JPS58659Y2 - 光フアイバ母材製造用原料供給装置 - Google Patents
光フアイバ母材製造用原料供給装置Info
- Publication number
- JPS58659Y2 JPS58659Y2 JP1978080040U JP8004078U JPS58659Y2 JP S58659 Y2 JPS58659 Y2 JP S58659Y2 JP 1978080040 U JP1978080040 U JP 1978080040U JP 8004078 U JP8004078 U JP 8004078U JP S58659 Y2 JPS58659 Y2 JP S58659Y2
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- JP
- Japan
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- raw material
- optical fiber
- container
- carrier gas
- fiber base
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- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は光フアイバ母材製造用供給装置に関し、詳しく
は、供給管路中の圧力変動を防止し蒸気状ガラス原料の
安定な供給を可能にした光フアイバ母材製造用供給装置
に関する。
は、供給管路中の圧力変動を防止し蒸気状ガラス原料の
安定な供給を可能にした光フアイバ母材製造用供給装置
に関する。
従来、この種の装置は、ガラスの原料となる四塩化ケイ
素及びドーピング物質例えば四塩化ゲルマニウム、オキ
シ塩化リン、三臭化ホウ素等を各原料容器内に充填し、
流量制御されたキャリアガス例えばアルゴンガスを各容
器内の液状ガラス原料中にバブリングして所望の上記各
原料の蒸気を得るように構成されていた。
素及びドーピング物質例えば四塩化ゲルマニウム、オキ
シ塩化リン、三臭化ホウ素等を各原料容器内に充填し、
流量制御されたキャリアガス例えばアルゴンガスを各容
器内の液状ガラス原料中にバブリングして所望の上記各
原料の蒸気を得るように構成されていた。
第1図はこのような装置の一具体例を示した断面概略図
であり、1は液状ガラス原料用容器、5はバブラー、9
は蒸気状ガラス原料の出口を表わす。
であり、1は液状ガラス原料用容器、5はバブラー、9
は蒸気状ガラス原料の出口を表わす。
この容器1において、キャリアガスは流量制御されてバ
ブラー5から吹き出し液状ガラス原料をバブリングして
蒸気状ガラス原料が得られるが、この場合、バブリング
が行なわれるために、液状ガラス原料中に無数の微細な
気泡が浮遊し、これらの気泡が液状ガラス原料の液面に
吹き出るようになる。
ブラー5から吹き出し液状ガラス原料をバブリングして
蒸気状ガラス原料が得られるが、この場合、バブリング
が行なわれるために、液状ガラス原料中に無数の微細な
気泡が浮遊し、これらの気泡が液状ガラス原料の液面に
吹き出るようになる。
その結果、液状ガラス原料用容器1内の圧力は微細な気
泡の量に応じて瞬時変化し、蒸気状ガラス原料の出口9
まで圧力変動が伝わる。
泡の量に応じて瞬時変化し、蒸気状ガラス原料の出口9
まで圧力変動が伝わる。
この現象は、四塩化ケイ素等の蒸気状ガラス原料の安定
な供給を妨げ、製造される光フアイバ母材の屈折率のゆ
らぎ(変動)の大きな原因となる。
な供給を妨げ、製造される光フアイバ母材の屈折率のゆ
らぎ(変動)の大きな原因となる。
本考案は、これらの欠点を解消するためになされたもの
であり、その目的は、供給管路中の圧力変動を防止し蒸
気状ガラス原料を安定に供給しうる光フアイバ母材製造
用原料供給装置を提供することである。
であり、その目的は、供給管路中の圧力変動を防止し蒸
気状ガラス原料を安定に供給しうる光フアイバ母材製造
用原料供給装置を提供することである。
本考案につき概説すれば、本考案の光フアイバ母材製造
用原料供給装置は、液状ガラス原料を容器に充填しこれ
にキャリアガスをバブリングして蒸気状原料及びキャリ
アガスの混合物として供給する光フアイバ母材製造用原
料供給装置において、該蒸気状ガラス原料及びキャリア
ガスの混合物の供給管路18中にバッファ一槽19を設
けることを特徴とするものである。
用原料供給装置は、液状ガラス原料を容器に充填しこれ
にキャリアガスをバブリングして蒸気状原料及びキャリ
アガスの混合物として供給する光フアイバ母材製造用原
料供給装置において、該蒸気状ガラス原料及びキャリア
