JPS586903B2 - ブンセキソウチヨウサンプリングソウチ - Google Patents
ブンセキソウチヨウサンプリングソウチInfo
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- JPS586903B2 JPS586903B2 JP3843575A JP3843575A JPS586903B2 JP S586903 B2 JPS586903 B2 JP S586903B2 JP 3843575 A JP3843575 A JP 3843575A JP 3843575 A JP3843575 A JP 3843575A JP S586903 B2 JPS586903 B2 JP S586903B2
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- Japan
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- diluter
- dilution
- ejector
- clean air
- air
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は分析装置に係り、特に煙道排ガス中のばいじん
濃度などエアロゾル測定装置に使用するに好適な希釈器
を備えたサンプリング装置に関する。
濃度などエアロゾル測定装置に使用するに好適な希釈器
を備えたサンプリング装置に関する。
エアロゾル測定装置の如く、低濃度の粒子秋物質しか測
定できない測定装置を用いて、煙道排ガスの如き高濃度
のはいしんを測定する場合、サンプルガスを希釈して測
定することが必要である。
定できない測定装置を用いて、煙道排ガスの如き高濃度
のはいしんを測定する場合、サンプルガスを希釈して測
定することが必要である。
本発明はこのような場合に必要な希釈器を備えたサンプ
リング装置に関するものであるが、以下エアロゾル測定
装置を例にとって説明する。
リング装置に関するものであるが、以下エアロゾル測定
装置を例にとって説明する。
エアロゾルとは固体または液体粒子の混在した気体のこ
とをいい、最近光散乱方式のエアロゾル測定装置を煙道
排ガス中のばいじんの連続目動測定に利用することが多
い。
とをいい、最近光散乱方式のエアロゾル測定装置を煙道
排ガス中のばいじんの連続目動測定に利用することが多
い。
しかしながら煙道排ガス中のばいじん濃度は、光散乱方
式エアロゾルに測定装置の測定限度以上であることが多
いため、ばいじん濃度に応じ1〜1000倍の清浄空気
でサンプルガスの希釈を行う必要がある。
式エアロゾルに測定装置の測定限度以上であることが多
いため、ばいじん濃度に応じ1〜1000倍の清浄空気
でサンプルガスの希釈を行う必要がある。
希釈方式としては本発明者等によるクローズタイプ(特
願昭47−29572号、特願昭47−124203号
および特願47−124204号)とオープンタイプ(
特願昭49−49757号)がある。
願昭47−29572号、特願昭47−124203号
および特願47−124204号)とオープンタイプ(
特願昭49−49757号)がある。
前者クローズタイプでは希釈率が大きくなるほど希釈用
清浄空気量も多くポンプ等の装置が大形となる。
清浄空気量も多くポンプ等の装置が大形となる。
また希釈後測定に必要なサンプルガスの残りを除湿除じ
んするだめの処理装置が必要であり装置が大形かつ構成
が複雑になる欠点があり、かかる欠点のない方式として
後者オープンタイプが提供されている。
んするだめの処理装置が必要であり装置が大形かつ構成
が複雑になる欠点があり、かかる欠点のない方式として
後者オープンタイプが提供されている。
第1図は従来技術になるオープンタイプ希釈方式の構成
を示すもので、煙道1内のサンプリングノズル3より煙
道排ガス2の一部が希釈器4に吸引され、清浄空気送入
管5より送入された清浄空気と混合して希釈が行われる
が、煙道排ガス2の希釈器4への吸引は希釈器4の内部
