JPS5891691A - Cathode of gas laser tube - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To reduce power consumption while lengthening life by attaching a high melting-point material such as the tetraborate of rare earth elements onto a cathode base body metal under a melted state through plasma flame spraying and using the material as an emitter layer. CONSTITUTION:Ceramics with spinel structure for preventing abnormal discharge are melted and attached onto the outer surface of the cathode base body 2 manufactured by processing a metal, such as copper, iron, nickel, etc. or these alloy in pipe shape through plasma flame spraying, and employed as an insulating film 3. The material, abrasion thereof is little by the ion impact of the tetraborate or hexaborate of rare earth elements, the oxide of rare earth elements, the oxide of alkaline earth metals, etc., a work function thereof is small and the melting point thereof is high, is sprayed onto the inner surface of the pipe worked as the cathode of the cathode base body 2 through plasma flame spraying, and attached under the melted state, and the emitter layer 4 is formed.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は冷陰極型ガスレーザ管の陰極、特に陰極基体上
にプラズマ溶射によるエミツタ層を形成させたガスレー
ザ管の陰極′に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a cathode for a cold cathode gas laser tube, and particularly to a cathode for a gas laser tube in which an emitter layer is formed on the cathode substrate by plasma spraying.

従来のガスレーザ管の陰極はＣｕ、Ｆｅ、Ｎｉ　、Ｃｒ
、Ａｌ。The cathodes of conventional gas laser tubes are Cu, Fe, Ni, Cr.
, Al.

Ｚｒ　　等の金属単体もしくはそれらの合金を板状ある
いはパイプ状等に加工し、陰極として動作させない部分
にはガラス等で絶縁被覆した構成となっていた。しかし
、上記従来の陰極は融点が低く、又イオン衝撃に弱いた
め放電によるスパッタが激しく、このためこの陰極を用
いたガスレーザ管はスパッタ物質による封入ガスの物理
的吸着、即ち封入ガスのクリーンアップ現象を生じ、こ
のクリーンアップ現象による封入ガスの組成変化とガス
圧力の低下が、封入ガス圧力が比較的低く、かつ最適動
作ガス圧力範囲が狭いガスレーザ管の寿命を著しく短か
いものと（Ｌ′″ＣＩ″魁 又、従来の陰極を備えたガスレーザ管は放電電圧が高く
、このため駆動電源も大盤のものが必要にな９、充分な
レーザ発振出力を得るには大きな入力が必要で消費電力
が大きなものとなっていた。これは上記従来の陰極材の
仕事関数が大きく、冷陰極放電において放電電圧の大部
分を占める陰極降下電圧を上昇させていたことが原因で
あった。The structure was such that a single metal such as Zr or an alloy thereof was processed into a plate or pipe shape, and the portion that did not function as a cathode was insulated with glass or the like. However, the above-mentioned conventional cathode has a low melting point and is weak against ion bombardment, resulting in severe sputtering due to discharge.For this reason, gas laser tubes using this cathode require physical adsorption of the filler gas by the sputtering material, that is, a clean-up phenomenon of the filler gas. The change in the composition of the filler gas and the drop in gas pressure caused by this cleanup phenomenon can significantly shorten the life of a gas laser tube with a relatively low filler gas pressure and a narrow optimum operating gas pressure range (L'''CI'' Kaimata: Conventional gas laser tubes equipped with cathodes have a high discharge voltage, and therefore require a large drive power supply9.In order to obtain sufficient laser oscillation output, a large input is required, resulting in high power consumption. This was because the conventional cathode material had a large work function, which increased the cathode drop voltage, which accounts for most of the discharge voltage in cold cathode discharge.

