JPS588517A - ガス選択透過性複合膜の製造方法 - Google Patents

ガス選択透過性複合膜の製造方法

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JPS588517A
JPS588517A JP10675781A JP10675781A JPS588517A JP S588517 A JPS588517 A JP S588517A JP 10675781 A JP10675781 A JP 10675781A JP 10675781 A JP10675781 A JP 10675781A JP S588517 A JPS588517 A JP S588517A
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film
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Koichi Okita
晃一 沖田
Shingo Ishiguro
石黒 信吾
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Sumitomo Electric Industries Ltd
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Sumitomo Electric Industries Ltd
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D69/00Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by their form, structure or properties; Manufacturing processes specially adapted therefor
    • B01D69/12Composite membranes; Ultra-thin membranes
    • B01D69/125In situ manufacturing by polymerisation, polycondensation, cross-linking or chemical reaction
    • B01D69/127In situ manufacturing by polymerisation, polycondensation, cross-linking or chemical reaction using electrical discharge or plasma-polymerisation

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  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Manufacture Of Porous Articles, And Recovery And Treatment Of Waste Products (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はプラズマ重合によって得られた架橋を有するガ
ス選択透過性複合膜の製造方法に関するものである。近
年混合物質分離技術として、これまでの蒸留、晶析、抽
出、吸着、クロマトグラフィーなどの方法に変わって、
選択透過性膜を用いる方法がさかんに検討されている。
選択透過性膜は、省エネルギー、省資源を指向した分離
技術として開発の要求が高い5本発明も上記目的を効率
的に達成するため、ガス選択透過性複合膜を提供せんと
してなされたものである。
膜分離技術としては、逆浸透法、限外濾過法、イオン交
換膜、さら・に比較的新しい技術として有機液体選択膜
、イオン選択膜、気体分離膜があるがなかでも気体分離
膜については、はとんど実用化されていない。気体分離
膜が工業的に遅れている理由としては、高いガス分離選
択性と透過性を有する素材が少ないため、一段での濃縮
では高濃度のものが得られず、多段方式にしなければな
らなくなり、大型になりすぎて実用に適さなくなってし
まうからである。このような背景の中で本発明者は、ガ
ス分離選択性、透過性、強度等の物性をすべて満足させ
る素材を開発する為、ガス分離選択性の秀れている素材
、透過性の秀れている素材、これらを支持する素材を各
々異なった製造方法を用いて、複合化することを試み本
発明を完成したものである。
即ち耐熱性と強度については既に市販されている多孔性
高分子素材の中から目的に合致したものを選択する。多
孔性のポリスルホン、ポリイミド等でも良いが、セルロ
ースエステル、塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリカー
ボネート、ポリビニルアルコール等はあまり好ましくな
い。しかし耐熱性と強度の点からは四弗化エチレン樹脂
からなる多孔性支持体が最も好ましく、また耐薬品性も
同時に満足される利点がある。
一方ガスの透過性については、シロキサン化合物が非常
に秀れていることが知られている。シロキサン化合物を
用いた場合でも、実用に供する為には、数10μあるい
はそれ以下にしなければならず、気体透過の際の圧力に
耐えうる強度の秀れた高分子量のものを均一に薄く積層
する必要がある。
本発明者は、シロキサン化合物のなかでも、シリコンゴ
ムのような高分子量の素材とそれを溶解するトリクレン
、キシレン、ベンゼン、トルエン等の有機溶剤と混合し
t1支持体に薄く塗布し、加硫、硬化させることによっ
てガス透過性のすぐれた積層膜ができることを見出した
。なお、有機溶剤は、シロキサン化合物を希釈し、加硫
