JPS59102228A - 感光性樹脂版材 - Google Patents

感光性樹脂版材

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JPS59102228A
JPS59102228A JP21261782A JP21261782A JPS59102228A JP S59102228 A JPS59102228 A JP S59102228A JP 21261782 A JP21261782 A JP 21261782A JP 21261782 A JP21261782 A JP 21261782A JP S59102228 A JPS59102228 A JP S59102228A
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polyvinyl acetate
photosensitive resin
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water
layer
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Junichi Fujikawa
藤川 淳一
Shigetora Kashio
樫尾 重虎
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/095Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer
    • G03F7/0955Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer one of the photosensitive systems comprising a non-macromolecular photopolymerisable compound having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds

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  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はすぐれた水現像性と画像再現性を有する部分ケ
ン化ポリ酢酸ビニル系感光性樹脂版材に関するものであ
る。
従来から可溶性ポリマと光重合性不飽和化合物および必
要に応じて光開始剤からなる光によって不溶化する感光
性樹脂組成物な、凸版材、平版材。
凹版材、孔版材などの印刷版材、フォトレジスト。
感光性塗料、ディスプレイ、画像形成材料などに用いら
れている。これらの内でたとえば凸版印刷用版材は感光
性樹脂組成物の層と支持体からなる原板の感光層に透明
部分を有するイ・ガテイブまたはポジティブフィルムを
通して露光を行ない、N先部分の感光性樹脂組成物に光
重合を起こさせて不溶化した後に、支持体上にレリーフ
像を得るものである。最近、可溶性ポリマとして部分ケ
ン化ポリ酢酸ビニルを使用し、中性水で現像可能な感光
性樹脂版材が開発されている(たとえば特公昭52−2
7561号公報)。
部分ケン化ポリ酢酸ビニルの水溶解速度は9重合度に対
する依存性が犬であるために、良好な水現像性を得るた
めには1重合度200〜100口の範囲にある比較的低
重合度のポリマを使用しなければならない。重合度が1
000を越えるものは。
水溶解性の低下が顕著であるために、未露光部分を水中
に溶出除去する現像工程に要する時間が長くなる欠点が
著しい。重合度が201]〜1000の範囲にある部分
ケン化ポリ酢酸ビニルを使用した場合には、上記のよう
に良好な水現像性は有するが、ブラシ式洗い出し機を使
用する場合には。
ブラシによる外力を最も強く受ける感光層表面にある光
重合部分の一部が水中に溶出したり、ブラシの外力で欠
落したりする問題がある。このような点から1部分ケン
化ポリ酢酸ビニル系の感光性版材に一般に使用されてい
るブラシ式洗い出し機に対する適性に欠けているのが普
通であった。
本発明者らは、良好な水現像性を保持して、かつブラシ
洗い出し機での現像時にも良好な画像再現性を有する部
分クン化ポリ酢酸ビニル系感光性樹脂版材について鋭意
検討した結果1本発明に到達した。
即ち1本発明は、ケン化度60〜99モル幅の部分ケン
化ポリ酢酸ビニルと光重合性不飽和モノマからなる樹脂
組成物を支持体上に2層に分けて積層塗設した感光性樹
脂版材であって、支持体に接する下層の部分ケン化ポリ
酢酸ビニルの平均重合度が200〜1oooであり、上
層の部分ケン化ポリ酢酸ビニルの平均重合度が、下層の
部分ケン化ポリ酢酸ビニルの平均重合度の1,25〜1