具体例として、第１図に従来のガスレーザ管陰極の一例
と７しての筒型中空陰極を示すが、陰極１′はパイプ状
に加工され九Ｎ１よシなる陰極基体２′の外面にガラス
の絶縁被覆３′を施し九構造となっている。この陰極基
体金属であるＮｌは融点が１，４００℃と低くてイオン
衝撃にも御く、又その仕事関数が４５ｅＶと大きい丸め
、この陰極を使用し、例えばＨ・を封入ガス（ガス圧力
１１Ｔｏｒｒ）としたガスレーザ管の放電電圧は２５０
Ｖ（放電電流６００ｍＡ）であった。As a specific example, FIG. 1 shows an example of a conventional gas laser tube cathode and a cylindrical hollow cathode as shown in FIG. It has a nine structure with an insulating coating 3'. This cathode base metal, Nl, has a low melting point of 1,400°C and is resistant to ion bombardment, and has a large work function of 45 eV. ) The discharge voltage of the gas laser tube is 250
V (discharge current 600 mA).

以上述べ九スパッタによる寿命対策及び低電圧化対策と
しては、イオン衡機による摩耗が少く仕事−数の小さい
材料を陰極基体に付着層せた構造の陰極を使用すること
が考えられるが、上記特性を備えた材料′のうち融点の
高いもの拡従来一般に行われている方法で、陰極基体に
付着させることが困難であった。As mentioned above, as a measure to reduce the lifespan and reduce the voltage due to sputtering, it is possible to use a cathode with a structure in which a material with less wear due to an ion balance machine and a low work load is adhered to the cathode base. It has been difficult to attach materials with high melting points to the cathode substrate using conventional methods.

即ち、上記高融点材料をビークルを用いてインク状とし
、ガスレーザ管の陰極基体上に厚膜印刷によりプリント
した場合、材料を加熱溶融させて付着させる必要がある
が、材料が高融点のため充分な溶融が行えず材料の粒子
結合が弱く、又蒸着の場合には材料を蒸発させることが
難しく、たとえ蒸着できたとしても厚さが不十分なため
耐久性に乏しいという問題があった。That is, when the above-mentioned high melting point material is made into an ink form using a vehicle and printed on the cathode substrate of a gas laser tube by thick film printing, it is necessary to heat and melt the material to attach it, but since the material has a high melting point, it is not enough. It is difficult to evaporate the material in the case of evaporation, and even if it is possible to evaporate the material, it is insufficiently thick and has poor durability.

更に仕事関数の小さい材料は、一般に陰極基体金属より
もイオン化傾向が大きく、そのためメッキや静電塗装に
より厚く強固な、付着層を形成させることも困難であっ
た。Furthermore, materials with a small work function generally have a greater tendency to ionize than the cathode base metal, making it difficult to form a thick and strong adhesive layer by plating or electrostatic coating.

本発明はかかる実情に鑑みなされた亀ので、上記高融点
材料をプラズマ溶射によって陰極基体上に溶融した状態
で付着させてエミツタ層として形成したことにより、上
述の問題を解決したものである。The present invention was developed in view of the above circumstances, and the above-mentioned problems are solved by depositing the above-mentioned high melting point material on the cathode substrate in a molten state by plasma spraying and forming it as an emitter layer.

本発明によれば、イオン衝撃による摩耗が少く仕事関数
が小さい高融点材料を陰極基体に付着させた構□造の陰
極が得られたため、この陰極を使用したガスレーザ管は
長寿命で消費電力の少いものとまる。以下図面に基づき
本発明の詳細な説明する。According to the present invention, a cathode with a structure in which a high-melting point material with a small work function and low wear due to ion bombardment is attached to the cathode substrate has been obtained, so a gas laser tube using this cathode has a long life and low power consumption. A small amount will stop. The present invention will be described in detail below based on the drawings.

第２図、第５図及び第４図線本発明の７−実施例を示し
、それぞれ斜視図、横−面町、縦断面図である。本例の
ガスレーザ管陰極は中空陰極の一種である筒型中空陰極
で、１は陰極全体、２は陰極基体、５は絶縁被覆、４は
エミツタ層である。陰極基体２は従来の陰極材料、即ち
Ｃｕ。Figures 2, 5 and 4 show a seventh embodiment of the present invention, and are respectively a perspective view, a horizontal view, and a vertical sectional view. The gas laser tube cathode of this example is a cylindrical hollow cathode which is a type of hollow cathode, and 1 is the entire cathode, 2 is a cathode base, 5 is an insulating coating, and 4 is an emitter layer. The cathode substrate 2 is a conventional cathode material, namely Cu.

