JPS5888329A - エチレン・グリコ−ルの製造方法 - Google Patents

エチレン・グリコ−ルの製造方法

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JPS5888329A
JPS5888329A JP57186893A JP18689382A JPS5888329A JP S5888329 A JPS5888329 A JP S5888329A JP 57186893 A JP57186893 A JP 57186893A JP 18689382 A JP18689382 A JP 18689382A JP S5888329 A JPS5888329 A JP S5888329A
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    • C07C29/36Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring increasing the number of carbon atoms by reactions with formation of hydroxy groups, which may occur via intermediates being derivatives of hydroxy, e.g. O-metal
    • C07C29/38Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring increasing the number of carbon atoms by reactions with formation of hydroxy groups, which may occur via intermediates being derivatives of hydroxy, e.g. O-metal by reaction with aldehydes or ketones
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は1合成ガスとホルムアルデヒドとを。
特殊な触媒の存在下で、又、殆んど不活性なオキシ化炭
化水素溶媒(oxy11em暑t*d hydroca
rbonsolvent)の存在下で反応させる、エチ
レン・グリコールの製造方法に関する。
エチレン・グリコールは多くの重要な工業的用途をもつ
重要な化学製品である。例えば、冷凍剤又は冷却剤とし
て、ポリエステル製造の単量体として、溶媒として及び
商業的化学製品などの中間体として、大量のエチレン・
グリコールが使用されている。
一般的方法では、エチレン・グリコール及び対応し九ポ
リオール同族体は、エチレンのエチレン・オキシドへの
酸化と次の加水分解によって、エチレンから生成されて
いる。石油源から鰐導される原料の早期の高騰から、出
発物質としてオレフィンを使用しないエチレン・グリー
−ルの新製造方法をみ出す研究が続けられている。エチ
レン・グリコールを製造する新製造方法の1つは、−酸
化炭素と水素との混合物をホルムアルデヒドと反応させ
ることである0例えば、アメリカ特許第2、451.3
33号に記載されているように、ホルムアルデヒド、−
酸化炭素及び水素をコバルト触媒の存在下で反応させ、
エチレン・グリコール、高級ポリオール、グリ竜リンな
どを含むポリヒドロキシ化合物の混合物を製造すること
である。又。
エチレン−グリコール上1合成ガスとホルムアルデヒド
とを3価リン、ヒ素及びアンチモン化合物を含むコバル
ト触媒の存在下で反応させて製造することができる(日
本特許第76−128903号参照)、又、ホルムアル
デヒド、−酸化炭素及び水素からエチレン・グリコール
を製造するのにロジウム又はロジウム−含有化合物が使
用されて−いる(アメリカ特許第4.144.401号
参1ift)。