をインジエクタ構造とし、インジエクタノズル6から希
釈器4に送入される清浄空気量に対応した吸引力が生ず
ることにより行はれる。
を示すもので、煙道1内のサンプリングノズル3より煙
道排ガス2の一部が希釈器4に吸引され、清浄空気送入
管5より送入された清浄空気と混合して希釈が行われる
が、煙道排ガス2の希釈器4への吸引は希釈器4の内部
をインジエクタ構造とし、インジエクタノズル6から希
釈器4に送入される清浄空気量に対応した吸引力が生ず
ることにより行はれる。
エアロゾル測定装置8にはポンプ(図示せず)が内蔵さ
れていて、希釈後の低濃度エアロゾルは導入管7を介し
エアロゾル測定装置8に一定流量で吸引されてばいじん
濃度の計測が行われる。
れていて、希釈後の低濃度エアロゾルは導入管7を介し
エアロゾル測定装置8に一定流量で吸引されてばいじん
濃度の計測が行われる。
9は清浄空気流量を示す流量計、10はフィルタ、11
はポンプ、12は清浄空気送入量を設定および調節する
ためのバルブである。
はポンプ、12は清浄空気送入量を設定および調節する
ためのバルブである。
かかる希釈方式では清浄空気送入量が増せばサンプリン
グノズル3から希釈器4に吸収される排ガス量もそれに
応じて増し希釈率は一定に維持される。
グノズル3から希釈器4に吸収される排ガス量もそれに
応じて増し希釈率は一定に維持される。
したがって清浄空気送入量を変えることにより希釈率は
一定に維持しながらサンプリングノズル3における吸引
ガス量を変えることができ、サンプリングノズル3にお
ける吸引ガス流速を煙道排ガス2の流速に合わせる等速
吸引サンプリングのだめの設定を清浄空気送入量を変え
ることにより設定できる。
一定に維持しながらサンプリングノズル3における吸引
ガス量を変えることができ、サンプリングノズル3にお
ける吸引ガス流速を煙道排ガス2の流速に合わせる等速
吸引サンプリングのだめの設定を清浄空気送入量を変え
ることにより設定できる。
また希釈率はインジエクタノズル60口径により変わり
、希釈率の異なるいくつかの口径を有するインジエクタ
ノズル6を用意し、ノズル6を取外し交換可能にして排
ガス2のばいじん濃度に応じノズル6を選択し希釈率を
設定している。
、希釈率の異なるいくつかの口径を有するインジエクタ
ノズル6を用意し、ノズル6を取外し交換可能にして排
ガス2のばいじん濃度に応じノズル6を選択し希釈率を
設定している。
しかし、このようなオープンタイプ希釈方式ではサンプ
リングノズル3における等速吸引サンプリングの設定を
清浄空気送入量により行うため選択できる希釈率に限度
があシ特に5倍程度より小さい低希釈率が得られないこ
と、ばいじん濃度に応じ希釈率を選定する場合その都度
インジエクタノズル6の交換が必要なこと、また希釈率
が連続的に選定できないという欠点がある。
リングノズル3における等速吸引サンプリングの設定を
清浄空気送入量により行うため選択できる希釈率に限度
があシ特に5倍程度より小さい低希釈率が得られないこ
と、ばいじん濃度に応じ希釈率を選定する場合その都度
インジエクタノズル6の交換が必要なこと、また希釈率
が連続的に選定できないという欠点がある。
本発明の目的は、上記した従来技術の欠点をなくし、等
速吸引サンプリングのだめの設定が行え希釈率1(希釈
なし)から1000倍程度ないしそれ以上の希釈率まで
ばいじA7濃度に応じ連続した希釈率の設定が行え、か
つノズル等の交換を行わすに外部で任意に希釈率の設定
が行える希釈器を備えだエアロゾル測定装置用サンプリ
ング装置を提供するにある。
速吸引サンプリングのだめの設定が行え希釈率1(希釈
なし)から1000倍程度ないしそれ以上の希釈率まで
ばいじA7濃度に応じ連続した希釈率の設定が行え、か
つノズル等の交換を行わすに外部で任意に希釈率の設定
が行える希釈器を備えだエアロゾル測定装置用サンプリ
ング装置を提供するにある。
本発明の特徴は、オープンタイプ希釈方式を採用したエ
アロゾル測定装置において、従来技術のインジエクショ
ン効果に対しエジエクション効果を利用して被測定試料