ガスの混合物の供給管路18中にバッファ一槽19を設
けることを特徴とするものである。
本考案によるバッファ一槽を設けた蒸気状ガラス原料供
給系においては、キャリアガスのバブリングによって生
じる液状ガラス原料容器(以下原料容器という)内の微
小な圧力変動が防止されて、常に一定圧力の蒸気状ガラ
ス原料が供給され、それにより、製造される光フアイバ
母材の屈折率△nのゆらぎも著しく減少させることがで
きる。
給系においては、キャリアガスのバブリングによって生
じる液状ガラス原料容器(以下原料容器という)内の微
小な圧力変動が防止されて、常に一定圧力の蒸気状ガラ
ス原料が供給され、それにより、製造される光フアイバ
母材の屈折率△nのゆらぎも著しく減少させることがで
きる。
本考案におけるバッファ一槽は、供給管路内の圧力を一
定に保持する緩衝装置の1種であり、この槽は原料容器
の蒸気及びガス出口側の管路中ニ設けられる。
定に保持する緩衝装置の1種であり、この槽は原料容器
の蒸気及びガス出口側の管路中ニ設けられる。
原料容器の液状ガラス原料充填部の上部空間を広くして
圧力変動の緩衝を行なうこともある程度可能であるが、
原料容器の容量が大となるので望ましくない。
圧力変動の緩衝を行なうこともある程度可能であるが、
原料容器の容量が大となるので望ましくない。
又、本考案におけるバッファ一槽は、各原料容器の原料
供給管路中に設けることができるが、添付図面の第2図
に示すように、各原料容器からの管路を集め例えば3個
の原料容器に対し1個のバッファ一槽で目的を達成する
ことができる。
供給管路中に設けることができるが、添付図面の第2図
に示すように、各原料容器からの管路を集め例えば3個
の原料容器に対し1個のバッファ一槽で目的を達成する
ことができる。
更に又、本考案におけるバッファ一槽中には、例えば上
記第2図に示すような円筒状仕切り板を設けて、蒸気及
びガスの流入排出を行なって緩衝効果を高めることがで
き、このような仕切り板の形状も適宜選択することがで
きる。
記第2図に示すような円筒状仕切り板を設けて、蒸気及
びガスの流入排出を行なって緩衝効果を高めることがで
き、このような仕切り板の形状も適宜選択することがで
きる。
本考案においては、キャリアガスとしてアルゴン、ヘリ
ウム、窒素等の不活性ガスを用い、その流量を制御して
各原料容器中に導入、バブリングすることにより、各蒸
気状ガラス原料の所定量を光フアイバ母材製造装置に供
給することができる。
ウム、窒素等の不活性ガスを用い、その流量を制御して
各原料容器中に導入、バブリングすることにより、各蒸
気状ガラス原料の所定量を光フアイバ母材製造装置に供
給することができる。
次に、本考案の実施例を添付図面により更に詳細に説明
する。
する。
第2図は本考案の光フアイバ母材製造用原料供給装置の
一具体例を示した断面概略図であり、図中の2,3及び
4は原料容器、6,7及び8はバブラー、10は四塩化
ケイ素、11は四塩化ゲルマニウム、12はオキシ塩化
リン、13は気泡、14゜15及び16はキャリアガス
導入管、17はキャリアガス、18は供給管路、19は
バッファ一槽、20は蒸気状ガラス原料出口、21は蒸
気状ガラス原料を示す。
一具体例を示した断面概略図であり、図中の2,3及び
4は原料容器、6,7及び8はバブラー、10は四塩化
ケイ素、11は四塩化ゲルマニウム、12はオキシ塩化
リン、13は気泡、14゜15及び16はキャリアガス
導入管、17はキャリアガス、18は供給管路、19は
バッファ一槽、20は蒸気状ガラス原料出口、21は蒸
気状ガラス原料を示す。
原料容器2,3及び4中に、四塩化ケイ素10ならびに
ドーピング物質であるオキシ塩化リン12及び四塩化ゲ
ルマニウム11をそれぞれ充填した。
ドーピング物質であるオキシ塩化リン12及び四塩化ゲ
ルマニウム11をそれぞれ充填した。
バッファ一槽19としては、長さ4QQmm、直径10
0mmのガラス管の中に長さ350 mm、直径50m
mのガラス管の一端を槽上部に溶着した構造のものを用
いた。
0mmのガラス管の中に長さ350 mm、直径50m
mのガラス管の一端を槽上部に溶着した構造のものを用
いた。
各原料容器2,3及び4とバッファ一槽19は直径lQ
mmの管路(テフロン管)18で接続した。
mmの管路(テフロン管)18で接続した。
又、キャリアガス17としてアルゴンガスを用い、10
0cc/分に流量を制御し、キャリアガス導入管14.
15及び16がらそれぞれ原料容器2゜3及び4内のバ
ブラー6.7及び8に流し、各原料をバブリングし、蒸
気状として供給管路18を経てバッファ一槽19に通し
蒸気状ガラス原料の出口20に導びいた。
0cc/分に流量を制御し、キャリアガス導入管14.
