JPS6160148B2 - - Google Patents
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- JPS6160148B2 JPS6160148B2 JP53012093A JP1209378A JPS6160148B2 JP S6160148 B2 JPS6160148 B2 JP S6160148B2 JP 53012093 A JP53012093 A JP 53012093A JP 1209378 A JP1209378 A JP 1209378A JP S6160148 B2 JPS6160148 B2 JP S6160148B2
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- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 19
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 239000002699 waste material Substances 0.000 claims description 14
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 13
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 11
- 238000005554 pickling Methods 0.000 claims description 11
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 10
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 7
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003011 anion exchange membrane Substances 0.000 description 2
- 238000005341 cation exchange Methods 0.000 description 2
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 description 2
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 description 1
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 description 1
- XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N copper(II) nitrate Chemical compound [Cu+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000007730 finishing process Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- NQNBVCBUOCNRFZ-UHFFFAOYSA-N nickel ferrite Chemical compound [Ni]=O.O=[Fe]O[Fe]=O NQNBVCBUOCNRFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
- C23G1/36—Regeneration of waste pickling liquors
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- General Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、銅及び硝酸を含有する廃液から、電
解により硝酸及び金属銅粉末を再生し、回収する
方法に関するものである。
解により硝酸及び金属銅粉末を再生し、回収する
方法に関するものである。
各種金属加工業における銅の酸洗仕上工程にお
いては、かなり高濃度で硝酸を含有する溶液が用
いられている。例えば銅条、銅線、銅パート又は
銅合金製品を仕上洗浄する場合には高濃度の硝酸
又は硝酸と硫酸の混合液が使用されている。とこ
ろでこのような場合に使用される酸溶液に共通す
る問題点は、作業量に応じて金属濃度の上昇、及
び酸濃度の低下をきたし、作業能率が次第に低下
してやがて使用限界に達するようになることであ
る。この結果、生成した酸溶液は、多くの場合専
門業者に引取らせるか、あるいは中和処理、凝集
沈殿処理後上澄液のみを排水することによつて処
理されているが、これには多額の経費が必要なた
め、経営上、経済的に多くの負担を与える原因と
なつている。
いては、かなり高濃度で硝酸を含有する溶液が用
いられている。例えば銅条、銅線、銅パート又は
銅合金製品を仕上洗浄する場合には高濃度の硝酸
又は硝酸と硫酸の混合液が使用されている。とこ
ろでこのような場合に使用される酸溶液に共通す