Ｆ・ｔＮｉ、Ｃｒ、ＡＩ、Ｚｒ　　等の金属あるいはそ
れらの合金をパイプ状に加工し、陰極として動作させな
い外面に異常放電防止のためスピネル構造のセラずツク
をプラズマ溶射て溶融付着させ、絶縁被覆３としている
。更に陰極基体２の陰極として動作させるパイプ内面に
は、イオン衝撃に強く仕事関数の小さい高融点材料をプ
ラズマ溶射により吹き付け、溶融した状態で付着させ、
工ミッタ層４を形成させている。プラズマ溶射ではプラ
ズマ内の温度が数千ないし、数万度に達し、融点の高い
材料を容易に溶かすことができる０ 本発明に使用する溶射材料、則ち、イオン衝撃による摩
耗が少なく、仕事関数が小さくて、かつ融点の高い材料
としては、希土類元素の４ホウ化物（ＹＢ４　、ＣＴｄ
Ｂ４等）、６はう化物（ＹＢ４゜ＬａＢ６　、　ＣｅＢ
６　、ＧｄＢ６等）希土類元素の酸化物（Ｙ２Ｑ５　。Metals such as F・tNi, Cr, AI, Zr, or their alloys are processed into a pipe shape, and a spinel-structured ceramic is plasma-sprayed and melted to adhere to the outer surface, which does not function as a cathode, to prevent abnormal discharge, and an insulating coating is created. It is set at 3. Furthermore, a high melting point material that is resistant to ion bombardment and has a small work function is sprayed onto the inner surface of the pipe that acts as a cathode of the cathode substrate 2 by plasma spraying, and is adhered in a molten state.
An emitter layer 4 is formed. In plasma spraying, the temperature within the plasma reaches several thousand to tens of thousands of degrees, making it possible to easily melt materials with high melting points. Examples of materials with a small value and a high melting point include tetraborides of rare earth elements (YB4, CTd
B4, etc.), 6-borides (YB4゜LaB6, CeB
6, GdB6, etc.) Rare earth element oxides (Y2Q5.

Ｌａ２Ｏ３、ＣｅＯ２、Ｇｄ２Ｏ３、Ｔ６０２　、等）
、アルカリ土類金属元素の酸化物（ＢａＯ、ＭｇＯｅ　
Ｓ　ｒＯ＋　ＣａＯ等）及びアルカリ土類金属元素の複
合金属酸化物、例えばモリブデンとの複合金属酸化物、
タングステンとの複合金属酸化物（ＢａＯ、Ｗ）３　、
ＭｇＯ、Ｗ）３等）、アルミニウムとの複合金属酸化物
（ａＭｇｏ　、ｂＡｌ　２０３　。La2O3, CeO2, Gd2O3, T602, etc.)
, oxides of alkaline earth metal elements (BaO, MgOe
complex metal oxides of alkaline earth metal elements, e.g. complex metal oxides with molybdenum,
Composite metal oxide (BaO, W) 3 with tungsten,
MgO, W)3, etc.), composite metal oxides with aluminum (aMgo, bAl203).

ａＢａＯ，ｂ８ｒｏ、ＣＡ１２０Ｌ等）などがある。aBaO, b8ro, CA120L, etc.).

