JPS5860444A - 光熱磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
光熱磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS5860444A JPS5860444A JP15918081A JP15918081A JPS5860444A JP S5860444 A JPS5860444 A JP S5860444A JP 15918081 A JP15918081 A JP 15918081A JP 15918081 A JP15918081 A JP 15918081A JP S5860444 A JPS5860444 A JP S5860444A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording medium
- gaseous
- magnetic
- sputtering
- pressure
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/16—Layers for recording by changing the magnetic properties, e.g. for Curie-point-writing
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はレーザー元等の光線により情報の記録および再
生を行なう元勲磁気記録媒体の製造方法、特にスパッタ
ー法により製膜する方法に関する。
生を行なう元勲磁気記録媒体の製造方法、特にスパッタ
ー法により製膜する方法に関する。
非晶質光熱磁気記録媒体の製膜は蒸漕法、スパッター法
が用いられている。このうちスパッター法においては基
板を設置した後できるかぎりの高真空度(す、下到達真
空度と言つ)、一般には1O−5Pa台かそれ以下まで
排気し、次いでスパッターガスであるArガスを10
〜10Pa流し、主弁または可変コンダクタンス弁を操
作することにより10−2〜10Pa の圧力にしRF
電源またはDC電源よりの電界を印加することにより放
電を起し、スパッター奢開始する。この過程においてで
きるかぎりの高真空に排気するには長時間かかり、また
、スパッターガスとして流すArガスの純度は高純度の
ものを使用している。このことは、製膜中の雰囲気を出
来る限り清浄なものにし、不純物、例えば大気の成分で
あるI’t+ 、 Ox 、 HwO等、の混入を防ぐ
ためである。
が用いられている。このうちスパッター法においては基
板を設置した後できるかぎりの高真空度(す、下到達真
空度と言つ)、一般には1O−5Pa台かそれ以下まで
排気し、次いでスパッターガスであるArガスを10
〜10Pa流し、主弁または可変コンダクタンス弁を操
作することにより10−2〜10Pa の圧力にしRF
電源またはDC電源よりの電界を印加することにより放
電を起し、スパッター奢開始する。この過程においてで
きるかぎりの高真空に排気するには長時間かかり、また
、スパッターガスとして流すArガスの純度は高純度の
ものを使用している。このことは、製膜中の雰囲気を出
来る限り清浄なものにし、不純物、例えば大気の成分で
あるI’t+ 、 Ox 、 HwO等、の混入を防ぐ
ためである。
しe
光熱磁気記録にはMs4Bi 、 PtCo 、 Cr
o!、TJ、i+Oa。
o!、TJ、i+Oa。
Qd1G 、 GdCo 、 GdFe 、 TbFe
、 DyFe 、 GdTbFe等力報告されてイル
。コのうちGdCo 、 GdFe 、 ’I”、bF
e。
、 DyFe 、 GdTbFe等力報告されてイル
。コのうちGdCo 、 GdFe 、 ’I”、bF
e。
DyFe 、 GdTbFe等の非晶質光熱磁気記録媒
体は感度、読出し性能等で近年注目を集めている。しか
し、該非晶質光熱磁気記録媒体は耐腐食性に劣り、例え
ば真夏の高湿度の日に大気中に放置すると腐食してしま
い該記録媒体は非磁性体になるばかりでな(透明膜にな
り記録に使用することができなくなる。また、記録され
た信号は完全に消失してしまい再生にも使用することが
できな(なる。
体は感度、読出し性能等で近年注目を集めている。しか
し、該非晶質光熱磁気記録媒体は耐腐食性に劣り、例え
ば真夏の高湿度の日に大気中に放置すると腐食してしま
い該記録媒体は非磁性体になるばかりでな(透明膜にな
り記録に使用することができなくなる。また、記録され
た信号は完全に消失してしまい再生にも使用することが
できな(なる。
本発明の目的は、耐腐食性に優れた光熱磁気記録媒体を
製造する方法を提供することにある。
製造する方法を提供することにある。
本発明の更なる目的は、耐腐食性に優れた光熱磁気記録
媒体を簡易な手段で製造することが可能な方法を提供す
るこ ” 7とにある。
媒体を簡易な手段で製造することが可能な方法を提供す
るこ ” 7とにある。
本発明における光熱磁気記録媒体の製造方法においては
、スパッターガスとしてアルゴンガスだげでな(、窃素
ガスを所定の量だけ注入することにより上記目的を達成
せんとするものである。この窒素ガスの混入の割合を、
圧力比で0.5%〜10チの間に制御することにより、
耐久力が優れ且つ磁気履歴特性も良好に出来る。尚、窒
素ガスの圧力比が0.5%より小さくなると耐久力がな
くなり、又10%より大きくなると磁気履歴特性が悪化
して使用に耐えられなくなるものである。以下、本発明
に関して詳述する。
、スパッターガスとしてアルゴンガスだげでな(、窃素
ガスを所定の量だけ注入することにより上記目的を達成
せんとするものである。この窒素ガスの混入の割合を、
圧力比で0.5%〜10チの間に制御することにより、
耐久力が優れ且つ磁気履歴特性も良好に出来る。尚、窒
素ガスの圧力比が0.5%より小さくなると耐久力がな
くなり、又10%より大きくなると磁気履歴特性が悪化
して使用に耐えられなくなるものである。以下、本発明
に関して詳述する。
まず従来の製造方法で膜を製造した場合について述べる
。13at%Tb、13at%Gd残りFeよりなる直
径100mmΦのスパッターターゲットを用い到達真空
度1.5X10 Paまで真空排気した後製膜室へ3
X10 Paの7/l/ゴン(Ar )ガス(純度9
9.999チ)を導入し、メインバルブを操作して2.