を希釈器に導入するようにし、また希釈率1〜10倍程
度の希釈器を数段力スケードに接続することにより1〜
1000倍ないしそれ以上の希釈率が任意に連続して選
定できかつ希釈率の選定がノズル等を交換することなく
希釈器に送入する清浄空気量を変えることにより行える
ようにしたことにある。
アロゾル測定装置において、従来技術のインジエクショ
ン効果に対しエジエクション効果を利用して被測定試料
を希釈器に導入するようにし、また希釈率1〜10倍程
度の希釈器を数段力スケードに接続することにより1〜
1000倍ないしそれ以上の希釈率が任意に連続して選
定できかつ希釈率の選定がノズル等を交換することなく
希釈器に送入する清浄空気量を変えることにより行える
ようにしたことにある。
以下本発明を第2図および第3図を用いて詳細に説明す
る。
る。
第2図は本発明の一実施例を示す原理構成図で、第2図
により動作を説明する払まず大気中の空気がポンプ11
bにより吸引され、流量計9bを介して空気送入管16
によりエジエクタ15に送入される。
により動作を説明する払まず大気中の空気がポンプ11
bにより吸引され、流量計9bを介して空気送入管16
によりエジエクタ15に送入される。
この際送入空気量の調整はバルブ12bを調整して加減
する。
する。
エジエクタ15に一定流量で空気が送入されるとエジエ
クション効果により送入空気量に対応した吸引力を生じ
、サンプリングノズル3から吸引管14内に煙道排ガス
2を吸引する。
クション効果により送入空気量に対応した吸引力を生じ
、サンプリングノズル3から吸引管14内に煙道排ガス
2を吸引する。
かかる構成になるサンプリング装置については、本発明
者等によわ先に出願しており〔特願昭50−6367号
(特公昭55−26404号公報)〕、詳細説明は省略
するが、本発明は前記サンプリング装置にサンプルガス
を清浄空気により希釈するだめの希釈装置を組合せたサ
ンプリング装置を提供するにある。
者等によわ先に出願しており〔特願昭50−6367号
(特公昭55−26404号公報)〕、詳細説明は省略
するが、本発明は前記サンプリング装置にサンプルガス
を清浄空気により希釈するだめの希釈装置を組合せたサ
ンプリング装置を提供するにある。
すなわち、吸引管14に吸引された煙道排ガス2の一部
は導入管17により希釈器18aに導入され、清浄空気
送入量19より送入される清浄空気と混合して希釈が行
われるが、残りの排ガスはエジエクタ15に送スした空
気とともに煙道内へ排出される。
は導入管17により希釈器18aに導入され、清浄空気
送入量19より送入される清浄空気と混合して希釈が行
われるが、残りの排ガスはエジエクタ15に送スした空
気とともに煙道内へ排出される。
吸引管14から希釈器11への被測定試料(以下サンプ
ルガスという)の導入は、エジエクタ15と同一構造の
エジエクタ15aに空気送入管16aを介しポンプ11
cにより大気中の空気を送入するときエジエクション効
果により生ずる吸引力により行われる。
ルガスという)の導入は、エジエクタ15と同一構造の
エジエクタ15aに空気送入管16aを介しポンプ11
cにより大気中の空気を送入するときエジエクション効
果により生ずる吸引力により行われる。
一方、希釈器18aへの清浄空気の送入は、清浄空気送
入管19を介しポンプ11により大気中の空気を導入し
フィルタ10により導入空気を清浄化して行われる。
入管19を介しポンプ11により大気中の空気を導入し
フィルタ10により導入空気を清浄化して行われる。
すなわち、エジエクタ15aに空気送入管16aより送
入する空気を一定流量で送入すれば、エジエクタ15a
には一定した吸引力を生じ、清浄空気送入管19より希
釈器−83へ送入する清浄空気量を変えることにより、
希釈器18aに導入されるサンプルガス量が変わり、希
釈器18a内でのサンプルガスと清浄空気の混合比が変
わって連続して任意の希釈率の希釈を行うことができる
。
入する空気を一定流量で送入すれば、エジエクタ15a
には一定した吸引力を生じ、清浄空気送入管19より希