アメリカ特許第4.20 (L 765号には、エチレ
ン・グリー−ルを製造する2段#rが記載されており、
それでは、第1段で高温高圧でロジウム触媒の存在下で
グリコール拳アルデヒドを製造し1次に、グリコール・
アルデヒド中間体を還元して殆んどポリオール生成物を
含まないエチレン・グリコールを得ている。又、グリコ
ール・アルデヒドを製造する他の方法は次の文献に開示
されている:アメリカ特許第4920.753号、ドイ
ツ特許第2.741.589号、w−*yバ特許出履第
01002、908号。
これらのすべての先行技術の方法#−i1種以上の不利
な点をもっている。一般に、広範囲の生成物の混合物が
生成されるので、時間のかかる分離技術が必要である。
その上、大部分の方法で#−1.所期のエチレン・グリ
コールを得るこれらの方法の選択性が低い。
本発明の目的#′i1%殊の触媒を使用し、原料として
ホルム・アルデヒドと合成ガスとを使って。
エチレン・グリコールを製造する新規な方法を提供する
ことにある。
本発明の他の目的は、ホルムアルデヒドと合成ガスとか
ら温度、圧力の緩徐な条件下でエチレン・グリコールを
高い選択性で製造する方法を提供することである。
本発明では、ホルム・アルデヒド及び合成ガスをコバル
ト−含有先駆物質及びスズ−2又は、ゲルマニウム−含
有助触媒の存在下で、又、殆んど不活性なオキシ化炭化
水素溶媒の存在下で、加圧下で反応させてエチレン・グ
リコールを製造する。
この1段の方法でエチレン・グリコール及びメタノール
のエチレン・グリコールの多−混合物が生成される。
本発明の方法は次式で示される。
本発明の反応によってエチレン・グリコールの高変の選
択性が示される。
有利なことにFi、本発明で用いる触媒は1種以上の安
価なコバルト−含有先駆物質とスズ−1又は。
ゲルマニウム−助触媒と組み合せた触媒である。
その上反応条件で選ぶ低圧は、エチレン・グリコールが
優勢で有機副産物がメタノールである液体生成物を生滅
させる。
本明細書!は、触媒先駆物質と助触媒とから生成した触
媒を使用すると述べているが、この触媒はコバルト化合
物とスズ−又はゲルマニウム−化合物とより錯体を形成
している本ので、この点では本発明の触媒#i錯体触媒
と呼ぶ仁とができる。
本発明は、水素、−酸化貴素0@金物及びホルムアルデ
ヒドをコバルト−含有化合物よシなる触媒先駆物質の存
在下で殆んど不活性な炭化水素溶媒の存在下テ35.1
 K#1511 (500psjg ) 以上。
加圧下で反応させるエチレン・グリコールの製造方法に
おいて。
助触媒としてスズ−含有化合物又はゲルマニウム−含有
化合物の存在下で反応させる。
ことを特徴とするエチレン・グリコールの製造方法、で
ある。
所期のエチレン・グリコールを高い収量で生成する本発
明の選択性をもたせるために%−酸化炭素、水素及びホ
ルムアルデヒドを少くと4前記(1)式を溝達するよう
に充分に供給することが必要である:もっとも反応剤の
1種以上が化学量論酌量以上には存在してもよiけれど
も。
本発明の方法の実施に有用な触媒はコバルトをttr。
コバルト−含有先駆物質は、vkに述べるように、種々
の無機及び有機の化合物、錯体などである。コバルト含
有先駆物質に要求されることは、触媒がコバルトをイオ
ン状態で含むか又は−酸化炭素及び水素と結合して錯体
を形成した状態になっていることである。
コバルト含有先駆物質Fi1種々の異なる形態をとるこ
とができる。例えば、:yパル)Fi、酸化コバル)(
II)(Coo)tたは酸化コパル)(1,曹)(Co
g Oa )の場合のような酸化物の形態で反応混合物
に添加することができる。また1例えば、塩化コバル)
 (g)  (CoCtm)*塩化コバルト(璽)水利
物(CoCLm ・6Hs O)、臭化コバルト(II
) (CoBr* ) %沃化コパル)(In (Co
Is)および硝酸コバルト(鳳)水和物 (Co (N
Os )s・6−0)等のような鉱酸の塩として、また