る問題点は、作業量に応じて金属濃度の上昇、及
び酸濃度の低下をきたし、作業能率が次第に低下
してやがて使用限界に達するようになることであ
る。この結果、生成した酸溶液は、多くの場合専
門業者に引取らせるか、あるいは中和処理、凝集
沈殿処理後上澄液のみを排水することによつて処
理されているが、これには多額の経費が必要なた
め、経営上、経済的に多くの負担を与える原因と
なつている。
他方、金属含有廃液を電解処理して、これより
金属を回収し、前記したような経済的負担を軽減
する試みもなされている。しかしながら、前記し
たような高濃度の酸溶液の場合、電解によりいつ
たん析出した金属が再び酸に溶解したり、析出し
た金属が陰極表面に付着して回収困難になる上
に、強酸に耐えうる電極材料として白金、ロジウ
ムのような高価な貴金属を使用しなければならら
ないため、工業的に実用化するには多くの難点が
ある。
金属を回収し、前記したような経済的負担を軽減
する試みもなされている。しかしながら、前記し
たような高濃度の酸溶液の場合、電解によりいつ
たん析出した金属が再び酸に溶解したり、析出し
た金属が陰極表面に付着して回収困難になる上
に、強酸に耐えうる電極材料として白金、ロジウ
ムのような高価な貴金属を使用しなければならら
ないため、工業的に実用化するには多くの難点が
ある。
本発明者らは銅又は銅合金製品の酸洗い廃液か
ら、簡単に金属銅及び硝酸を回収する方法を開発
するためにに鋭意研究を重ねた結果、電解装置に
工夫を加えるとともに、陰極側のPHを特定範囲内
に制御することにより、陰極側に金属銅を粉末状
態で析出させるとともに、陽極側に硝酸を再生し
うることを見出し、この知見に基づいて本発明を
なすに至つた。
ら、簡単に金属銅及び硝酸を回収する方法を開発
するためにに鋭意研究を重ねた結果、電解装置に
工夫を加えるとともに、陰極側のPHを特定範囲内
に制御することにより、陰極側に金属銅を粉末状
態で析出させるとともに、陽極側に硝酸を再生し
うることを見出し、この知見に基づいて本発明を
なすに至つた。
すなわち、本発明は、銅又は銅合金製品の酸洗
い工程で生じる銅及び硝酸を含有する酸廃液を、
両極のうちの少なくとも陽極をフエライト電極と
し、かつ陽極と陰極の間にアニオン隔膜とカチオ
ン隔膜との組合せ、あるいは複数の両性膜の組合
せにより陽極域、中間域及び陰極域を形成させた
装置内で、陰極域のPHを0.5〜2.0の範囲内に維持
しながら電解処理し、陽極域に硝酸を、陰極域に
粉末状態の銅を再生させることを特徴とする酸廃
液の処理方法を提供するものである。
い工程で生じる銅及び硝酸を含有する酸廃液を、
両極のうちの少なくとも陽極をフエライト電極と
し、かつ陽極と陰極の間にアニオン隔膜とカチオ
ン隔膜との組合せ、あるいは複数の両性膜の組合
せにより陽極域、中間域及び陰極域を形成させた
装置内で、陰極域のPHを0.5〜2.0の範囲内に維持
しながら電解処理し、陽極域に硝酸を、陰極域に
粉末状態の銅を再生させることを特徴とする酸廃
液の処理方法を提供するものである。
本発明方法においては、電極の中、少なくとも
陽極の方は、フエライト電極とする必要がある。
このようなフエライト電極としては、NiO5〜40
モル%とFe2O395〜60モル%からなるニツケルフ
エライト電極やCoO5〜40モル%とFe2O395〜60
モル%からなるコバルトフエライト電極が好適で
ある。陰極の方は必ずしもフエライト電極である
必要はなく、電解の際に慣用されている電極、例
えば鉄電極、炭素電極、チタン電極などでもよ
い。
陽極の方は、フエライト電極とする必要がある。
このようなフエライト電極としては、NiO5〜40
モル%とFe2O395〜60モル%からなるニツケルフ
エライト電極やCoO5〜40モル%とFe2O395〜60
モル%からなるコバルトフエライト電極が好適で
ある。陰極の方は必ずしもフエライト電極である
必要はなく、電解の際に慣用されている電極、例
えば鉄電極、炭素電極、チタン電極などでもよ
い。
本発明方法において、陽極と陰極の間に介在さ
せるアニオン隔膜は、電解に際しアニオンのみを
通過させる隔膜であつて、このようなものとして
は、セレミオンAMV、ASV及びDMV(いずれも
旭硝子社製、強塩基性陰イオン交換膜の登録商標
名)、ネオセプタAV−4T、AF−4T、AVS−4T
及びASF−4T(いずれも徳山曹達社製、強塩基
性陰イオン交換膜の登録商標名)などをあげるこ
とができる。また、カチオン隔膜は、電解に際
し、カチオンのみを通過させる隔膜であつて、こ
のようなものとしては、セレミオンCMV(旭硝
子社製、強酸性陽イオン交換膜の登録商標名)、
ネオセプタCL−25T、CH−45T及びC66−5T
(いずれも徳山曹達社製、強酸性陽イオン交換膜
の登録商標名)などをあげることができる。さら
に、両性隔膜は、電解に際し、陽極側から陰極側
へカチオンを、また陰極側から陽極側へアニオン
をそれぞれ通過させる性質をもつ隔膜であつて、
このようなものとしては、例えばネオセプタ
CSV(徳山曹達社製、両性膜の登録商標名)が
ある。
せるアニオン隔膜は、電解に際しアニオンのみを
通過させる隔膜であつて、このようなものとして
は、セレミオンAMV、ASV及びDMV(いずれも