00倍の範囲にあることを特徴とする感光性樹脂版材に
関するものである。
本発明の感光性樹脂組成物は、上下層ともケン化度60
〜99モル幅の部分ケン化ポリ酢酸ビニルを基体樹脂と
するものでなければならない。ケン化度が60モル係未
満であると水溶性が著しく低下し、ケン化度100モル
係の完全ケン化ポリ酢酸ビニルも常温水に対する溶解性
に乏しいので水現像性を得るためにはケン化度は60〜
99モル幅の範囲にあることが必要であり、好捷しくけ
70〜90モル幅である。
支持体に接する下層に使用する部分ケン化ポリ酢酸ビニ
ルは、ブラシ洗い出し機で現像する際に強く外力を受け
る感光層表面部分を形成しないので良好な現像性を持つ
ことを主体に選択される。
このような部分ケン化ポリ酢酸ビニルは平均重合度20
0〜1000のものである。平均重合度が200未満で
あると、光重合部分の耐水性が余りにも劣るために、現
像時に光重合部の一部分が水中に溶出する問題の発生す
ることが多い。逆に。
平均重合度が1000を越えると急激に水溶解性が低下
する。以上のことから、下層の部分ケン化ボIJ ff
1P酸ビニルの平均重合度は200〜1000の範囲に
あることが必要であり、好ましくは300〜800であ
る。
上層に使用する部分ケン化ポリ酢酸ビニルは。
現像時にブラシ等で強く外力を受ける感光性表面を形成
するので下層よりも平均重合度の高いものを使用する必
要がある。平均重合度が下層の部分ケン化酢酸ビニルの
平均重合度の1.25倍未満であると感光層を2層にす
る効果が認められ々い。
逆に、100倍をこえると上層部分を水中に溶出するた
めに必要とされる時間が非常に長くなるために、全体の
感光性版材の現像時間に対する影響を無視することがで
きなくなる。以上の理由から上層に使用する部分ケン化
ポリ酢酸ビニルの平均重合度は下層に使用する部分ケン
化ポリ酢酸ビニルの平均重合度の1.25〜10.0倍
の範囲にあることが必要であり、好1しくに1.5〜6
.0倍である。
上下層に使用する部分ケン化ポリ酢酸ビニルは同一ケン
化度のものが好ましいが、ケン化度の異なるものを使用
することも可能である。葦た9部分ケン化ポリ酢酸ビニ
ルの末端にあるカルボキシル基にグリシジルメタクリレ
ートを反応させて不飽和基を導入したものや9部分ケン
化ポリ酢酸ビニルのもつ水酸基の1部に不飽和基をもつ
化合物を反応させて不飽和基を導入したものや、水酸基
にエチレンオキサイドなどを付加させて変性したものも
残存する水酸基から決定されるケン化度が60〜99モ
ル幅の範囲内にあれば使用可能である。
上下層の部分ケン化ポリ酢酸ビニルに、ポリエチレンオ
キサイドやメチルセルロースなどのセルロース誘導体、
およびα−(N、 li’−ジメチルアミノ)−ε−カ
プロラクタムの開環重合体やα−(N、n’−ジメチル
アミノ)−ε−カプロラクタムとε−カプロラクタムの
開環共重合体などの他の水溶性ポリマを部分ケン化ポリ
酢酸ビニルの2゜重量係以下の少量混合して併用するこ
とも可能である。
上下層の感光性樹脂組成物に使用される光重合性の不飽
和モノマとしては全てのものが使用できるが、具体的に
は次のようなものが挙げられる。
2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒド
ロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−クロロ−2
−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートなどの水酸
基をもつ単官能ビニルモノマ。
エチレングリコールジグリシジルエーテルなどの2〜5
価のグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸の付加反
応によって得られる2〜5個の水酸基および同数の(メ
タ)アクリロイル基を有する多官能ビニルモノマ、グリ
シジル(メタ)アクリ1/−トと(メタ)アクリル酸な
どの不飽和カルボン酸の付加反応物、グリシジル(メタ
)アクリレートとリンゴ酸などの2〜6価の飽和カルボ
ン酸の付加反応物、グリシジル(メタコアクリレートと
キシリレンジアミンなどの1級また2級アミンとの付加
反応物などの分子中に水酸基と2〜6個の不飽和結合を
もつ多官能ビニルモノマ、アクリルアミド、メチレンビ
スアクリルアミドなどのアクリルアミド類などである。
部分ケン化ポリ酢酸ビニルとこれらの光重合性不飽和モ
ノマの相溶性を改良するために、エチレングリコール、
ジエチレングリコール、グリセリン、ジグリセリン、ト
リメチロールプロパン、トリメチロールエタン、分子量
200〜1000のポリエチレングリコール、分子量2
00〜600のポリプロピレングリコールなどの水酸基