は、き酸コバル) (1)、酢酸コバルト(It)、7
’0ピオン酸コバルト(履)、す7テン酸コノ(ルト、
コバルト・アセチルアセトネート等のような有機カルボ
ン酸塩として添加することもできる。
さらに、コバルトは、カルボニルまたはヒドロカルボニ
ル誘導体として反応帯域に添加してもよい。
この場合、好ましい例としてFi1ジコバルト・オクタ
カルボニル(C1J) s(Co )s ) 、コバル
ト・ヒドロカルメ′エル(HCo−(−C−qaLJ−
v−および)IJ7zニルホスフィンコバルト・トリカ
ルボニル争ダイマーなどのような置換カルボニル化合物
がある。
好ましいコバルト含有先駆物質としては、コバルト酸化
物、鉱酸のコバルト塩、有機カルポジ酸o=tパルト塩
、コバルトカルボニルまたはコバルトヒドロカルボニル
誘導体がある。これらのうち。
特に好ましいものは、塩化コバル)(1)、コバルト・
アセチルアセトネート、酢酸コパル)(1)−プロピオ
ン酸コバルト(1)、ジコバルト・オクタカルボニルで
ある。
本発明の方法でコバルト含有先駆物質と共に使用してよ
いスズ−含有助触媒は、又1次に示すように%種々の形
態をとっていてもよい:元素状形l11%スタニツク・
クロライド、スタナス・アイオダイド、スタニツク・ブ
ロマイドのようなハライドの形m%テトラフェニルチン
、テトラ−n−ブチルチン、ヘキサメチルジチン、テト
ラメチルチン、ジブチル働ジフェニルチンのようなヒド
ロカルゼニル・チン、トリメチルチン−クロライド、ジ
ー第3−ブチルチン・ジクロライド。
ジメチルチン・ジクロライド、メチルチン、トリクロラ
イド、フェニルチン−トリクロライド、トリエチルチン
・ブロマイド、トリメチルチン・ブロマイド、トリブチ
ルチン・ブロマイドのようなオルガノ−ハライド・スズ
化舎物、トリブチルチン・ハイドライドのような有機ス
ズ・ハイドライド、ジメチルチン嗜オ命シト、ジフェニ
ルチン・オキシドのような有機スズ酸化物、テン(厘)
カプロエート、トリブチルチン・アセテ−1m)17−
fi−プロピルチン・アセテートのようなカルボキシレ
ート及びスタナス・オキシド、スタエック・オキシドの
ような酸化物。
好ましいスズ−含有助触媒化合物は^イ降゛ロカルビル
ースズ化合物、オルガノチン・ハイドライド及びオルガ
ノハライド・チン化合物である。これらの中で、%に好
ましい化合物は、テトラ7エ二ルチン、トリブチルチン
・クロライド及びトリブチルチン◆ハイドライドである
本発明の方法でコバルト−含有先駆物質と共に使用して
よいゲルーrニウムー含有助触媒は、又。
次に示すように1種々の形態をとってよい:ゲルマニウ
ム・テトラクロライド、ゲルマニウム・ジアイオダイド
、ゲルマニウム・テトラブロマイドのようなハライド、
テトラ−n−ブチルゲルマニウム、テトラエチルゲルマ
ニウム、fk−5フエニルケルマニウム、テトラメチル
ゲルマンのようなハイドロカルビルゲルマニウム化合物
、ジフェニルゲルマニウム争クロライド、メチルゲルマ
ニウム倦トIJ クロライド、フェニルゲルマニウム・
トリクロライド、トリーn−ブチルゲルマニウム・アイ
オダイド、トリエチルゲルマニウム・タロライド、トリ
エチルゲルマニウム嗜アイオダイド、トリメチルゲルマ
ニウム辱クロライド、トリフェニルゲルマニウム・ブロ
マイド、トリフェニルゲルマニウム−クロライドのよう
なオルガノ−ハライドΦゲルマニウム化合物、トリフェ
ニル−ゲルマニウム−ハイドライドのような有機ゲルマ
ニウム−ハイ)’9イ)”、)17フエニルゲルマニウ
ム・アセテートのような有機ゲルマニウムeカルボキシ
レート、ゲルマニウム・ブトキシド、ゲルマニウム・エ
トキシド、ゲルマニウム・エトキシドのような有機ゲル
マニウム・アル;午シト。
好ましいゲルマニウム含有助触媒化合物は、オルガノ−
ハライド・ゲルマニウム化合物、ハイドロカルビルゲル
マニウム化合物及び有機ゲルマ二つト・ハイドライドで