釈器−83へ送入する清浄空気量を変えることにより、
希釈器18aに導入されるサンプルガス量が変わり、希
釈器18a内でのサンプルガスと清浄空気の混合比が変
わって連続して任意の希釈率の希釈を行うことができる
。
次に希釈器18a内より希釈されたサンプルガス(以下
希釈サンプルガスという)の一部を導入管17aを介し
て希釈器18bに導入し、清浄空気送入管19より分流
して送入される清浄空気でふたたび希釈を行うが、残り
の希釈サンプルガスはエジエクタ15aに送入された空
気とともに煙道内へ排出される。
希釈サンプルガスという)の一部を導入管17aを介し
て希釈器18bに導入し、清浄空気送入管19より分流
して送入される清浄空気でふたたび希釈を行うが、残り
の希釈サンプルガスはエジエクタ15aに送入された空
気とともに煙道内へ排出される。
希釈器18aから希釈器18bへの希釈サンプルガスの
導入は、エジェクタ15および15aと同一構造のエジ
エクタ15bに、空気送入管16aより分流して送入さ
れる送入空気とエジエクタ15bのエジコクション効果
により生ずる吸引力により導入管17aを介して行われ
る。
導入は、エジェクタ15および15aと同一構造のエジ
エクタ15bに、空気送入管16aより分流して送入さ
れる送入空気とエジエクタ15bのエジコクション効果
により生ずる吸引力により導入管17aを介して行われ
る。
希釈器18b内でさらに希釈された希釈サンプルガスの
一部は、エアロゾル測定装置8に内蔵さわるポンプによ
りエアロゾル測定装置8に一定流量例えば100l/h
rで吸引されてばいじん濃度の計測が行われるが、残り
の希釈サンプルガスはエジエクタ15bに送入された空
気とともに煙道内へ排出される。
一部は、エアロゾル測定装置8に内蔵さわるポンプによ
りエアロゾル測定装置8に一定流量例えば100l/h
rで吸引されてばいじん濃度の計測が行われるが、残り
の希釈サンプルガスはエジエクタ15bに送入された空
気とともに煙道内へ排出される。
かかる構成および動作になるサンプリング装置で、希釈
器18aおよび18bの希釈率は1段当り1〜10倍程
度とし、したがって第2図に示すように希釈器を2段に
構成することにより1〜100倍の希釈を行い、希釈器
およびエジエクタを増して3段構成とすれば1〜100
0倍の希釈を行うことができる。
器18aおよび18bの希釈率は1段当り1〜10倍程
度とし、したがって第2図に示すように希釈器を2段に
構成することにより1〜100倍の希釈を行い、希釈器
およびエジエクタを増して3段構成とすれば1〜100
0倍の希釈を行うことができる。
また、希釈率1倍とは希釈を行わないことで、清浄空気
の伽入をバルブ12を閉じて停止すれば、吸引管14に
吸引された煙道排ガスの一部は希釈器18aに導入され
、さらにその一部が希釈器18bに導入され、またさら
にその一部がエアロゾル測定装置8に導入され、希釈を
必要としない低濃度ばいじんについては直接排ガスをエ
アロゾル測定装置8に導入して計測が行われる。
の伽入をバルブ12を閉じて停止すれば、吸引管14に
吸引された煙道排ガスの一部は希釈器18aに導入され
、さらにその一部が希釈器18bに導入され、またさら
にその一部がエアロゾル測定装置8に導入され、希釈を
必要としない低濃度ばいじんについては直接排ガスをエ
アロゾル測定装置8に導入して計測が行われる。
第2図で9〜9cはエジェクタ送入空気量および希釈用
清浄空気量を指示させる流量計で、12〜12cはこれ
ら空気量を調節するだめのバルブを示す。
清浄空気量を指示させる流量計で、12〜12cはこれ
ら空気量を調節するだめのバルブを示す。
また、13は希釈器、エジエクタおよび空気送入管等を
支えるフランジである。
支えるフランジである。
第3図は、第2図の希釈器18aおよびエジェクタ15
aの構造を示す一実症例で、希釈器18およびエジエク
タ15bも同じものが使用される。
aの構造を示す一実症例で、希釈器18およびエジエク
タ15bも同じものが使用される。