を有する飽和化合物を添加することもできる。
本発明の感光性樹脂の光重合を速かに行わせるために、
公知の光開始剤は全て使用することができる。このよう
な光開始剤としては、ベンゾフェノン類、ベンジル類、
ベンゾイン類、アセトフェノン類、ジアセチル類などが
挙げられる。
本発明の感光性樹脂の熱安定性を改良するための熱安定
剤としては、公知のものが全て使用可能である。このよ
うなものとしては、トリフェニルフォスフインのような
リン化合物、ノ\イドロキノンやバイドロキノンモノメ
チルエーテル、t−ブチルカテコールなどの熱重合禁止
剤などが挙げられる。この他に、染料、顔料、紫外線吸
収剤、消泡剤、界面活性剤等の微量成分を添加すること
もできる。
本発明の上下層の感光性樹脂層において、光重合性不飽
和モノマや光開始剤、熱安定剤などとして別々のものを
使用することも可能であるが、長期的には上下層の基体
ポリマ以外の組成は均一化する傾向にあるので余り得策
ではない。むしろ。
上下層の基体ポリマ以外の組成は同一または近似したも
のとする方が品質の安定性の点で良好である。
本発明は、現像中にブラシなどからの外力を最も強く受
ける感光層の表面に近い部分を形成する上層に平均重合
度の高い強靭な部分ケン化ポリ酢酸ビニルを基体ポリマ
とする感光性樹脂組成物を使用することによって現像中
に微細な光重合部分が水中に溶出したり、欠落すること
を防止するものである。平均重合度の高い部分ケン化ポ
リ酢酸ビニルを全感光層に使用すると現像時間が著しく
長くなるが、この点を防止するために下層の感光層には
、平均重合度200〜1000の良好な水溶性をもつ部
分ケン化ポリ酢酸ビニルを基体ポリマとする感光性樹脂
層を使用することによって。
このような問題点を解決するものである。現像時間をあ
まり長くしないためには、上層は比較的薄くシ、下層を
厚くする方が有利である。このようイ な点から、感光層の全厚のうち一以上は下層が占める必
要がある。好ましい層の厚さは下層が01〜1 mm 
、好ましくは0. Q 2〜0.5mmである。
本発明に用いられる支持体としては、スチール。
アルミニウム、銅、亜鉛などの金属素材、ポリエステル
、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル−1,トの合成樹脂
素材が挙げられ、形状としては板状のもの以外に、同筒
状のものも使用される。金属素材はそのまま使用するこ
ともできるが、)ノン酸処理。
クロメート処理、エツチング処理、砂目立処理を行った
ものや、亜鉛メッキ、クロムメッキなどのメッキを行っ
たものも使用できる。また防錆のためにエポキシ系塗料
などを塗布キュアしたものも可能である。さらに、感光
性樹脂層との接着性を良くするために9部分ケン化ポリ
酢酸ビニルとフェノール樹脂およびエポキシ樹脂から成
る接着剤や9部分ケン化ポIJ e酸ビニルと光重合性
モノマから成る層を塗布後、全面光硬化した接着層など
を設けたものも使用可能である。
本発明に使用する感光性樹脂組成物の通常の製造は、下
層用組成物として平均重合度200〜1000の部分ケ
ン化ポリ酢酸ビニルを水または水/アルコールの混合溶
媒に加熱溶解した後に、光重合性不飽和モノマや光開始
剤、場合によっては水酸基をもつ飽和化合物や熱安定剤
を添加して十分に攪拌し混合する。このようにして、下
層用の感光性樹脂溶液が得られる。上層用組成物は9部
分ケン化ポリ酢酸ビニルとして平均重合度が下層の部分
ケン化ポリ酢酸ビニルとして平均重合匿が下層の部分ケ
ン化ポI) 6%酸ビニルの1.25〜10.Q倍の範
囲にあるものを使用する以外は同様の手法で上層用感光
性樹脂溶液が得られる。
上記の感光性樹脂溶液から2本発明の積層構造をもつ感
光性樹脂版材を得るには、下記のような方法をとること
ができる。例えば、支持体上に下層用樹脂溶液を所定厚
さに流延した後に、乾燥装置で溶剤を除去し9次いでこ
の上に上層用樹脂溶液を所定厚さに流延した後に乾燥装
置で溶剤を除去する方法。また、乾式製膜法で下層用の
感光層シートを得た後に、このシートを支持体にラミイ
・−トシ1次いで上層用樹脂溶液を薄くこの上に塗布し
つつポリエステルフィルムなどのカバーフィルムをかぶ
せ、上層用樹脂m液の溶媒が下層シートに拡散すること
によって、上層の感光層を形成する方法もある。下層用
樹脂溶液の全部または大部分の溶媒を真空で留去した後
に、基板上に直接溶融製膜した後に、上層用組成物を同
様にしてこの上に溶融状態で流延する方法も可能である
このようにして得られた感光性樹脂版材の上層の表面に
イ・ガテイブまたはポジティブの原図フィルムを密着さ
せ、原図フィルムを通して超高圧水銀灯、高圧水銀灯、
メタルハライドランプ、キセノンランプ、カーボンアー