あシ、特KIFFましい化合物#’i、)+7フエニル
グル!ニタムプロマイ)’s)vフェニルゲルマニウム
優ハイドライド、トリメチルゲルマニウムφクロライ)
’%)9フエニルゲルマニウム・クロライド、トリメチ
ルゲルマニウム−・ブロマイド、トリエチルゲルマニウ
ム・クロティド、テトラフェニルゲルマン及びテトラエ
チルゲルマンである。
コバルト−含有先駆物質及びスズ−又はゲル!−lムー
含有助触媒は所期のエチレン・y リ5−ルの合成〔式
(l)〕のために1反応反応物に別々に加えるか又Fi
l11以上の予めIlI製した錯体として加えて良い、
好オしい予め調製した錯体は次のドリアA中ル(テトラ
カルボニルコバルト)テン。
トリプルキル(テトラカルボニルコバルト)グルマニラ
^1及びトリアリール(テトラカルボニルコバルト)ゲ
ルマニウムであるニトリフェニル(テトラカルボニルコ
バルト)ゲルマニウム(mV)、トリメチル(テトラカ
ルボニルコバルト)ゲルマニラA (■)、  ) I
77チル(テトラカルボニルコバルト)チン(fv)。
これらの化合物は次の標準指導書に従って製造すること
ができる: 、デー・ジエイ・バトモーア(T) J−
Patomore )及びダブリュー・エイ・シー・グ
ラバA (W、A−C−Grahamによるインオルガ
ニック・ケ2ストリイ(inorg・Chcm)第5%
第981頁(1967年)。
コバルトの瓦原子当りに使用されるスズ又はゲルマニウ
ム化合物の瓦モル数はα01〜100 のfIIhi!
l内であり、好ましくは11〜5の範囲内であゐ。
本発明において使用することのできる触媒の量は、臨界
的でなく、広範囲の量で使用することができる。一般に
%本発明の新規製造方法は、目的とする生成物をかなり
の高収率で得ることができ石ように、1種以上のスズ−
又はグルマニラA −含有助触媒を併用した1種以上の
コバルト先駆物質を含む触媒の触媒有効量の存在下に行
う。反応は、反応混合物の全重量基準でI X 10−
’ wt−會で%t&は場合によりそれ以下のコバルト
量で進行する。
触媒の上限濃度は、触媒の価格、−酸化炭素および水素
の分圧1、操作温度等の種々の要素により、決定するこ
とができる。本発明の実施に@j、ては、一般的KFi
、反応混合物の全重量基準で、lX1()’−’〜10
wt1のコバルト量が好ましい。
ホルムアルデヒドに加えて、パラホルムアルデヒド及び
トリオキサンのような反応条件下でホルムアルデヒドを
放出することができる化合物を本発明の方法で使用して
よ−、しかし、好ましいアルデヒド#′i、ホルムアル
デとド及びパラホルムアルデヒドである。
本発明の実施に有用な溶媒は1種以上のオキシ化炭化水
素であり、このオキシ化炭化水素は炭素。
水素及び酸素からのみな抄、存在する一素原子“市の1
個はエーテル・グ〜−プ、エステル・グループ、ケトン
・カルボニル・グループ又はアルコールのヒドロキシ・
グループである。一般に、オキシ化炭化水素は炭素原子
3〜12個と好ましくは酸素原子最大3個とを含むもの
である。溶媒は。
本質的に反応条件下で不活性でなければならず。
常圧で少くとも40℃の正常沸点をもっていなければな
らず、又、メタノール及び他の酸素−含有反応生成物の
沸点以上の沸点をもっていて蒸留によって溶媒の回収が
容易にできるものであることが好ましい。
好ましいエステル−タイプの溶媒は次の脂肪族及びアク
リル性カルボン酸モノエステルであるニブチル・アセテ
ート、メチル・ベンゾエート、イソプロピル・イソ−ブ
チレート、プロピル巻フロビオネート、ジメチル・アジ
ペート。有用なアルコール−タイプの溶媒は次の1価ア
ルコールであル:シクロヘキサノール、1−ヘキサノー
ル、2−ヘキサノール、ネオペンタノール、2−オクタ
ツール、ケトン−タイプの溶媒は次の化合物であるニジ
タロヘキサノン%2−メチルーシクロへ中サノンのよう
な環状ケトン、2−ペンタノン、ブタノン、アセトフェ
ノンのような非環式ケトン。