第3図により希釈器18aの作用を説明するが、第2図
と同一部は同じ符号で示し説明の重複をさける。
と同一部は同じ符号で示し説明の重複をさける。
エジエクタ15aのノズル21とレデューサ22で構成
される通路に空気送入管16aより空気が送入されると
、ノズル21の先端近傍が負圧になり、導入管17より
サンプルガスが希釈器18aに吸引される。
される通路に空気送入管16aより空気が送入されると
、ノズル21の先端近傍が負圧になり、導入管17より
サンプルガスが希釈器18aに吸引される。
一方、希釈用の清浄空気は清浄空気送入管19から第2
図のポンプ11により供給され希釈器18a内に導入さ
わるが、前記エジェクタ15aの負圧は清浄空気の導入
にも作用し、清浄空気の送大量が多くなるほど導入管1
7から希釈器18a内へのサンプルガスの導入量は減少
して希釈器18a内に導入されるサンプルガス量と清浄
空気量の比が変わり希釈率が変わる。
図のポンプ11により供給され希釈器18a内に導入さ
わるが、前記エジェクタ15aの負圧は清浄空気の導入
にも作用し、清浄空気の送大量が多くなるほど導入管1
7から希釈器18a内へのサンプルガスの導入量は減少
して希釈器18a内に導入されるサンプルガス量と清浄
空気量の比が変わり希釈率が変わる。
また、希釈器18a内へのサンプルガスおよび清浄空気
の導入には前記エジエクタ15aの負圧のほかに第2図
のエジェクタ15bKよシ生じた負圧も導入管17aを
介して加わるが、エジェクタ15bの負圧をエジェクタ
15aの負圧より大きくなるように、エジエクタ15b
およびエジエクタ15aに第2図のポンプ11cから送
入する空気量を配分するか、エジエクタ15bおよびエ
ジエクタ15a内のノズルとレデューサの関係寸法を選
定して、導入管17aにより希釈器18b内の清浄空気
あるいはサンプルガスが希釈器18a内へ逆流すること
を防いでいる。
の導入には前記エジエクタ15aの負圧のほかに第2図
のエジェクタ15bKよシ生じた負圧も導入管17aを
介して加わるが、エジェクタ15bの負圧をエジェクタ
15aの負圧より大きくなるように、エジエクタ15b
およびエジエクタ15aに第2図のポンプ11cから送
入する空気量を配分するか、エジエクタ15bおよびエ
ジエクタ15a内のノズルとレデューサの関係寸法を選
定して、導入管17aにより希釈器18b内の清浄空気
あるいはサンプルガスが希釈器18a内へ逆流すること
を防いでいる。
20は導入管17から導入されるサンプルガスと清浄空
気送入管19から送入される清浄空気の混合を十分に行
うだめのオリフイスである。
気送入管19から送入される清浄空気の混合を十分に行
うだめのオリフイスである。
かかる構成および動作による希釈装置で希釈率の選定は
、あらかじめ一定濃度のエアロゾルを吸引させて第4図
に示す清浄空気送入量と希釈率の検量線を求め、この検
量線より清浄空気送入量を第2図のバルプ12および1
2aと流量計9により設定することにより行われる。
、あらかじめ一定濃度のエアロゾルを吸引させて第4図
に示す清浄空気送入量と希釈率の検量線を求め、この検
量線より清浄空気送入量を第2図のバルプ12および1
2aと流量計9により設定することにより行われる。
以上説明したように本発明の実施例によれば、希釈器へ
の被測定試料の導入にエジェクション効果を利用して行
い、希釈用清浄空気の希釈器への導入は独立して外部ポ
ンプにより行うため、希釈率1(希釈なし)から連続し
て希釈率の設定が可能なこと、希釈器を数段カスケード
に接続することにより高い希釈率まで連続した希釈率で
希釈が行えるとともに希釈器1段当シの希釈率可変範囲
を小さくできるためポンプ等の容量が小さくなり装置が
小型軽量化できること、希釈率の設定が希釈用清浄空気
の送大量を設定することで行えるため操作取扱いが容易
なこと、また、エジエクション効果により被測定試料の
導入を行い測定器に必要な被測定試料量以外はすべて煙
道内に排出されるため余分な被測定試料の処理装置を必
要としない分析装置用サンプリング装置を提供できると