ク灯、ケミカル灯などからの活性光線を照射し、感光層
の露光部分に光重合を起こさせる。その後、中性水を入
れたブラシ式洗い出し機またはスプレ式洗い出し機″で
未露光部分を水中に溶解除去すると支持体上にレリーフ
像が得られる。
本発明の積層構造を有する感光性樹脂版材は凸版材とし
て使用されるときに最もその効果を発揮するが、平版材
、凹版材、孔版材、フォトレジストとして使用すること
も可能である。
以下に実施例で本発明をさらに具体的に説明する。
実施例1 下層用の感光性樹脂組成物の基体ポリマとしてケン化度
82モルチ、平均重合度6ooの部分ケン化ポl) Q
ll’酸ビニルを選んだ。この部分ケン化ポリ酢酸ビニ
ル100重量部をエタノール/水=50150(重量比
)の混合溶剤15o重量部に80 ’aで溶解した。次
いで、光X=不飽和モノマとしてプロピレングリコール
ジグリシジルエーテルとアクリル酸の付加反応物を70
重量部、相溶助剤としてジエチレングリコールを28重
量部、光開始剤としてジメチルベンジルケタール2重量
部、熱重合禁止剤としてハイドロキノンモノメチルエー
テルを0.1重量部添加して十分に攪拌混合した。
このようにして下層用の感光性樹脂溶液を得た。
上層用の感光性樹脂組成物の基体ポリマとしてケン化度
82モル幅、平均重合度1800のものを選んだ。この
ポリマ100重量部をエタノール/水−so/so(重
量比)の混合溶剤250重量部に80゛Cで溶解した。
次いで、光重合性モノマとして下層と同じものを70重
量部、ジエチレングIJ ml−ル28重量部、光開始
剤としてジメチルベンジルケタール2重量部、熱安定剤
としてハイドロキノンモノメチルエーテル01重量部を
添加して十分に攪拌混合して上層用感光性樹脂溶液を得
た。
このようにして得た下層用の感光性樹脂溶液をあらかじ
めエポキシ系接着剤を塗布しである厚さ250μのスチ
ール基板上に感光層の厚さが600μになるように流延
した後に60°Cのオープンに6時間入れて溶媒を除去
した。この基板で裏打ちされた下層の上に、乾燥後の厚
さが100μとなるように先に得られた、上層用の感光
性樹脂溶液を流延し、60’0のオープンに1時間入れ
て乾燥した。このようにして、基板を含む全厚が950
μの2層感光層を有する版材が得られた。
この版材の感光層上にテスト用坏ガフイルム(166線
6係、5係、10係網点、直径200μ。
300μ独立点、線幅50μ、70μの細線部あり)を
真空密着して、高圧水銀灯で2分間露光した。次いで、
中性水の入ったブラシ式洗い出し機(水温3 Q ’C
)で2分間で未露光部を完全に溶解除去してレリーフ像
を得た。
得られたレリーフは非常にシャープであり、3多線点、
200μ独立点、50μ細線など微細な部分才で完全に
再現していることを確認した。
比較例1 実施例1で得られた下層用感光性樹脂組成物を実施例1
と同じ基板上(感光層の厚さが700μとなるように流
延し、60℃のオープンに4時間入れて乾燥した。この
ようにして、1層構造の感光層から成る感光性樹脂版材
を得た。
この版材を実施例1と同様のテストイ・ガフイルレムを
使用し、同一条件で露光を行なった。次いで実施例1と
同じブラシ式洗い出し機で未露光部を実施例より10秒
短い1分50秒で完全に溶解除去して基板上にレリーフ
像を得た。
このレリーフを調べたところ、3係の網点は頂点が完全
に水中に溶出しており、5係の網点も部分的に欠けてい
ることがわかった。また、200μの独立点にショルダ
が溶出してシャープさがなく、50μの、細線にも欠け
が見られた。このように下層のみから成る版材は画像再
現性が不十分であった。
比較例2 実施例1の上層用感光性樹脂溶液を使用して。
実施例1と同じ基板上に感光層の厚さが700μとなる
ように流延し、60°Cのオープンに5時間入れて溶剤
を除去した。
このようにして得られた感光性樹脂版材を、実施例1と
同じイ・ガフイルムを使用し、同一条件で露光を行なっ
た。次いで、実施例1と同じブラシ式洗い出し機で現像
を行なったところ、未露光部分を完全に溶解除去するに
は6分間を要し、これは実施例1の3倍であった。
得られたレリーフ自体は実施例1で得られたものと同等
のシャプブさを有していたが、50μの細線は、現像時
間が余りに長いために水で膨潤して曲がりが発生してい
た。このように上層用の感光性樹脂層のみから成る版材
は、非常に長い現像時間が必要であり、水現像性の劣る
ことがわかった。
実施例2 下層用感光性樹脂組成物溶液として実施例1と全く同じ
ものを調整した。
上層用感光性樹脂用の部分ケン化ポリ酢酸ビニルとして
、ケン化度75モル係、平均重合度900のものを選ん
だ。この平均重合度は、下層用の部分ケン化ポリ酢酸ビ
ニルの平均重合度の150倍である。このポリマ100
