カル−セルアッセンブリ
1の向きを変えることなく主レール35から待機レール
36への移動が行なえる。又レール34上に台車40を
載せ、台車40の上部に設けたメインチャンバー置載部
41にメインチャンバー20を支持する支持体30の横
桟43を載せ、メインチャンバー20とマニフォールド
チャンパー12から分離移動することが行なえる。
ルダー3と、当該ホルダー3と共に被処理物2に自転、
公転を与える自転・公転機構4と、メインチャンバー2
0の閉鎖用の垂直蓋5とを具えたものからなっているの
で、レール上カル−セルアッセンブリ1を移動させるこ
とによシ、メインチャンバー20の開閉と同時にメイン
チャンバー20への被処理物2の搬送、搬出が行なえ、
又カル−セルアッセンブリ1の移動時に、カル−セルア
ッセンブリ1を支持する支持体31の底部に設けた車輪
33をレールポイント37上に位置させ、レールポイン
ト37を切換えることにより、カル−セルアッセンブリ
1の向きを変えることなく主レール35から待機レール
36への移動が行なえる。又レール34上に台車40を
載せ、台車40の上部に設けたメインチャンバー置載部
41にメインチャンバー20を支持する支持体30の横
桟43を載せ、メインチャンバー20とマニフォールド
チャンパー12から分離移動することが行なえる。
以上、この発明を上記実施例に基づいて説明したが、こ
の発明は被処理物を水平に支持するホルダーと、当該ホ
ルタ゛−と共に被処理物に自転、公転を与える自転・公
転機構と、ホルタ−の基部側にメインチャンバー閉鎮用
の垂直蓋とを具えたカル−セルアッセンブリと、金M電
極をオーバーハング状態に水平に支持したマニフォール
ドチャンバーと、上記被処理物と金PAt極を包囲する
長さと直径を有し、外周部にフィールドコイル層を有す
る横向き筒形のメインチャンバーとの3部とからなシ、
マニフォールドチャンバーは床面上に定着し、メインチ
ャンバーは当該マニフォールドテヤンパーに分離自在に
水平に連結し、カル−セルアッセンブリはメインチャン
バーに対して移動可能としたものであるから、カル−セ
ルアッセンブリをメインチャンバーに対して移動させる
ことにより、メインチャンバーの開閉と同時にメインチ
ャンバーへの被処理物の搬送、搬出を行なうことができ
、しかもホルダーへの被処理物の脱着作業はカル−セル
アッセンブリをメインチャンバーから移動させることに
より、メインチャンバーによる障害を受けずに行なうこ
とができる等、作業性に富み、大賞生産に適し、更にメ
インチャンバーからカル−セルアッセンブリを移動させ
、そしてマニフォールドテヤンバーからメインチャンバ
ーを分離移動させることによシ、それらの清掃、補修、
取替等の作業が簡単に行なえるのでメンテナンスが非常
に容易となるといった効果を廟する。
の発明は被処理物を水平に支持するホルダーと、当該ホ
ルタ゛−と共に被処理物に自転、公転を与える自転・公
転機構と、ホルタ−の基部側にメインチャンバー閉鎮用
の垂直蓋とを具えたカル−セルアッセンブリと、金M電
極をオーバーハング状態に水平に支持したマニフォール
ドチャンバーと、上記被処理物と金PAt極を包囲する
長さと直径を有し、外周部にフィールドコイル層を有す
る横向き筒形のメインチャンバーとの3部とからなシ、
マニフォールドチャンバーは床面上に定着し、メインチ
ャンバーは当該マニフォールドテヤンパーに分離自在に
水平に連結し、カル−セルアッセンブリはメインチャン
バーに対して移動可能としたものであるから、カル−セ
ルアッセンブリをメインチャンバーに対して移動させる
ことにより、メインチャンバーの開閉と同時にメインチ
ャンバーへの被処理物の搬送、搬出を行なうことができ
、しかもホルダーへの被処理物の脱着作業はカル−セル
アッセンブリをメインチャンバーから移動させることに
より、メインチャンバーによる障害を受けずに行なうこ
とができる等、作業性に富み、大賞生産に適し、更にメ
インチャンバーからカル−セルアッセンブリを移動させ
、そしてマニフォールドテヤンバーからメインチャンバ
ーを分離移動させることによシ、それらの清掃、補修、
取替等の作業が簡単に行なえるのでメンテナンスが非常
に容易となるといった効果を廟する。
図面は、この発明の一実施例を示すもので、第1図はこ
の発明を構成する3部を連結した状態を示す概略正面図
、第2図は第1図のn−nl一部省略拡大断面図、第3
図は第1図のlll−1一部省略拡大断面図、第4図は
第1図のIV−IV線一部省略拡大断面図、第5図はこ
の発明を構成する3部を分離移動させる状態を示す説明
図、第6図はマニフォールドチャンバーからメインチャ
ンバーを分離した状態を示す説明図、第7図はレールを
敷設したこの発明の概略平面図、第8図は第7図に示す
レールの切換部を示す拡大平面図、第9図はカル−セル
アッセンブリを支持する支持体の底部に設けた車輪を示