溶媒として使用することができるエーテルには、環状、
非環状及び複素製式化合物がある。好ましいエーテルは
、1,4−ジオキサン及び1,3−ジオキサンのような
複素環式エーテルである。他に次の適当なエーテルがあ
るニジ−n−プロピル・エーテル、ジエチレン・グリコ
ール・ジプチル・エーテル、シフチル・エーテル、エチ
ル拳ブチルeエーテル、ジフェニル・エーテル、ヘゲチ
ル・フェニル−エーテル、アニソール、テトラヒドロフ
ランなど。前記のグループの中で最も有用な溶媒は、1
,4−ジオキサンなどのような単濃状、複素1式エーテ
ルで示されるエーテルである。
本発明の製造方法にお−て有効に実施することのできる
反応温度は、アルデヒド、圧力の選択。
特に%コバルト先駆物質及びスズ−又はゲルマニウム−
含有助触媒の種類および鰻度等を含む実験上の要素によ
り蜜化する。
加圧下に行う場合は、実施可能範囲は、50〜300℃
である。100〜250℃のより狭い温度範囲が好まし
い。
本発明の製造方法を35.1 Kll/cd (500
psig)以上の加圧下で行うと、目的のエチレン串グ
リコールを高収量で得ることができる。好ましい実施圧
力は70.5〜351 h/ai (1000〜500
0 psig)であるが351 Kg/cd (500
0qsig)以上でも目的のエチレン・グリコールを良
い収率で得ることができる。ことで示した圧力Fi、す
べての反応剤によ抄生成した全圧を示すものであるが、
実施例における反応圧の殆んどの部分が酸化炭素ないし
水素の分圧によって起こされたものである。
合成ガス混合物中に最初から存在する一酸化炭素および
水素の相対量は、流動的であり、これらの量は広範囲で
費化してよい。一般には、 CO:Hsのモル比Fi2
0:1 〜1:20.  好ましくは、5:1〜1:5
の範囲であ゛るが、この範囲外のモル比のものでも使用
することができる。パッチ方式においても可能であるが
、特に連続方式の場合は。
−酸化炭素−水素ガス状混合物は50vo1%tでの1
種以上の他のガスとともに使用すゐこともできる。こζ
で言う他のガスには、窒素、アルゴン、ネオン等の1種
または2種以上の不活性ガスが含まれ、tた。二酸化炭
素、メタン、i−ン、プロパン等のような炭化水素、ジ
メチルエーテル、メチルエーテルおよびジエチルエーテ
ルのようなエーテル類のような一酸化炭素の水素化条件
下に反応を受けないようなものも含まれ石。
本発明の製造方法において、高置の反応選択性を達成す
るためには、反応混合物中に存在する。
−酸化炭素、水素、アルデヒドの量を少くとも式(1)
の化学量論的量を満足するようにするべきである。必要
に応じて、化学量論量を超える過剰の一酸化炭素および
/または水素を九は反応物のいずれかを存在させるとと
もできる。
本発明の新規製遣方trFi、パッチ方式、準連続方式
または連続方丈のいずれでも実施することができる。触
媒は、バッチ方式で反応帯域に導入してもよく、まえ1
合成反応の工程の!M1.反応蕾域に連続的に、tたけ
、間けつ的に導入して4よい。
反応条件は、目的とするエチレン・グリコール生放物の
生成を促進するように調整する。そして。
目的生成物は、蒸II1分留、抽出等のような周知手段
により回収することができる。コバルト先駆物質、スズ
又はゲルマニウム助触媒の多い留分け。
必要に応じ、反応帯域に循環させることができ、追加し
て生成物を製造することができる。
本発明の生成物は下記の分析法の1種以上によって確認
することができる。即ち、気液クロマトグラフィ(GL
C)、赤外4I(IR)、質量分析。
核磁気共鳴1允素分析、カール・フィッシャー脣定試験
又は、これらの技術の組み合わせである。
又、コバルト、スズ及びゲルマニウムの分析は原子吸光
分光分析法によった。
次に1本発明の実施例について説明する。
実   施   例  1  試験番号AIガラス張シ
した45〇耐圧力容器に、1,4−ジオキサン 15.