旭硝子社製、強塩基性陰イオン交換膜の登録商標
名)、ネオセプタAV−4T、AF−4T、AVS−4T
及びASF−4T(いずれも徳山曹達社製、強塩基
性陰イオン交換膜の登録商標名)などをあげるこ
とができる。また、カチオン隔膜は、電解に際
し、カチオンのみを通過させる隔膜であつて、こ
のようなものとしては、セレミオンCMV(旭硝
子社製、強酸性陽イオン交換膜の登録商標名)、
ネオセプタCL−25T、CH−45T及びC66−5T
(いずれも徳山曹達社製、強酸性陽イオン交換膜
の登録商標名)などをあげることができる。さら
に、両性隔膜は、電解に際し、陽極側から陰極側
へカチオンを、また陰極側から陽極側へアニオン
をそれぞれ通過させる性質をもつ隔膜であつて、
このようなものとしては、例えばネオセプタ
CSV(徳山曹達社製、両性膜の登録商標名)が
ある。
本発明方法における電解は、通常の電解条件、
例えば電圧2〜100V、電流50〜500Aを用いて行
うことができる。電流密度は、アニオン隔膜とカ
チオン隔膜併用の場合、0.5〜5A/dm2、両性隔
膜の場合10〜50A/dm2の範囲が好適である。こ
の際、陰極域のPHを0.5〜2.0の範囲内に保持する
ことが必要であり、必要ならば適量の酸を添加し
て調節する。このPHが0.5よりも低くなると銅を
粉末状で回収することができないし、またPHが
2.0よりも高くなると金属の析出が十分に行われ
なくなる。
例えば電圧2〜100V、電流50〜500Aを用いて行
うことができる。電流密度は、アニオン隔膜とカ
チオン隔膜併用の場合、0.5〜5A/dm2、両性隔
膜の場合10〜50A/dm2の範囲が好適である。こ
の際、陰極域のPHを0.5〜2.0の範囲内に保持する
ことが必要であり、必要ならば適量の酸を添加し
て調節する。このPHが0.5よりも低くなると銅を
粉末状で回収することができないし、またPHが
2.0よりも高くなると金属の析出が十分に行われ
なくなる。
次に添附図面に従つて本発明方法をさらに詳細
に説明する。
に説明する。
第1図は、本発明方法においてアニオン隔膜と
カチオン隔膜の組合せを用いて行う実施態様の例
を示すフローシートであつて、電解槽1はアニオ
ン隔膜2とカチオン隔膜3により陽極室4、中間
室5′及び陰極室6に分離されており、陽極室4
には陽極としてフエライト電極7、陰極室6には
陰極として鉄電極8がそれぞれ配置されている。
カチオン隔膜の組合せを用いて行う実施態様の例
を示すフローシートであつて、電解槽1はアニオ
ン隔膜2とカチオン隔膜3により陽極室4、中間
室5′及び陰極室6に分離されており、陽極室4
には陽極としてフエライト電極7、陰極室6には
陰極として鉄電極8がそれぞれ配置されている。
酸洗層9からポンプ10によつて汲み上げられ
た銅及び硝酸を含有する酸洗廃液は、供給管11
を通つて中間室5に導入される。陽極7と陰極8
の間に電圧を印加し、電解を行うと、廃液中の銅
イオンはカチオン隔膜3を通つて陰極8に至り、
電荷を与えて金属銅粉末となり析出する。この
際、酸例えば硝酸又は硫酸の添加により、陰極室
6のPHを0.5〜2.0に調節することが必要である。
析出した銅粉末は、陰極室6の底部に設けられた
取出口12より取り出される。
た銅及び硝酸を含有する酸洗廃液は、供給管11
を通つて中間室5に導入される。陽極7と陰極8
の間に電圧を印加し、電解を行うと、廃液中の銅
イオンはカチオン隔膜3を通つて陰極8に至り、
電荷を与えて金属銅粉末となり析出する。この
際、酸例えば硝酸又は硫酸の添加により、陰極室
6のPHを0.5〜2.0に調節することが必要である。
析出した銅粉末は、陰極室6の底部に設けられた
取出口12より取り出される。
他方、電解によつて生じた陰イオンは、アニオ
ン隔膜2を通つて陽極7に至り、ここで硝酸とし
て再生される。この再生された硝酸は、排出管1
3を経て、酸洗層9へ返送循環させる。このよう
にして、円滑な酸洗処理が維持されるとともに金
属銅の回収がなされる。
ン隔膜2を通つて陽極7に至り、ここで硝酸とし
て再生される。この再生された硝酸は、排出管1
3を経て、酸洗層9へ返送循環させる。このよう
にして、円滑な酸洗処理が維持されるとともに金
属銅の回収がなされる。
次に、第2図は、5枚の両性隔膜を用いた本発
明の実施態様の例を示すフローシートであつて、
電解槽1は5枚の両性隔膜20,21,22,2
3及び24によつて陽極室4、陰極室6及び4個
の中間室25,26,27及び28に分離され、
陽極室4には陽極としてフエライト電極7、陰極
室6には陰極としてフエライト電極8がそれぞれ
配置されている。このように構成された電解装置
の陰極室以外の任意の室に、酸洗層9からポンプ
10によつて汲み上げた銅含有酸洗廃液を供給管
11を経て供給し、電解処理すると陰極室6に金
属銅粉末が析出する。この析出した金属銅粉末
は、取出口12より取り出される。他方、陽極室
4で再生された酸は、排出管13を通つて酸洗層
9へ返送循環される。この場合も、前記と同様、
酸の添加により陰極室6のPHを0.5〜2.0の範囲に
維持することが必要である。この両性隔膜を用い
る場合、この数を1枚にすると、陽極室の酸濃度
の上昇、金属分の減少、及び陰極室の酸濃度の減