5Paにして150WのRFi[力を加えて白板ガラス
基板上に厚さ約100OAの磁性膜を得た。この磁性膜
を膜の垂直方向に磁化した時の履歴曲線は第1図の様に
なり、履歴曲線としては角型性から良いことが分る。尚
、これは極力−効果を使って測定した。
。13at%Tb、13at%Gd残りFeよりなる直
径100mmΦのスパッターターゲットを用い到達真空
度1.5X10 Paまで真空排気した後製膜室へ3
X10 Paの7/l/ゴン(Ar )ガス(純度9
9.999チ)を導入し、メインバルブを操作して2.
5Paにして150WのRFi[力を加えて白板ガラス
基板上に厚さ約100OAの磁性膜を得た。この磁性膜
を膜の垂直方向に磁化した時の履歴曲線は第1図の様に
なり、履歴曲線としては角型性から良いことが分る。尚
、これは極力−効果を使って測定した。
5
この場合到達真空度1.5X10 Paでの残留ガス
分析を行なったところ穿素ガスはlX10Pa以下であ
った。従ってスパッターの除のアルゴンガスに対する窒
素ガスの圧力比は0.051以下であった。
分析を行なったところ穿素ガスはlX10Pa以下であ
った。従ってスパッターの除のアルゴンガスに対する窒
素ガスの圧力比は0.051以下であった。
この様にして得られた垂直磁化膜を温度40℃。
湿層98チの恒温、恒湿槽内に8時間放置した後の磁気
履歴曲線を第2図に示す。尚、第2図の縦軸のスケール
は、第1図に比して100倍に取っである。第2図より
明らかな様に、磁気履歴特性は極端に悪化し、この時磁
性膜に照射した光束の86チは、磁性膜を透過してしま
い、もはや光熱磁気記録媒体としての特性を失っている
。
履歴曲線を第2図に示す。尚、第2図の縦軸のスケール
は、第1図に比して100倍に取っである。第2図より
明らかな様に、磁気履歴特性は極端に悪化し、この時磁
性膜に照射した光束の86チは、磁性膜を透過してしま
い、もはや光熱磁気記録媒体としての特性を失っている
。
次に本発明の製造方法の第1実施例について述べるo
13 a t %’l’b 、13 a t %G’
+ 残りカFCより成同時に窒素ガスをアルゴンガス
に対してその圧力比が160チ(ろX1Q−”Pa )
の割で製膜室へ導入した。メインバルブを操作して2−
5Paにして150WのRFfi力を加えて、白板ガラ
ス基板上に厚さ約100OAの磁性膜を得た。これによ
り得られた磁性膜の極力−効果による履歴曲線を第6図
に示す。
13 a t %’l’b 、13 a t %G’
+ 残りカFCより成同時に窒素ガスをアルゴンガス
に対してその圧力比が160チ(ろX1Q−”Pa )
の割で製膜室へ導入した。メインバルブを操作して2−
5Paにして150WのRFfi力を加えて、白板ガラ
ス基板上に厚さ約100OAの磁性膜を得た。これによ
り得られた磁性膜の極力−効果による履歴曲線を第6図
に示す。
この膜を、上述した従来例により得られた膜と同じ様に
、温度40℃、湿度98チの恒温恒湿槽内に8時間放置
した後の磁性膜の履歴特性曲線を第4図に示す。第4図
の曲線は第6図に示される曲線に比して、第3象限の履
歴曲線の肩がわずかに緩やかになっているだけであり、
耐腐食性が従来のものに比して格段に向上していること
が分る。
、温度40℃、湿度98チの恒温恒湿槽内に8時間放置
した後の磁性膜の履歴特性曲線を第4図に示す。第4図
の曲線は第6図に示される曲線に比して、第3象限の履
歴曲線の肩がわずかに緩やかになっているだけであり、
耐腐食性が従来のものに比して格段に向上していること
が分る。
尚、この時の磁気膜の光透過率は約2チであった。
次に本発明の製造方法の第2実施例について述べる。製
膜条件は、スパッターガスの組成を圧力比8 % (2
,4x10 Pa )の窒素ガスを含有したアルゴン
ガスを用いた他は第1実施例の場合と全く同じである。
膜条件は、スパッターガスの組成を圧力比8 % (2
,4x10 Pa )の窒素ガスを含有したアルゴン
ガスを用いた他は第1実施例の場合と全く同じである。
この時に得られた磁性膜の極力効果による履歴曲線は第
5図の如(である。履歴曲線の角型性は第1実施例に比
しては多少悪くなっている。この膜を第1実施例と同じ
条件の恒温恒湿槽に入れ24時間後に取出して測定した
履歴曲線を第6図に示す。これは第5図と較べ、はとん
ど変化していない。即ち、耐食性に関しては、第1実施
例より向上している。この時磁気膜の光透過率は約1%
である。
5図の如(である。履歴曲線の角型性は第1実施例に比
しては多少悪くなっている。この膜を第1実施例と同じ
条件の恒温恒湿槽に入れ24時間後に取出して測定した
履歴曲線を第6図に示す。これは第5図と較べ、はとん
ど変化していない。即ち、耐食性に関しては、第1実施
例より向上している。この時磁気膜の光透過率は約1%
である。
第7図に示す履歴曲線は、製膜の際のスパッターガスを
、圧力比12 % (3,6X10−”Pa ) cr
)窒素ガスを混合したアルゴンガスを用いた外は、前記