上記材料のうち、希土類元素のほう化物は導電性である
が、希土類元素の酸化物、アルカリ（土類金属元素の酸
化物及びアルカリ土類金属元素の複合金属酸化物は絶縁
性である。尚、アルカリ土類金属元素の酸化物、モリブ
デンとの複合金属酸化物、タングステンとの複合金属酸
化物もしくはアルミニウムとの複合金属酸化物は、それ
ぞれ、アルカリ土類金属元素の炭酸塩、モリブデン酸塩
、タングステン酸塩もしくはアルミン酸塩をプラズマ溶
射することにより分解して得られる。Among the above materials, borides of rare earth elements are conductive, but oxides of rare earth elements, alkalis (oxides of earth metal elements, and composite metal oxides of alkaline earth metal elements) are insulating. , oxides of alkaline earth metal elements, composite metal oxides with molybdenum, composite metal oxides with tungsten, or composite metal oxides with aluminum are carbonates, molybdates, and molybdates of alkaline earth metal elements, respectively. Obtained by decomposing tungstate or aluminate by plasma spraying.

尚、イオン衝撃に対する強度はアルカリ土類金属の酸化
物のプラズマ溶射層よりも、複合金属酸化物により形成
されたプラズマ溶射層の方が強い。又、イオン衝撃によ
る摩耗の少い金属としては、モリブデン（Ｍｏ）、タン
グステン（Ｗ）。It should be noted that the strength against ion bombardment is stronger in a plasma sprayed layer formed of a composite metal oxide than in a plasma sprayed layer of an alkaline earth metal oxide. Also, examples of metals that are less abrasive due to ion bombardment include molybdenum (Mo) and tungsten (W).

ジルコン（Ｚｒ）等が挙げられるが、アルミニウム（Ａ
Ｉ）も通常その表両にアルミナ（Ａ１２０３）の薄い層
が形成されるため、イオン衝撃による摩耗が少い。Examples include zircon (Zr), but aluminum (A
Since a thin layer of alumina (A1203) is usually formed on both surfaces of I), there is little wear due to ion bombardment.

本発明においては、上記材料のうち、イオン衝撃に強く
て仕事関数が小さい導電性の材料はそのまま使用するか
、あるいはイオン衝撃に強い導電性の材料を混合して使
用する。例えば、希土類元素の４はう化物もしくは希土
類元素の６はう化物の単体又は混合体をそのｔｔｌある
いは上記希土類元素のほう化物の単体又は混合物とモリ
ブデン、タングステン、ジルコン及び表面にアルミナの
薄膜を形成したアルミニウムより成る群から選定される
一種類以上の材料を混合したものをプラズマ溶射により
溶融し、ガスレーザー管の陰極基体上にエミツタ層とし
て付着させる。In the present invention, among the above materials, conductive materials that are resistant to ion bombardment and have a small work function are used as they are, or are used in combination with conductive materials that are resistant to ion bombardment. For example, a thin film of alumina is formed on the surface of molybdenum, tungsten, zircon, and TTL of a rare earth element 4-boride or a rare-earth element 6-boride alone or in a mixture. A mixture of one or more materials selected from the group consisting of aluminum and aluminum is melted by plasma spraying and deposited as an emitter layer on the cathode substrate of the gas laser tube.