0gK溶解したジコバルト・オクタカルボニル(Co、
 10ζリモル)、17フエニルゲルマニウム・11イ
ドライド (Ge−ts  fリモル)及ヒパラホルム
アルデヒド(α1モル)0混合物を装入し丸、この混合
物を窒素でフラッシュし1反応器をシールし1合成ガス
で7ラツシエし、合成ガス(Hs : Coモル比2:
1)で190〜/−(2700psig)にまで加圧し
攪拌しながら160℃に加熱した。4時間後、反応器を
冷却し、ガス圧167 KI/cd (2375psf
g )を記録し、ガス試料をとりガスの過剰をすてえ、
津い液体生成物21.7gを回収し良。
液体生成物は次の分析結果(Wt %’)を示した:液
体生成物を原子吸光分光分析法で分析し九ところ、この
生成物は最初K111人したコバルトを98wt嘔以上
含んでいた。固体生成物相はなかつた6代表的な排ガス
は次の分析結果(volチ)を示した: コバルト・オクタカルボニルに種々のスズ−及びゲルマ
ニウム−助触媒を組み合わせた触媒を使用して、実施例
1のようKして試験を行った。結果を第11!l!に示
す、第1表におiて、往生の反応器への装入量は、CO
%五〇ミリモル%  Ge/an 1.52す4ル* 
HCHOα14ル、1,4−ジ#+?ン15gを使用し
、操業条件は初期圧力舎威ガスCO対iモル比1:2で
190 Ktt/cd −(2700pg−g) 。
160℃、4時間であった。注すの液体生成物の分析は
エチレン◆グリ;−ルなどtiGLcでHmOはカール
Φフイツシアー法でHCHOはポーラミグラフ法で分析
し九、注Sのコバルト分析は原子吸光分光分析法により
た。
第1表をみると次のことが分かる。
(イ) コバルト−カルボニルに植々のスズ−又はゲル
マニウム−助触媒を組み合わせた触媒は、合成ガス及び
ホルムアルデヒドからエチレンゆグリコールを低圧で合
成するのに有効な触媒である。
(ロ)第1表の多くの試験において、エチレン・グリコ
ールが多い有機部分であった。例えば、実施例1におい
てグリコール対メタノールモル比は1.6:1である1 G−1代表的な合成は緩やかな温度及び圧力条件下で実
施することができる。
に) グリコールへのCO水添の後、溶液中のコバルト
回収率は、殆んど定量的であった。
(ホ) グリコールの収量及び溶液中のコバルト回収率
の点から最も有効な助触媒を次にあげるニトリフェニル
ゲルマニウム・ノ)イドライド(試験番号。
AI)、)リメチルゲルマニウム・ブロマイド(試験番
号、 A4 )、テトラフェニルゲルマン(試験番号、
Jt66)及びトリブチルチン・ノーイドライド(試験
番号、/l67)。
実 施 例五   試験番号 A11〜429実施例1
の方法に従って、コバルト・オクタカルボニル先駆物質
と種々のスズ−及びゲルマニウム−助触媒とを組み合わ
せた触媒を種々エーテル溶媒(ethereal 5o
lvent )中で種々の1L圧力1反応時間で、異っ
た初期ホルム・アルデヒド及びコバルト濃蜜で試験を行
った。試験結果を第2表に示す。第2表において、注1
の条件/fi装入コバルト(3ミリモル)、 Ge及び
5111C1,5ミリモル)、ハラホルムアルデヒド0
.1モル。
1.4−ジオキサン15gであった。注1は第1表注と
同じ、注ch、トリオキサンとしてGI、Cで同室した
。注dは二相生成物であったので、データは2行に記載
しており、第2行目は第之相の結果を示す。第2表にお
いて、Ph5Oはジフェニル・エーテル、THF!:t
テトラヒドロフラン、Prysけジ−n−プロピル・エ
ーテルである。注eの試験番号429Fi再循環の場合