第1実施例に示す条件と同じ条件の下で作成した磁気膜
の特性を示す。第7図に示す如く、この時に得られる磁
気膜は、光熱磁気記録用には適当でないことが明らかで
ある。
、圧力比12 % (3,6X10−”Pa ) cr
)窒素ガスを混合したアルゴンガスを用いた外は、前記
第1実施例に示す条件と同じ条件の下で作成した磁気膜
の特性を示す。第7図に示す如く、この時に得られる磁
気膜は、光熱磁気記録用には適当でないことが明らかで
ある。
Anger electkon 5pectrosco
py法により、本発明に係る膜では、窒素の存在が確認
されており、製膜の際の窒素ガスの存在が、光熱磁気記
録媒体の向1食性を向上させるものと考えられる。
py法により、本発明に係る膜では、窒素の存在が確認
されており、製膜の際の窒素ガスの存在が、光熱磁気記
録媒体の向1食性を向上させるものと考えられる。
先回面の簡単な1fi2明
第1図は従来の製造方法により得られた光熱41i気記
録媒体の磁気履歴曲線を示す図、第2図は第1図に示す
特性を壱する光熱磁気記録媒体の腐食試験後の(み気履
歴曲線を示す図、第6図は本発明の製造方法の第1実施
例により得られた光熱磁気記録媒体の磁気履歴曲線を示
す図、第4図は第1実施例の製造方法により得られた記
録媒体の腐食試験後の磁気履歴曲線を示す図、第5図は
本発明の製造方法の第2実施例により得られた光熱磁気
記録媒体の磁気履歴曲線を示す図、第6図は第2実施例
の製造方法により得られた記録媒体の腐食試験後の磁気
履歴曲線を示す図、第7図は圧力比12%の窒素ガスを
混入したアルゴンガスの下で得られた光熱磁気記録媒体
の磁気履歴曲線を示す図。
録媒体の磁気履歴曲線を示す図、第2図は第1図に示す
特性を壱する光熱磁気記録媒体の腐食試験後の(み気履
歴曲線を示す図、第6図は本発明の製造方法の第1実施
例により得られた光熱磁気記録媒体の磁気履歴曲線を示
す図、第4図は第1実施例の製造方法により得られた記
録媒体の腐食試験後の磁気履歴曲線を示す図、第5図は
本発明の製造方法の第2実施例により得られた光熱磁気
記録媒体の磁気履歴曲線を示す図、第6図は第2実施例
の製造方法により得られた記録媒体の腐食試験後の磁気
履歴曲線を示す図、第7図は圧力比12%の窒素ガスを
混入したアルゴンガスの下で得られた光熱磁気記録媒体
の磁気履歴曲線を示す図。
Claims (1)
- (1)光熱磁気記録媒体をスノ(ツタ−法により製造す
る方法において、スパッターの際に用いられるガスはア
ルゴンと窒素の混合されたもので、窒素ガスの圧力比が
0.5 %から10チの間に存する事を特徴とする光熱
磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15918081A JPS5860444A (ja) | 1981-10-06 | 1981-10-06 | 光熱磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15918081A JPS5860444A (ja) | 1981-10-06 | 1981-10-06 | 光熱磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5860444A true JPS5860444A (ja) | 1983-04-09 |
Family
ID=15688043
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15918081A Pending JPS5860444A (ja) | 1981-10-06 | 1981-10-06 | 光熱磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5860444A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61104446A (ja) * | 1984-10-26 | 1986-05-22 | Nec Corp | 光磁気記録媒体 |
JPS61144743A (ja) * | 1984-12-18 | 1986-07-02 | Nec Corp | 光磁気記録媒体及びその製造方法 |
-
1981
- 1981-10-06 JP JP15918081A patent/JPS5860444A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61104446A (ja) * | 1984-10-26 | 1986-05-22 | Nec Corp | 光磁気記録媒体 |
JPS61144743A (ja) * | 1984-12-18 | 1986-07-02 | Nec Corp | 光磁気記録媒体及びその製造方法 |
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