いう顕著な効果がある。
の被測定試料の導入にエジェクション効果を利用して行
い、希釈用清浄空気の希釈器への導入は独立して外部ポ
ンプにより行うため、希釈率1(希釈なし)から連続し
て希釈率の設定が可能なこと、希釈器を数段カスケード
に接続することにより高い希釈率まで連続した希釈率で
希釈が行えるとともに希釈器1段当シの希釈率可変範囲
を小さくできるためポンプ等の容量が小さくなり装置が
小型軽量化できること、希釈率の設定が希釈用清浄空気
の送大量を設定することで行えるため操作取扱いが容易
なこと、また、エジエクション効果により被測定試料の
導入を行い測定器に必要な被測定試料量以外はすべて煙
道内に排出されるため余分な被測定試料の処理装置を必
要としない分析装置用サンプリング装置を提供できると
いう顕著な効果がある。
なお、第2図の実施例ではエアロゾル測定装置を例にと
って本発明のサンプリング装置を説明したが、本発明は
これに限定されるものでなく、例えば炎光光度計式亜硫
酸ガス分析計その他被測定試料を希釈して分析しなけれ
ばならない高感度分析装置に適用することができる。
って本発明のサンプリング装置を説明したが、本発明は
これに限定されるものでなく、例えば炎光光度計式亜硫
酸ガス分析計その他被測定試料を希釈して分析しなけれ
ばならない高感度分析装置に適用することができる。
また、被測定試料雰囲気を煙道に限定して説明したが、
タンクまたはその他の雰囲気でも差し支えないことはい
うまでもない。
タンクまたはその他の雰囲気でも差し支えないことはい
うまでもない。
さらにまた、被測定試料を希釈するのに清浄空気を用い
たが、これは窒素などの清浄気体でもよい。
たが、これは窒素などの清浄気体でもよい。
以上述べたように本発明によれば、外部より高希釈率の
はいしん濃度まで連続した希釈率の設定が行えうるエア
ロゾル測定装置用サンプリング装置を提供することがで
きる。
はいしん濃度まで連続した希釈率の設定が行えうるエア
ロゾル測定装置用サンプリング装置を提供することがで
きる。
第1図は従来のオープンタイプのサンプリング装置の原
理構成図、第2図は本発明の一実施例を示すオーブンタ
イプエジエクション方式のサンプリング装置の原理構成
図、第3図は第2図の希釈器の具体的構造の一実施例を
示す断面図、第4図は第2図のサンプリング装置の希釈
用清浄空気送入量と希釈率の関係を示す線図である。 符号の説明、1・・・・・・煙道、2・・・・・・煙道
排ガス、3・・・・・・サンプリングノズル、9・・・
・・・流量計、10・・・・・・フィルタ、11・・・
・・・ポンプ、12・・・・・・バルプ、13・・・・
・・フランジ、14・・・・・・吸引管、15・・・・
・・エジエクタ、16・・・・・・空気送入管、17・
・・・・・導入管、18・・・・・・希釈器、19・・
・・・・清浄空気送入管。
理構成図、第2図は本発明の一実施例を示すオーブンタ
イプエジエクション方式のサンプリング装置の原理構成
図、第3図は第2図の希釈器の具体的構造の一実施例を
示す断面図、第4図は第2図のサンプリング装置の希釈
用清浄空気送入量と希釈率の関係を示す線図である。 符号の説明、1・・・・・・煙道、2・・・・・・煙道
排ガス、3・・・・・・サンプリングノズル、9・・・
・・・流量計、10・・・・・・フィルタ、11・・・
・・・ポンプ、12・・・・・・バルプ、13・・・・
・・フランジ、14・・・・・・吸引管、15・・・・
・・エジエクタ、16・・・・・・空気送入管、17・
・・・・・導入管、18・・・・・・希釈器、19・・
・・・・清浄空気送入管。
Claims (1)
- 1 一端に被測定試料を吸引するサンプリングノズルを
有する吸引管、この吸引管の他端に連結された第1のエ
ジエクタ、この第1のエジエクタに空気を送入する第1
の空気送入管、前記吸引管内に吸引された被測定試料の
一部を吸引管よりとり出す第1の導入管、この第1の導
入管によってとジ出された被測定試料を空気によって希
釈する希釈器、この希釈器に連結された第2のエジエク