又、イオン衝撃に強くて仕事関数が小さいけれども絶縁
性を有する材料は、イオン衝撃に強くて仕事関数が小さ
い導電性の材料、もしくはイオン衝撃に強い導電性材料
もしくは両材料を混合して使用する。例えば、希土類元
素の酸゛化物、アルカリ土類金属元素の酸化物及びアル
カリ土類金属元素の複合金属酸化物よシなる群から選定
される一種類以上の材料と希土類元素の４はう化物、希
土類元素の６はう化物、モリブデン、ジルコン及び表面
にアルミナの薄層を形成したアルミニウムよりなる群か
ら選定される一種類以上の材料との混合材料をプラズマ
溶射により陰極基体上にエミツタ層として付着させる０ 上記材料の混合比率については、導電性材料と絶縁性材
料の混合の場合、導電性の点から導電材料を容量比で６
０％以上混入する必要があるＯ 又、仕事関数の小さい材料とそうでない材料の混合の場
合、は、仕事関数の小さい材料の混合比率が大きいほど
放電電圧特性が改善されることはいうまでもないが、混
合比率は必ｌ！に応じて任意に選ぶことができる。例え
ば、イオン衝撃に強く仕事関数が／」・さい材料として
ＬａＢ６　　とＢａＯ、Ａｌ２Ｏ５Ｏ混合材料（融点ｇ
ｏｏ　〜ｇｏｏ℃。In addition, the material that is resistant to ion bombardment and has a small work function but has insulating properties is a conductive material that is resistant to ion bombardment and has a small work function, or a conductive material that is resistant to ion bombardment, or a mixture of both materials. . For example, one or more materials selected from the group consisting of oxides of rare earth elements, oxides of alkaline earth metal elements, and composite metal oxides of alkaline earth metal elements, and tetrahydrides of rare earth elements; A mixture of one or more materials selected from the group consisting of rare earth element 6 ferrides, molybdenum, zircon, and aluminum with a thin layer of alumina formed on the surface is deposited as an emitter layer on the cathode substrate by plasma spraying. Regarding the mixing ratio of the above materials, in the case of mixing a conductive material and an insulating material, the capacitance ratio of the conductive material is 6 from the viewpoint of conductivity.
It is necessary to mix 0% or more of O.Also, in the case of mixing materials with a low work function and materials with a low work function, it goes without saying that the discharge voltage characteristics will be improved as the mixing ratio of the material with a low work function increases. No, but the mixing ratio is a must! You can choose as you like. For example, a mixed material of LaB6, BaO, and Al2O5O (melting point g
oo~goo℃.

仕事関数：２．０〜２．７１Ｖ）を厚さ２０〜８０ｕｍ
のエミツタ層として前記実施例に適用した場合、この陰
極を使用し、Ｈｅガスを封入ガス（ガ、ス圧力１１Ｔｏ
ｒｔ）とし九ガスレーザ管の放電電圧祉１７５　Ｖ−（
放電電流６００ｍＡ）となシ、エミツタ層のない従来の
陰極を使用し九ガスレーザ管の放電電圧よシも３０Ｘ低
い亀のとなった。又、陰極寿命は１０倍程度砥ばすこと
ができた。Work function: 2.0~2.71V) with a thickness of 20~80um
When applied to the above embodiment as an emitter layer of
rt) and the discharge voltage of nine gas laser tubes is 175 V-(
Using a conventional cathode without an emitter layer, the discharge current was 600 mA), and the discharge voltage was 30 times lower than that of the nine-gas laser tube. In addition, the life of the cathode could be increased by about 10 times.

最後に本発明に使用するプラズマ溶射について簡単に説
明する。第５図はプラズマ溶射に用いるプラズマ溶射ガ
ンの断面図を示し、溶射ガン５の陽極６と陰極７との間
に発生させたアーク放電８中にプラズマ用ガス９を高・
、圧で流入させてプラズマ流体を形成させ、更にこのプ
ラズマ流体を中心部に圧縮して発生させた熱的ピンチ現
象に゛よシプラズマ内の温度を上昇させ、超音速高温度
（数千ないし数万度）のプラズマ、即ちプラズマジェッ
ト１０として溶射ガン５のノズル１１から噴出させる。Finally, plasma spraying used in the present invention will be briefly explained. FIG. 5 shows a cross-sectional view of a plasma spray gun used for plasma spraying, in which a plasma gas 9 is heated to a high temperature during an arc discharge 8 generated between an anode 6 and a cathode 7 of the spray gun 5.
, the temperature inside the plasma increases due to the thermal pinch phenomenon that occurs when the plasma fluid is compressed into the center and supersonic high temperature (several thousand to several thousand The plasma is ejected from the nozzle 11 of the thermal spray gun 5 as a plasma jet 10.