重量部を、エタノール/水−60740(重量比)の混
合溶剤120重量部に加温溶解し9次いで下層と同じ光
重合性モノマを70重量部、相溶助剤としてジエチレン
グリコール28重量部、光開始剤としてジメチルベンジ
ルケタール2重量部、熱安定剤としてハイドロキノンモ
ノメチルエーテル01重量部を添加して十分に攪拌混合
した。
あらかじめポリエステル系接着剤を塗布した厚さ200
μのポリエステルフィルム上に、上層用感光性樹脂溶液
を乾燥後の厚さが700μとなるように流延し、60°
Cのオープンに5時間入れて溶剤を除去した。このよう
にして、ポリエステルフィルムで裏打ちされた感光層を
得た。この感光層上に、上層用の感光性樹脂溶液を厚さ
50μに塗布すると同時に1表面がケミカルエツチング
でマット化された厚さ100μのポリエステルフィルム
をラミイ・−トシた。このようにj−で、支持体と2層
の感光層の厚さの合計が950μのカバーフィルムつき
版材を得た。
この版材を、暗所に10日間保存して上層の溶剤が下層
に完全に拡散するのを待ってから、カバーフィルムをハ
ク離した。カバーフィルムをハク離した感光層表面は、
ケミカルエツチングのマット面が完全に転写したマット
形状をもっていた。
この版材表面は実施例1と同じイ・ガフイルムを非常に
容易に真空密着することができた。次いで。
ケミカル灯で6分間露光を行ない、水温60°Cのブラ
シ式洗い出し機で現像を行なった。現像時間は1分50
秒であり、実施例1よりも約10秒短い時間であった。
得られたレリーフを調べたところ、6幅細点。
200μ独立点、50μ細線など微細な部分まで十分再
現されていることを確認した。
実施例3 下層用の部分ケン化ポリ酢酸ビニルとして9ケン化度8
8モル係、平均重合度300のものを選んだ。このポリ
マ100重量部を、エタノール/水=40760.C重
量比)の混合溶剤100重量部に加温溶解した。次いで
、光重合性モノマとしてグリシジルメタクリレートとメ
タクリル酸の付加反応物を100重量部を添加し、さら
に分子量400のポリエチレングリコール40重量部、
光開始剤としてベンゾインメチルエーテル” M t 
部r熱安定剤としてトリフェニルフォスフイン2重量部
とt−ブチルカテコール0.1重量部を添加して十分に
攪拌混合した。このようにして、下層用の感光性樹脂溶
液を調製した。
上層用の部分ケン化ポリ酢酸ビニルとして、ケン化度8
8モル条、平均重合度1800のものを選んだ。このポ
リマの平均重合度は、下層用のポリマの6.0倍である
。上層用の部分ケン化ポリ酢酸ビニル100重量部をエ
タノール/水−40/60(重量比)の混合溶剤250
重量部に溶解した。次いで、下層と同じ光重合性モノマ
を120重量部1分子量400のポリエチレングリコー
ル20重量部、光開始剤としてベンゾインメチルエーテ
ル6重量部6耐熱安定剤としてトリフェニルフォスフイ
ン2重量部とt−ブチルカテコール0゜1重量部を添加
して十分に攪拌混合した。
下層用の感光性樹脂溶液をエポキシ系接着剤を塗布した
厚さ300μのアルミニウム支持体上に乾燥後の感光層
の厚さが300μとなるように流延し、60°Cのオー
ブンに2時間式れて溶剤を除去した。このアルミニウム
基板で裏打ちされた感光層上に、上層用の感光性樹脂溶
液を乾燥後の厚さが100μとなるように流延し、60
’Cのオーブンに1時間式れて乾燥した。このようにし
て。
全体の厚さが700μ、2層構造をもつ感光層の厚さが
400μの感光性樹脂版材が得られた。
この版材を、実施例1と同じ方法で露光し、実施例1と
同じ中性水の入ったブラシ式洗い出し機で現像したとこ
ろ、現像時間1分で未露光部分が完全に水中に溶解除去
されてレリーフ像が得られた。
得られたレリーフを調べたところ、微細な部分まで十分
再現されていることを確認した。この版材を使用して印
刷テストを行なったが、シャープな刷シ上がりの印刷物
が得られ、印刷中のしIJ−ツクラックなどのトラブル
も全く発生しなかった。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ケン化度60〜99モル係の部分ケン化ポリ酢酸ビニル
    と光重合性不飽和モノマからなる樹脂組成物を支持体上
    に2層に分けて積層塗設した感光性樹脂版材であって、
    支持体に接する下層の部分ケン化酢酸ビニルの平均重合
    度が200〜1000であり、上層の部分ケン化ポリ酢
    酸ビニルの平均重合度が下層の部分ケン化ポリ酢酸ビニ
    ルの平均重合度の1.25〜100倍の範囲にあること
    を特徴とする感光性樹脂版材。
JP21261782A 1982-12-06 1982-12-06 感光性樹脂版材 Granted JPS59102228A (ja)