タ、との第2のエジエクタに空気を送入する第2の空気
送入管.、前記希釈器内の希釈された被演淀試料の一部
を希釈器よりとり出し測定装置に送る第2の導入管とよ
り構成したことを特徴とする分析装置用サンプリング召
1。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3843575A JPS586903B2 (ja) | 1975-03-28 | 1975-03-28 | ブンセキソウチヨウサンプリングソウチ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3843575A JPS586903B2 (ja) | 1975-03-28 | 1975-03-28 | ブンセキソウチヨウサンプリングソウチ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS51113689A JPS51113689A (en) | 1976-10-06 |
JPS586903B2 true JPS586903B2 (ja) | 1983-02-07 |
Family
ID=12525221
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3843575A Expired JPS586903B2 (ja) | 1975-03-28 | 1975-03-28 | ブンセキソウチヨウサンプリングソウチ |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JPS586903B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006132081A1 (ja) * | 2005-06-09 | 2006-12-14 | Horiba, Ltd. | 排ガス希釈装置 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5667733A (en) * | 1979-11-08 | 1981-06-08 | Nippon Soken Inc | Measuring apparatus for discharge of corpuscle |
JPS5740007U (ja) * | 1980-08-19 | 1982-03-04 | ||
JPS5863547U (ja) * | 1981-10-26 | 1983-04-28 | 三菱重工業株式会社 | 固気混相流体のサンプリング装置 |
GB0303470D0 (en) * | 2003-02-14 | 2003-03-19 | Malvern Instr Ltd | Dilution system and method |
CN107192791A (zh) * | 2017-05-16 | 2017-09-22 | 湖北锐意自控***有限公司 | 一种气体分析装置及方法 |
-
1975
- 1975-03-28 JP JP3843575A patent/JPS586903B2/ja not_active Expired
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006132081A1 (ja) * | 2005-06-09 | 2006-12-14 | Horiba, Ltd. | 排ガス希釈装置 |
JPWO2006132081A1 (ja) * | 2005-06-09 | 2009-01-08 | 株式会社堀場製作所 | 排ガス希釈装置 |
JP4827841B2 (ja) * | 2005-06-09 | 2011-11-30 | 株式会社堀場製作所 | 排ガス希釈装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS51113689A (en) | 1976-10-06 |
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