す拡大縦断面図、第10図はメインチャンバーを移動さ
せる台車を示す概略正面図である。 1・・・カルーセルアッセンブ1ハ2・・・被処理物、
3・・・ホルダー、4・・・自転・公転機構、5・・・
i直値、12・・・マニフォールドチャンバー、14・
・・金#4電極、20・・・メインチャンバー、21・
・・フィールドコイル層 特許出願人 日東工器株式会社 第2図 第4図 第9図 第1O図 0 手続補正書く方式) 1 事件の表示 昭和57年 特 許 願第217496号2、発明の名
称 被処理物の外表面に反応性蒸NMを形成する装置3
補正をする者 事件との関係 出願人 イ1 所 東京都大1]] IZ仲池」−2丁目9
番4号氏 名(名b・) 日 東 工 器
株 式 会 r十4、代理人 青 [有] 6、 補正により増加する発明の数 (1) 別紙のとおりタイプ印書により鮮明に記載し
fC願書を提出する。 (2) 別紙のとおジ濃墨を用いて鮮明に描いた図面
全提出する。 9添付書類の目録 (1)願 書 正剃各1通(2)図
面 1通手糸売−?1ljIE書
(11発) 11/(和59年 3月 9)] 特11乍[j−長官若杉和夫殿 1、事件の表示 特願昭57−217496号 2発明の名称 被処理物の外表面に反応性蒸着膜を形成する装置3補止
をする者 事件との関係 出願人 住 所 東京都大田区仲池J:2T[−19番4号
氏名 日東土器株式会社 4、代理人 目発補正 7、補正の内容 (1) 明細書第4頁第14行目に、「一端を開にし
」とあるのを「−・端を開口し、」と補正する。 (2) 明細f3第4頁第20行目に、「電極14間
を」とあるのを、 [金属電極14間を」と補正する。 (3) 明細書第6頁第1行目に、「部材であって、
」とあるのを「部材にあって、Jと補正する。 (4) 明細書第6頁第16行目〜回頁第17行目に
、[カル−セルアセンブリをJとあるのを「カル−セル
アセンブリ1を」と補正する。 (5) 明al!j第8頁第14行目に3 「メイン
チャン/へ一置載部41Jとあるのを「メインチャンバ
ー載置部41」と補正する。 (6〕 明細書第8頁第16行目〜回頁第18行目に
、「メインチャンバー20とマニフォールドチャンパー
12から分離移動することが行なえる。Jとあるのを[
メインチャン/ヘ−20とマニフォールトチャンパー1
2とを分離することにより、メインチャンパー20をマ
ニフォールトチャンパー12から分離移動することが行
なえる。」と補iEする。 (7) 図面中温4ロ、第6図および第10図を別紙
のとおり補正する。 8、添付書類の目録
の発明を構成する3部を連結した状態を示す概略正面図
、第2図は第1図のn−nl一部省略拡大断面図、第3
図は第1図のlll−1一部省略拡大断面図、第4図は
第1図のIV−IV線一部省略拡大断面図、第5図はこ
の発明を構成する3部を分離移動させる状態を示す説明
図、第6図はマニフォールドチャンバーからメインチャ
ンバーを分離した状態を示す説明図、第7図はレールを
敷設したこの発明の概略平面図、第8図は第7図に示す
レールの切換部を示す拡大平面図、第9図はカル−セル
アッセンブリを支持する支持体の底部に設けた車輪を示
す拡大縦断面図、第10図はメインチャンバーを移動さ
せる台車を示す概略正面図である。 1・・・カルーセルアッセンブ1ハ2・・・被処理物、
3・・・ホルダー、4・・・自転・公転機構、5・・・
i直値、12・・・マニフォールドチャンバー、14・
・・金#4電極、20・・・メインチャンバー、21・
・・フィールドコイル層 特許出願人 日東工器株式会社 第2図 第4図 第9図 第1O図 0 手続補正書く方式) 1 事件の表示 昭和57年 特 許 願第217496号2、発明の名
称 被処理物の外表面に反応性蒸NMを形成する装置3
補正をする者 事件との関係 出願人 イ1 所 東京都大1]] IZ仲池」−2丁目9
番4号氏 名(名b・) 日 東 工 器
株 式 会 r十4、代理人 青 [有] 6、 補正により増加する発明の数 (1) 別紙のとおりタイプ印書により鮮明に記載し
fC願書を提出する。 (2) 別紙のとおジ濃墨を用いて鮮明に描いた図面
全提出する。 9添付書類の目録 (1)願 書 正剃各1通(2)図
面 1通手糸売−?1ljIE書
(11発) 11/(和59年 3月 9)] 特11乍[j−長官若杉和夫殿 1、事件の表示 特願昭57−217496号 2発明の名称 被処理物の外表面に反応性蒸着膜を形成する装置3補止
をする者 事件との関係 出願人 住 所 東京都大田区仲池J:2T[−19番4号
氏名 日東土器株式会社 4、代理人 目発補正 7、補正の内容 (1) 明細書第4頁第14行目に、「一端を開にし
」とあるのを「−・端を開口し、」と補正する。 (2) 明細f3第4頁第20行目に、「電極14間