を示し、データは2行く記載してお抄第1行目は出発時
、第2行目は終了時の組成を示す。
第2表をみると次のことが分かる。
(1)試験番号、屋16でVi、生成物溶液はエチレン
・クリコール4.6wt%、エチレン・f IJ コー
ル−モノメチル・エーテル1.9 wt *を含んでい
た。算出した全ダリコール含有量1d 6.5 wt−
でメタノール対グリコール重量比は1:53で、溶液中
のコバルト回収率は98 wt 4以上であった。
(2)広範囲の作業温度、圧力、反応時間にわたりグリ
コールの形成が認められた。パラホルムアルデヒドの転
化はこれらのパッチの試験では殆んど完全であった。
(3)このエチレン・グリコール合成における溶媒とし
ては、1,4−ジオキサン、ジフェニル・エーテル、1
ジーn−プロピル・エーテル、テトラヒドロフランを含
む種々のエーテル溶媒及び1,4−ジオキサン水溶液を
使用することができた。
実施例1の反応器にジコバルト・オクタカルボニル(C
o 2ミリモル)、トリフェニルゲルマン(Ge 2 
iリモル)、パラホルムアルデヒ)” (0,1モル)
を1,4−ジオキサン15g中の混合物に装入した。こ
の混合物を窒素で7ラツシユし合成ガス(Co対対電モ
ル比12)で7ラツシユし。
同シ合成カx テ190 K#/lsl (2700p
sig) ItC加圧し、次に、攪拌しながら160℃
に加熱した。
4時間反応させた後1反応器を冷却させ、ガス圧147
 h/ai  (2085psig )を記録し、カx
試料をと秒過剰ガスを棄てた。この結果、赤色液体生成
物21.6gを回収した。液体生成物は次の分析結果(
wtチ)を示した。
液体生成物中のコバルトは最初に装入したコパールトの
98 wt−以上であった。固体生成物はなかった。
次に、液体生成物を真空で蒸留しエチレン・グリコール
を蒸留部分として回収した。残った触媒を1,4−ジオ
キサン15gで洗って反応器に返した。この段階で、新
しいホルムアルデヒド(0,1モル)を加えて反応器を
シールし前記組成の合成ガスでフラッシュし同じ合成ガ
スで190 Kg/al(2700psig )にまで
加圧し160℃に4時間加熱し九。このようにしてエチ
レン・グリコールの合成を能率よく繰り返し、エチレン
・グリコールを粗液体生成物2A6gから真空で蒸留し
て回収した。液体生成物は次の分析結果(Wt % )
を示した。
液体生成物中のコバルトは最初に装入したコバルトの9
8wtチ以上であった。固体生成物相はなかった。
実   施   例5.   試験番号 431実施例
1の方法に従って1反応器にトリフェニル(テトラカル
ボニルコバルト)ゲルマニウム(fV)(Ge3ミリモ
ル)、ホルムアルデヒド(0,1モル)を1,4−ジオ
キサン15g中の混合物を装入した。この混合物を窒素
で7ラツシユし反応器をシールし合成ガス(Co対対電
モル比12)でフラッシュし、同じ合成ガスで190に
#/j(2700psig ) K加圧り、 次に、 
攪拌LIkがら160℃に加熱した。4時間反応させた
後1反応st−冷却すセカX 圧C163Kp/ai 
(2325psjg))を配録しガスの試料をとり過剰
ガスを棄てた。この結果、赤色とけ〈色の液体生成物2
1.3gを回収した。液体生成物は次の分析結果(Wt
 9G)を示した。
液体生成物中のコバルトは最初和装入したコバルトの8
6 wt Sであった。
実紬例1及び5の方法に従って、 トリメチル(テトラカルボニルコバルト)ゲルマニウム
(■)、トリブチル(テトラガルボニルコバルト)チン