、硬化以前に蒸発させてしまうため、その希釈濃度によ
って加硫硬化後のシロキサン化合物の膜厚を調整するこ
とができる。特にシロキサン化合物の′希釈濃度を50
重量係以下にすると;非常に薄く均一な膜が得られた。
シロキサン化合物を加硫、硬化した後、その表面に、プ
ラズマ重合薄膜を積層し、ガス分離選択性を向上させる
。ガス分離選択性の秀れてtする素材は、透過性が悪い
為膜厚を可及的に薄くする必要がある。プラズマ重合膜
は、2tor、r以下の雰囲気でグロー放電時の放電時
間を変化させる事で膜厚を操作する事が可能で、たとえ
ば0.1μ以下の厚みにすることもできる。また重合性
のガスの流量やグロー放電時の放電出力の増減によって
も膜厚は増減するが、これらの条件はこの分野の技術に
習熟している者にとって比較的容易′に最適化できる。
またガスの流量や放電出力の増減によって、薄膜の形成
から粉萩体の形成、架橋密度の変化等も、容易に調整で
きる。
重合性のガスとしては、極薄膜化しても亀裂を生じない
でガス分離選択性の秀れた膜の得られるものを選択する
必要がある。本発明者は、第三級炭素又は第三級型有機
ケイ素のプラズマ電合膜がこの要求性能を満足すること
を見出し、本発明を完成することができた。
以上詳述したように、かなり限定した条件のも5− とで製造された複合膜は、混合ガスの選択透過性におい
て極めて秀れた特性を有しており°、省エネルギー的な
ガス分離方法として工業に寄与するところ大である。
以下には本発明を実施例によって説明する。
実施例1 フロロボアFP−022(平均孔径0.22μ、住友電
工製四弗化エチレン樹脂多孔質膜)の表面に、ドクター
ナイフを用いてトルエンで希釈した常温加硫型シリコン
ゴム(KE8475T、信越化学部)を塗布した後、2
4時間常温加硫して積層薄膜を得た。
第1表にナイフの設定厚みゴムの濃度、膜厚、酸素の透
過速度POg%酸素の窒素に対する選択透過係数POi
 / PN *の関係を示す。
6− シリコンゴムとして他の常温加硫型(KE4457゜信
越化学級)に変えたこと以外は実施例1と同条件で積層
膜を製造した。第2表にその結果を示す。
第  2  表 実施例8 第三表に示すような各種の加熱加硫型シリコンゴムをト
ルエンで20%重量濃度の過酸化物(トーレRC−2、
)−レ・シリコーン製)を混合し、8時間攪拌して溶解
した。この溶液をフロロボアFP−022の表面に、ド
クターナイフを用いて塗布し、120°Cで30分間加
硫しゴムの積層薄膜を得た第三表にはその特性を示す。
第  3  表 ※l トーレシリコーン製 ※2酸素の透過速度、単位はx”7m”・Sec −c
s+Hg9一 実施例4 実施例2の実験7の方法で製造したシリコンゴムの積層
薄膜をプラズマ反応装置の中央に七ット、し系内をOJ
 t o r rに排気した後、ビニルトリメチルシラ
ンの蒸気を流速5 tne/wm 、:導入し、高周波
18.56MH2,10Wの出力で25分間プラズマ重
合した。得られた複合膜のガス透過速度は、酸素ガスが
8.77 X 10 cm”7cm” ・Sec −c
rnHg 僧素ガス、は2.76X10m7α2・Se
c・α珈、となりガス選択透過性は3.18を示した。
実施例5 プラズマ反応装置に送入する重合ガスを、ビニルトリメ
チルシランからスチレンにしその流速を10me/−に
変更したこと以外は、実施例4と同条件で得た複合膜の
ガス透過速度を測定したところ、酸素ガスは’ 5.5
9 X 10 cm8/cm” ・Sec ・onHg
、窒素ガスは1.40X10 an”/crn” ・S
ec ・cmHgとなり、ガス選択透過性は8.99を
示した。
10− 手続補正書(方式) 昭和56年12月7日 特許庁長官 島田春樹 殿 1、事件の表示 2、発明考案の名称 ガス選択透過性複合膜の製造方法 3、補正をする者 事件との関係    特許出願人 住所     大阪市東区北浜5丁目15番地名称(2
13)  住友電気工業株式会社代表者1社長亀井正夫 生代理人 住 所      大阪市此花区島屋1丁目1番8号住
友電気工業株式会社内 昭和56年11月24日 6、補正の対象 明細書 7゜補正の内容 タイプ印書により鮮明に記載した明細書を別紙の如く提
出します。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)多孔性高分子膜にシロキサン化合物を塗布する工
    程、加硫、硬化させる工程、次いで2torr以下の雰
    囲気でグロー放電下に重合性のガスを導入してプラズマ
    重合薄膜を積層する工程とからなることを特徴とするガ
    ス選択透過性複合膜の製造方法。
  2. (2)シロキサン化合物とそれを溶解する有機溶剤混合
    溶液であって、その1度が50重量係以下に希釈した状
    態で多孔性高分子膜に塗布することを特徴とする特許請
    求の範囲第一項の製造方法。
  3. (3)重合性ガスが、第三級炭素を含む化合物又は第三
    級型有機ケイ素化合物から選ばれたもので、2torr
    以下の雰囲気に導入してプラズマ重合薄膜を積層するこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第一項の製造方法。
  4. (4)多孔性高分子膜が、耐熱性、耐薬品性の四弗化エ
    チレン樹脂からなり繊維と結節とからなる多孔性構造を
    有し、これにシロキサン化合物を塗布する工程からなる
    ことを特徴とする特許請求の範・囲第−項の製造方法。
JP10675781A 1981-07-08 1981-07-08 ガス選択透過性複合膜の製造方法 Expired JPS5924845B2 (ja)

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