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JP21261782A JPS59102228A (ja) 1982-12-06 1982-12-06 感光性樹脂版材

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JPH0363739B2 JPH0363739B2 (ja) 1991-10-02

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ID=16625638

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61103150A (ja) * 1984-10-26 1986-05-21 Toray Ind Inc 感光性樹脂組成物
WO2017038970A1 (ja) * 2015-09-03 2017-03-09 東レ株式会社 感光性樹脂印刷版原版および印刷版の製造方法
EP4212957A4 (en) * 2020-09-14 2024-03-13 Toray Industries, Inc. PHOTOSENSITIVE RESIN PRINTING PLATE PRECURSOR AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTING PLATE USING SAID PRECURSOR

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5245402A (en) * 1975-10-07 1977-04-09 Murakami Screen Kk Photoosensitive composition and photoosensitive film for screen plate
JPS5785048A (en) * 1980-11-17 1982-05-27 Daicel Chem Ind Ltd Exposed photosensitive diazo film for making screen plate

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5245402A (en) * 1975-10-07 1977-04-09 Murakami Screen Kk Photoosensitive composition and photoosensitive film for screen plate
JPS5785048A (en) * 1980-11-17 1982-05-27 Daicel Chem Ind Ltd Exposed photosensitive diazo film for making screen plate

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61103150A (ja) * 1984-10-26 1986-05-21 Toray Ind Inc 感光性樹脂組成物
WO2017038970A1 (ja) * 2015-09-03 2017-03-09 東レ株式会社 感光性樹脂印刷版原版および印刷版の製造方法
JPWO2017038970A1 (ja) * 2015-09-03 2018-01-18 東レ株式会社 感光性樹脂印刷版原版および印刷版の製造方法
CN107924129A (zh) * 2015-09-03 2018-04-17 东丽株式会社 感光性树脂印刷版原版及印刷版的制造方法
US20190039397A1 (en) * 2015-09-03 2019-02-07 Toray Industries, Inc. Photosensitive resin printing plate precursor and method of manufacturing printing plate
EP3346333A4 (en) * 2015-09-03 2019-05-01 Toray Industries, Inc. A LIGHT-SENSITIVE RESIN HARDBOARD AND METHOD FOR PRODUCING A PRESSURE PLATE
US10583679B2 (en) 2015-09-03 2020-03-10 Toray Industries, Inc. Photosensitive resin printing plate precursor and method of manufacturing printing plate
EP4212957A4 (en) * 2020-09-14 2024-03-13 Toray Industries, Inc. PHOTOSENSITIVE RESIN PRINTING PLATE PRECURSOR AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTING PLATE USING SAID PRECURSOR

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JPH0363739B2 (ja) 1991-10-02

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