少、陰極板上への金属析出はある程度認められる
が、その効率はあまり良好でない。したがつて、
両性隔膜は少なくとも2枚両極間に介在される必
要がある。
明の実施態様の例を示すフローシートであつて、
電解槽1は5枚の両性隔膜20,21,22,2
3及び24によつて陽極室4、陰極室6及び4個
の中間室25,26,27及び28に分離され、
陽極室4には陽極としてフエライト電極7、陰極
室6には陰極としてフエライト電極8がそれぞれ
配置されている。このように構成された電解装置
の陰極室以外の任意の室に、酸洗層9からポンプ
10によつて汲み上げた銅含有酸洗廃液を供給管
11を経て供給し、電解処理すると陰極室6に金
属銅粉末が析出する。この析出した金属銅粉末
は、取出口12より取り出される。他方、陽極室
4で再生された酸は、排出管13を通つて酸洗層
9へ返送循環される。この場合も、前記と同様、
酸の添加により陰極室6のPHを0.5〜2.0の範囲に
維持することが必要である。この両性隔膜を用い
る場合、この数を1枚にすると、陽極室の酸濃度
の上昇、金属分の減少、及び陰極室の酸濃度の減
少、陰極板上への金属析出はある程度認められる
が、その効率はあまり良好でない。したがつて、
両性隔膜は少なくとも2枚両極間に介在される必
要がある。
以上、2つの実施態様について説明したが、実
際にいずれの態様を選ぶかは、使用する隔膜の酸
に対する耐久性や電解条件などを考慮して決めら
れる。そして、このいずれの態様によつても、目
的とする金属銅粉末の回収及び硝酸の再生を同時
に、かつ良好な効率を行うことができる。
際にいずれの態様を選ぶかは、使用する隔膜の酸
に対する耐久性や電解条件などを考慮して決めら
れる。そして、このいずれの態様によつても、目
的とする金属銅粉末の回収及び硝酸の再生を同時
に、かつ良好な効率を行うことができる。
本発明方法によると、高価な貴金属めつき電極
を用いることなく、銅含有酸性廃液からの金属銅
の回収及び酸の再生を同時に、かつ効率よく行う
ことができるので、工業的方法として非常に有意
義である。
を用いることなく、銅含有酸性廃液からの金属銅
の回収及び酸の再生を同時に、かつ効率よく行う
ことができるので、工業的方法として非常に有意
義である。
次に実施例を示す。
実施例 1
第1図に示す装置において、アニオン隔膜とし
てセレミオンAMV、カチオン隔膜としてセレミ
オンCMV、フエライト電極として40モル%の酸
化ニツケルとFe2O3に換算して60モル%の酸化鉄
からなるニツケルフエライト電極をそれぞれ使用
し、硝酸銅40g/を含有する硝酸濃度15%の廃
液を陽極室4及び中間室5に10ずつ、陰極室6
に硝酸水溶液(PH1)10を入れ、電気分解し
た。この際の電解条件は次のとおりであつた。
てセレミオンAMV、カチオン隔膜としてセレミ
オンCMV、フエライト電極として40モル%の酸
化ニツケルとFe2O3に換算して60モル%の酸化鉄
からなるニツケルフエライト電極をそれぞれ使用
し、硝酸銅40g/を含有する硝酸濃度15%の廃
液を陽極室4及び中間室5に10ずつ、陰極室6
に硝酸水溶液(PH1)10を入れ、電気分解し
た。この際の電解条件は次のとおりであつた。
電流密度 4A/dm2
処理時間 50時間
廃液供給速度 2/分
電極間距離 120mm
隔膜間距離 100mm
このようにして、陰極室から銅粉末160gが回
収され、陽極室に硝酸濃度28.5%の酸が再生され
た。
収され、陽極室に硝酸濃度28.5%の酸が再生され
た。
実施例 2
第2図に示す装置において、両性膜としてネオ
セプタCSVを用い、実施例1と同様の廃液を、
同様の処理条件で電気分解した。
セプタCSVを用い、実施例1と同様の廃液を、
同様の処理条件で電気分解した。
このようにして、陰極室から銅粉末162gが回
収され、陽極室に硝酸濃度25.0%の酸が再生され
た。
収され、陽極室に硝酸濃度25.0%の酸が再生され
た。
第1図はアニオン隔膜とカチオン隔膜とを併用
する本発明方法のフローシート、第2図は両性膜
を用いる本発明方法のフローシートをそれぞれ示
す。図中符号1は電解槽、4は陽極室、5,2
5,26,27及び28は中間室、6は陰極室、
7は陽極、8は陰極である。
する本発明方法のフローシート、第2図は両性膜
を用いる本発明方法のフローシートをそれぞれ示
す。図中符号1は電解槽、4は陽極室、5,2
5,26,27及び28は中間室、6は陰極室、
7は陽極、8は陰極である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 銅又は銅合金製品の酸洗い工程で生じる銅及
び硝酸を含有する酸廃液を、両極のうちの少なく
とも陽極をフエライト電極とし、かつ陽極と陰極
の間にアニオン隔膜とカチオン隔膜との組合せ、
あるいは複数の両性膜の組合せにより陽極域、中
間域及び陰極域を形成させた装置内で、陰極域の
PHを0.5〜2.0の範囲内に維持しながら電解処理
し、陽極域に硝酸を、陰極域に粉末状態の銅を再
生させることを特徴とする酸廃液の処理方法。 2 陰極として鉄、炭素又はチタンを用いる特許
請求の範囲第1項記載の方法。 3 陰極域に硝酸又は硫酸を添加することにより