　　゛ プラズマ溶射はこのプラズマジェット１０内に溶射材料
１２　（本発明の場合は粉末材料を使用）を供給し、プ
九メｉジェットの有する高熱を利用して材料１２を溶融
して被溶射物に吹き１　　　　付け・付着さゞ６方法″
ｅｓ載ｅｏ２２パ溶射は被溶射物である陰極基体をさ奢
１ど高温にすることなく、高融点材料を溶融付着させる
ことができるとともに、前述した中空陰極の実施例の様
に、従来の方法では非常に困難であった細管内面へのエ
ミツタ層形成を、溶射ガンのノズル形状を細くする等し
て細管内面へ材料を吹き付けることによシ容易に行い得
る。尚、１３は陽極６と陰極７との間の絶縁物、１４は
溶射ガン５の過熱防止用冷却水である。゛In plasma spraying, a thermal spraying material 12 (in the case of the present invention, a powder material is used) is supplied into the plasma jet 10, and the material 12 is melted onto the object to be thermally sprayed using the high heat of the plasma jet. Blowing 1 Attachment/adhesion 6 methods”
ES-mounted EO22 thermal spraying can melt and deposit high-melting point materials without raising the temperature of the cathode substrate, which is the object to be thermally sprayed. Formation of an emitter layer on the inner surface of a capillary tube, which was extremely difficult in conventional methods, can be easily achieved by spraying material onto the inner surface of the capillary tube by making the nozzle shape of the thermal spray gun narrower. Note that 13 is an insulator between the anode 6 and the cathode 7, and 14 is cooling water for preventing overheating of the thermal spray gun 5.

本発明のプラズマ溶射に使用するプラズマ用ガスは、溶
射材料に与える化学的作用を抑制する必要があるので、
環元性ガスを使用することが望ましい。即ち、冷陰極放
電の場合、プラズマ溶射によって陰極基体上に形成され
るエミツタ層は導電性を有する必要があり、プラズマ用
ガスによる酸化及び溶射中に混入する空気による酸化を
防止するため、希ガス又は希ガスを主体とした環元性ガ
スを使用することが望しい。Since the plasma gas used in the plasma spraying of the present invention needs to suppress the chemical effect on the spraying material,
It is desirable to use a cyclogenic gas. That is, in the case of cold cathode discharge, the emitter layer formed on the cathode substrate by plasma spraying must have conductivity, and in order to prevent oxidation by plasma gas and oxidation by air mixed during spraying, rare gas Alternatively, it is desirable to use a cyclic gas mainly composed of rare gases.

本発明では希ガス又は希ガスに水素もしくは窒素もしく
は双方を添加した混合ガスを使用しており、特にアルゴ
ンに水素を添加したプラズマ用ガスが好結果を示してい
る◇アルゴンは他の不活性ガスに比べ大きな原子である
からすみやかにイオン化して膨張しやすく、又水素はガ
スの環元性を強め、プラズマ温度を上昇させる。In the present invention, a rare gas or a mixed gas in which hydrogen or nitrogen or both are added to a rare gas is used. In particular, a plasma gas in which hydrogen is added to argon has shown good results. ◇Argon is used as an inert gas Since hydrogen is a large atom compared to hydrogen, it quickly ionizes and expands easily, and hydrogen also strengthens the cyclic nature of the gas, raising the plasma temperature.