(fV)及びトリフェニル(テトラカルボニルコバルト
)チン(IV) 錯体(3ミリモル)を使用して1合成
ガス及びホルムアルデヒド’kW料としてエチレン・グ
リコール及びエチレン・グリコール・モノメチル・エー
テルを合成する際の有効性について試験した。試験結果
を次の第3表に示す。第3表において、注1の条件tf
co(3ミリモル)、  HCHO(0,1モル)、1
.4−ジオキサン15g1初期圧力190 KF/cI
I(2700psig)、合蔽ガスのco対市 モル比
1:2、温度160℃1反応時間4時間であった。
/ /′ 7/ \ 7/ /

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 水素、−酸化炭素の混合物及びホルムアルデヒドをコバ
    ルト−含有化合物よりなる触媒先駆物質の存在下で殆ん
    ど不活性な炭イし体素溶媒の存在下で35.1〜/j 
     (500paig )以上の加圧下で反応させるエチ
    レン・グリコールの製造方法にお−て。 助触媒としてスズ−含有化合物又はゲルマニウム−含有
    化合物の存在下で反応させる。 ことを特徴とするエチレン・グリコールの製造方法。 (2)前記反応混合物を温度50〜300℃に加熱する
    。4I許請求の範囲第(1)項記載の方法。 (3)方法を圧力 70.3〜5514/ai(100
    0〜50004sjg)で行う、lll1許請求の範囲
    第(1)〜(2)項の内いずれか1項記載の方法。 (4)前記コバルト−含有先駆物質が・、コバルトの酸
    化物、鉱酸のコバルト塩、有機カルボン酸のコバルト塩
    、コバルト・カルボニル又ハコバルト・ヒドロカルボニ
    ル誘導体の1種以上よりなる本のゼある。特許請求の範
    囲第(1)〜(3)項の内いずれか1項記載の方法。 (6)前記コバルト・含有先駆物質が酸化コバルト、塩
    化コバルト、沃化コバルト、硝酸コバルト、硫酸コバル
    ト、酢酸コバルト、プロピオン酸コバルト、コバルト・
    アセチルアセトネート又はジコバルト・オクタカルボニ
    ルで6ル、 %許11求の範囲第(4)項記載の方法。 (6)前記助触媒がトリブチルチン参−イドライド。 トリブチルチン・クロライド、テトラ7エエルチン、ト
    リフェニルゲルマニウム・/1イドライド、トリエチル
    ゲル1ニウム・クロライド、トリフェニルダルマニウム
    −プロマイ)’、)リメチルゲルマニウム・ブロマイド
    、テトラ7二二ルゲルマン又はテトラエチルゲルマンで
    あゐ。 特許請求の範囲第(1)〜(5)項の内いずれか1項記
    載の方法。 (ア)前記コバルト−含有先駆物質及び前記助触媒を予
    め調製した錯体として使用する。特許請求の範囲第(1
    1〜(3)項の内いずれか1項記載の方法。 (8)前記予め調製した錯体が、トリブチル(テトラカ
    ルボニルコバルト)チン(lv)、トリフェニル(テト
    ラカルボニルコバルト)ゲルマニウム(■)、又は、ト
    リメチル(テトラカルボニルコバルト)ゲルマニウム(
    w]である。4I許請求の範囲第(7)項記載の方法。 (9)溶媒が1.3−ジオキサン% 1,4−ジオキサ
    ン。 ジーn−プロピル会エーテル、ジフェニル令エーテル又
    はテトラヒドロフランである%特許請求の範囲第(1)
    〜(8)項の内いずれか1項記載の方法。
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