PHを0.5〜2.0に維持する特許請求の範囲第1項記
載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1209378A JPS54104439A (en) | 1978-02-06 | 1978-02-06 | Recovering method for metallic copper from waste acidic solution |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1209378A JPS54104439A (en) | 1978-02-06 | 1978-02-06 | Recovering method for metallic copper from waste acidic solution |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS54104439A JPS54104439A (en) | 1979-08-16 |
JPS6160148B2 true JPS6160148B2 (ja) | 1986-12-19 |
Family
ID=11795948
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1209378A Granted JPS54104439A (en) | 1978-02-06 | 1978-02-06 | Recovering method for metallic copper from waste acidic solution |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS54104439A (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0631857B2 (ja) * | 1983-06-13 | 1994-04-27 | 神鋼パンテック株式会社 | 電解除染方法 |
JP4709995B2 (ja) * | 2004-05-17 | 2011-06-29 | 国立大学法人富山大学 | 廃液に含有される有用金属の回収方法 |
FI124812B (fi) * | 2010-01-29 | 2015-01-30 | Outotec Oyj | Menetelmä ja laitteisto metallipulverin valmistamiseksi |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50140394A (ja) * | 1974-04-27 | 1975-11-11 | ||
JPS516803A (ja) * | 1974-06-10 | 1976-01-20 | Hitachi Ltd | Kinzokuyokaishorihoho oyobi sonosochi |
JPS5135395A (ja) * | 1974-09-20 | 1976-03-25 | Fuji Electric Co Ltd | |
JPS5135394A (ja) * | 1974-09-20 | 1976-03-25 | Fuji Electric Co Ltd | |
JPS51135173A (en) * | 1975-05-19 | 1976-11-24 | Asahi Glass Co Ltd | Method of treating waste liquor containing acids and metal salts there of |
-
1978
- 1978-02-06 JP JP1209378A patent/JPS54104439A/ja active Granted
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50140394A (ja) * | 1974-04-27 | 1975-11-11 | ||
JPS516803A (ja) * | 1974-06-10 | 1976-01-20 | Hitachi Ltd | Kinzokuyokaishorihoho oyobi sonosochi |
JPS5135395A (ja) * | 1974-09-20 | 1976-03-25 | Fuji Electric Co Ltd | |
JPS5135394A (ja) * | 1974-09-20 | 1976-03-25 | Fuji Electric Co Ltd | |
JPS51135173A (en) * | 1975-05-19 | 1976-11-24 | Asahi Glass Co Ltd | Method of treating waste liquor containing acids and metal salts there of |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS54104439A (en) | 1979-08-16 |
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