以上述べた如く本発明によれば、高融点である丸めにガ
スレーザ管陰極のエミッタとして導入することが困難で
あっ光イオン衝撃に強く仕事関数の小さい材料を、プラ
ズマ溶射によって―融した状態でガスレーザ管の陰極基
体上にエミツタ層として付着させ九ため、緻密で強固な
エミツタ層を形成し喪陰極が得られ、この陰極を使用し
たガスレーザ管は原電圧で駆動でき、消費電力が少なく
てすむとともに、耐久性のある長寿命なものとなる。As described above, according to the present invention, a material that is resistant to photoion bombardment and has a small work function, which is difficult to introduce into a round shape having a high melting point as an emitter of a gas laser tube cathode, is melted by plasma spraying and then used as a gas laser beam. By depositing it as an emitter layer on the cathode substrate of the tube, a dense and strong emitter layer is formed and a mourning cathode is obtained. Gas laser tubes using this cathode can be driven with the original voltage, resulting in low power consumption and , it is durable and has a long life.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第１図は従来のガスレーザ管陰極の一例を示す斜視図、
第２図は本発明の一実施例のガスレーザ管陰極の斜視図
、第５図及び第４図は、それぞれ第２図の横断面図及び
縦断面図、第５図はプラズマ溶射ガンの断面図である。FIG. 1 is a perspective view showing an example of a conventional gas laser tube cathode;
FIG. 2 is a perspective view of a gas laser tube cathode according to an embodiment of the present invention, FIGS. 5 and 4 are a cross-sectional view and a vertical cross-sectional view of FIG. 2, respectively, and FIG. 5 is a cross-sectional view of a plasma spray gun. It is.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 １）陰極基体金属上にプラズマ溶射により溶融付着させ
たスパッタ率が低い高融点材料よりなる工ζツタ層を形
成したことｔ−特徴とするガスレーザ管の陰□極。 ２）陰極が中空陰極であることを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載のガスレーザ管の陰極０ ３）プラズマ溶射用プラズマガスが希ガス又は、希ガス
に水素もしくは窒素もしくは双方を添加した混合ガスで
あることを特徴とする特許請求の範囲第１項又は第２項
記載のガスレーザ管の陰極。 ４）　エミツタ層が希土類元素の４　ｔｌう化物もしく
は希土類元素の６はうイし物の単体又は混合体であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項ないし第５項のい
づれかに記載のガスレーザ管の陰極。 ５）エミツタ層が希土類元素の４はう化物もしくけ希土
類元素の６はう化物の単体又は混合体とモリブデン、タ
ングステン、ジルコン及び表面にアルミナの薄層を形成
したアルミニウムより成る群から選定される一種類以上
の金属との混合体であることを特徴とする特許請求の範
囲第１項ないし第３項のいづれかに記載のガスレーザ管
の陰極。 ６）　エミツタ層が希土類元素の酸化物、プルカリ土類
金属元素の酸化物及びアルカリ土類金属元素の複合金属
酸化物より成る群から選定される一種類以上の金属化合
物と、希土類元素の４はう化物。希土類元素の６はう化
物、モリブデン、タングステン、ジルコン及び表面にア
ルミナの薄層を形成したアルミニウムより成る群から選
定される一種類以上の金属又は金属化合物との混合物で
あることを特徴とする特許請求の範囲第１項ないし第５
項のいづれかに記載のガスレーザ管の陰極。[Scope of Claims] 1) A cathode for a gas laser tube characterized in that: 1) an ivy layer made of a high melting point material with a low sputtering rate is formed on a cathode base metal by melting and adhering by plasma spraying; 2) The cathode of the gas laser tube according to claim 1, wherein the cathode is a hollow cathode. 3) The plasma gas for plasma spraying is a rare gas, or a rare gas to which hydrogen or nitrogen or both are added. The cathode of a gas laser tube according to claim 1 or 2, characterized in that it is a mixed gas. 4) The emitter layer according to any one of claims 1 to 5, characterized in that the emitter layer is a rare earth element 4 tl oxide or a rare earth element 6 oxide alone or in a mixture. Cathode of gas laser tube. 5) The emitter layer is selected from the group consisting of rare earth element 4 ferrides or rare earth element 6 ferrides alone or in combination, molybdenum, tungsten, zircon, and aluminum with a thin layer of alumina formed on the surface. The cathode for a gas laser tube according to any one of claims 1 to 3, characterized in that it is a mixture with one or more metals. 6) The emitter layer contains one or more metal compounds selected from the group consisting of oxides of rare earth elements, oxides of plucidic earth metal elements, and composite metal oxides of alkaline earth metal elements, and 4 of the rare earth elements. Uride. A patent characterized in that it is a mixture with one or more metals or metal compounds selected from the group consisting of rare earth element hexaboride, molybdenum, tungsten, zircon, and aluminum with a thin layer of alumina formed on the surface. Claims 1 to 5
A cathode of a gas laser tube according to any of the above items.