を」とあるのを、 [金属電極14間を」と補正する。 (3) 明細書第6頁第1行目に、「部材であって、
」とあるのを「部材にあって、Jと補正する。 (4) 明細書第6頁第16行目〜回頁第17行目に
、[カル−セルアセンブリをJとあるのを「カル−セル
アセンブリ1を」と補正する。 (5) 明al!j第8頁第14行目に3 「メイン
チャン/へ一置載部41Jとあるのを「メインチャンバ
ー載置部41」と補正する。 (6〕 明細書第8頁第16行目〜回頁第18行目に
、「メインチャンバー20とマニフォールドチャンパー
12から分離移動することが行なえる。Jとあるのを[
メインチャン/ヘ−20とマニフォールトチャンパー1
2とを分離することにより、メインチャンパー20をマ
ニフォールトチャンパー12から分離移動することが行
なえる。」と補iEする。 (7) 図面中温4ロ、第6図および第10図を別紙
のとおり補正する。 8、添付書類の目録
Claims (1)
- 被処理物を水平に支持するホルダーと、尚該ホルダーと
共に被処理物に自転、公転を与える自転・公転機構と、
ホルダーの基部側にメインチャンバー閉鎖用の垂直蓋と
を具えたカル−セルアッセンブリと、金属電極をオーパ
ーツ・ング状態に水平に支持したマニフォールドチャン
バーと、上記被処理物と金属電極を包囲する長さと直径
を有し、外周部にフィールドコイル層を有する横向き筒
形のメインチャンバーとの3部とからなり、マニフォー
ルドチャンパーは床面上に定着し、メインチャンバーハ
轟該マニフォールドチャンパーに分11在に水平に連結
し、カル−セルアッセンブリはメインチャンバーに対し
て移動可能としたことを特徴とする、被処理物の外表面
に反応性蒸着膜を形成する装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57217496A JPS59107071A (ja) | 1982-12-12 | 1982-12-12 | 被処理物の外表面にスパッタリング膜を形成する装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57217496A JPS59107071A (ja) | 1982-12-12 | 1982-12-12 | 被処理物の外表面にスパッタリング膜を形成する装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59107071A true JPS59107071A (ja) | 1984-06-21 |
JPS6214218B2 JPS6214218B2 (ja) | 1987-04-01 |
Family
ID=16705143
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57217496A Granted JPS59107071A (ja) | 1982-12-12 | 1982-12-12 | 被処理物の外表面にスパッタリング膜を形成する装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59107071A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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CN102719795A (zh) * | 2011-08-11 | 2012-10-10 | 光驰科技(上海)有限公司 | 成膜装置 |
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-
1982
- 1982-12-12 JP JP57217496A patent/JPS59107071A/ja active Granted
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JP2022033870A (ja) * | 2017-12-22 | 2022-03-02 | 株式会社村田製作所 | 成膜装置 |
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US11891692B2 (en) | 2017-12-22 | 2024-02-06 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Film-forming device |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6214218B2 (ja) | 1987-04-01 |
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