15及び16がらそれぞれ原料容器2゜3及び4内のバ
ブラー6.7及び8に流し、各原料をバブリングし、蒸
気状として供給管路18を経てバッファ一槽19に通し
蒸気状ガラス原料の出口20に導びいた。
この時の出口20側における圧力の変動は殆んど認ぬら
れなかった。
れなかった。
この蒸気状ガラス原料から製造した光フアイバ母材の屈
折率△nのゆらぎは0.05%以下であった。
折率△nのゆらぎは0.05%以下であった。
なお、比較のため、バッファ一槽19を設けない原料容
器についての実験を行なったが、この場合には圧力が瞬
時変化し、又、得られた光フアイバ母材の屈折率△nの
ゆらぎは0.2%と大きがった。
器についての実験を行なったが、この場合には圧力が瞬
時変化し、又、得られた光フアイバ母材の屈折率△nの
ゆらぎは0.2%と大きがった。
以上説明したように、本考案によれば、バッファ一槽を
設けたことにより、キャリアガスのバブリングによって
生じる原料容器内の微小な圧力変動による影響が改善さ
れ、常に一定圧力の蒸気状ガラス原料を供給することが
でき、この原料によって製造された光フアイバ母材の屈
折率のゆらぎも最小限度に抑えることができる。
設けたことにより、キャリアガスのバブリングによって
生じる原料容器内の微小な圧力変動による影響が改善さ
れ、常に一定圧力の蒸気状ガラス原料を供給することが
でき、この原料によって製造された光フアイバ母材の屈
折率のゆらぎも最小限度に抑えることができる。
第1図は従来の光ファイバ母材製造用原料供給蓋の一具
体側を示した断面概略図であり、第2図は本考案の光フ
アイバ母材製造用原料供給装置の一具体例を示した断面
概略図である。 1.2.3及び4・・・・・・原料容器、5,6.7及
び8・・・・・・バブラー、9及び20・・・・・・蒸
気状ガラス原料出口、10・・・・・・四塩化ケイ素、
11・・・・・・四塩化ゲルマニウム、12・・・・・
・オキシ塩化リン、13・・・・・・気泡、14.15
及び16・・・・・・キャリアガス導入管、17・・・
・・・キャリアガス。 18・・・・・・供給管路、19・・・・・・バッファ
一槽、21・・・・・・蒸気状ガラス原料。
体側を示した断面概略図であり、第2図は本考案の光フ
アイバ母材製造用原料供給装置の一具体例を示した断面
概略図である。 1.2.3及び4・・・・・・原料容器、5,6.7及
び8・・・・・・バブラー、9及び20・・・・・・蒸
気状ガラス原料出口、10・・・・・・四塩化ケイ素、
11・・・・・・四塩化ゲルマニウム、12・・・・・
・オキシ塩化リン、13・・・・・・気泡、14.15
及び16・・・・・・キャリアガス導入管、17・・・
・・・キャリアガス。 18・・・・・・供給管路、19・・・・・・バッファ
一槽、21・・・・・・蒸気状ガラス原料。
Claims (1)
- 液状ガラス原料を容器に充填しこれにキャリアガスをバ
ブリングして蒸気状ガラス原料及びキャリアガスの混合
物として供給する光フアイバ母材製造用原料供給装置に
おいて、該蒸気状ガラス原料及びキャリアガスの混合物
の供給管路中にバッファ一槽を設けることを特徴とする
光フアイバ母材製造用原料供給装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1978080040U JPS58659Y2 (ja) | 1978-06-13 | 1978-06-13 | 光フアイバ母材製造用原料供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1978080040U JPS58659Y2 (ja) | 1978-06-13 | 1978-06-13 | 光フアイバ母材製造用原料供給装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS54182644U JPS54182644U (ja) | 1979-12-25 |
JPS58659Y2 true JPS58659Y2 (ja) | 1983-01-07 |
Family
ID=28998562
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1978080040U Expired JPS58659Y2 (ja) | 1978-06-13 | 1978-06-13 | 光フアイバ母材製造用原料供給装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58659Y2 (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5218716A (en) * | 1975-08-02 | 1977-02-12 | Sumitomo Electric Industries | Process for furming a coating film of silica glass not containing moisture |
-
1978
- 1978-06-13 JP JP1978080040U patent/JPS58659Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5218716A (en) * | 1975-08-02 | 1977-02-12 | Sumitomo Electric Industries | Process for furming a coating film of silica glass not containing moisture |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS54182644U (ja) | 1979-12-25 |
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