JPS5859255A - 芳香族ポリエステルポリカ−ボネ−ト樹脂組成物 - Google Patents
芳香族ポリエステルポリカ−ボネ−ト樹脂組成物Info
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- JPS5859255A JPS5859255A JP14053882A JP14053882A JPS5859255A JP S5859255 A JPS5859255 A JP S5859255A JP 14053882 A JP14053882 A JP 14053882A JP 14053882 A JP14053882 A JP 14053882A JP S5859255 A JPS5859255 A JP S5859255A
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- polyester polycarbonate
- aromatic polyester
- wax
- aromatic
- polycarbonate
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は離層性が改善された芳香族ポリエステルポリカ
ーボネート樹脂組成物に関するものである。
ーボネート樹脂組成物に関するものである。
芳香族ポリエステルポリカーボネートは、゛同−−分子
内にエステル結合とカーボネート結合を有する線状の樹
脂であり１例えば、コ、コーピス（＊−ヒドロキシフェ
ニル）フロパン（ビスフ□ェノールム）、テレフタ謬イ
ルクロリドおよびホス、ゲンを反応さぜることによって
製造され。
内にエステル結合とカーボネート結合を有する線状の樹
脂であり１例えば、コ、コーピス（＊−ヒドロキシフェ
ニル）フロパン（ビスフ□ェノールム）、テレフタ謬イ
ルクロリドおよびホス、ゲンを反応さぜることによって
製造され。
すぐれた機械的性質、耐候性、耐薬品性および透明性を
有するものであることが知られている。
有するものであることが知られている。
（４１１−昭Ｉコー／２１？デ１）
しかしながら、このような芳香族ポリエステルポリカー
ボネートは離層性が悪い欠点がある。
ボネートは離層性が悪い欠点がある。
すなわち、金飄表面に対する芳香族ポリエステルポリカ
ーボネート樹脂の摩擦抵抗が大１く。
ーボネート樹脂の摩擦抵抗が大１く。
成形に際して金層に付着するため、成形操作がＳａでな
いばかりでなく、長期間にわたり安定して外観のすぐれ
た成形品を得ることが困難でありａ％に射出成形の場合
者しい欠点となっている。
いばかりでなく、長期間にわたり安定して外観のすぐれ
た成形品を得ることが困難でありａ％に射出成形の場合
者しい欠点となっている。
本発明者らは、上記した芳香族ポリエステルポリカーボ
ネートの欠点を改良すべく鋭意研究ニスクルポリカーボ
ネートが本来前するすぐれた機械的性質を損うことなく
、そのｌｌｌ１ｊｌ性を大巾に゛改善することができる
ことを知得して本発明を完成した。
ネートの欠点を改良すべく鋭意研究ニスクルポリカーボ
ネートが本来前するすぐれた機械的性質を損うことなく
、そのｌｌｌ１ｊｌ性を大巾に゛改善することができる
ことを知得して本発明を完成した。
すなわち本発明は、ｍｍ性の改善された工業的価値の−
大きい芳香族ポリエステルポリカーボネートを提供する
ことを目的とするものであり。
大きい芳香族ポリエステルポリカーボネートを提供する
ことを目的とするものであり。
その要旨とするところは、−１般式
で狭わされる構造単位と、一般式
する、）
で表わされる構造単位と゛からなり：かつジヒドロキシ
ジアリール化金物残基：テレフタル酸残基；カーボネー
ト結合の毫ル比が／：、Ｑ、ＪＪ〜０．７１ ： ０．
Ａｔ〜０．２！である芳香族ポリエステルポリカーボネ
ート／ ００’重量部に対−し、数平均分子量／１００
−１０００のポリエチレンワックス、ポリプロピレンワ
ックスまたはその部分酸化ワックスｏ、ｏ ｓ −を重
量部を配゛合してなる芳１１族ポリエスデルポリカーボ
ネー）４Ｎ脂組成物である・ ゛ 不発−で使用する芳香族ポリニス１ルボリカーボネート
は−例えば、−１式 −ａ−、−ｇｏ−または−ａＯ，−などの２価の基。
ジアリール化金物残基：テレフタル酸残基；カーボネー
ト結合の毫ル比が／：、Ｑ、ＪＪ〜０．７１ ： ０．
Ａｔ〜０．２！である芳香族ポリエステルポリカーボネ
ート／ ００’重量部に対−し、数平均分子量／１００
−１０００のポリエチレンワックス、ポリプロピレンワ
ックスまたはその部分酸化ワックスｏ、ｏ ｓ −を重
量部を配゛合してなる芳１１族ポリエスデルポリカーボ
ネー）４Ｎ脂組成物である・ ゛ 不発−で使用する芳香族ポリニス１ルボリカーボネート
は−例えば、−１式 −ａ−、−ｇｏ−または−ａＯ，−などの２価の基。
Ｒは、水素原子または７価の炭化水素基、Ｒ′は。
２価の炭化水晶基を示し芳香核はハロ７７Ｍ子または７
価の炭化水素基な有していてもよい、）で表わされる。
価の炭化水素基な有していてもよい、）で表わされる。
ジヒドロキシジアリール化金物と、テレフタロイルクロ
リドとを、塩化メチレンのような有機Ｓ媒およびピリジ
ンのよう逓酸竺合剤の存在下受反応させ１次いでこの反
応混合物にホスゲンを導入して重纏合させ１ｋｌｌ液重
合法（４！Ｍ昭１１２−／２１？９λ）、あるいは。
リドとを、塩化メチレンのような有機Ｓ媒およびピリジ
ンのよう逓酸竺合剤の存在下受反応させ１次いでこの反
応混合物にホスゲンを導入して重纏合させ１ｋｌｌ液重
合法（４！Ｍ昭１１２−／２１？９λ）、あるいは。
前示一般式ｃ組で表わされるジヒドロキシジアリール化
金物のアルカリ性水溶献とテレフタロイルクロリドの有
機涛ｍｓ＊とを反応させ１次いでこの反応混合物にホス
ゲンを導入して車錫が２０ロホーメート基のオリゴマー
トシ、コのオリゴ！−の有機溶媒に前示一般式〔凹〕で
表わされるジヒドロキシジアリール化合物のアルカリ銖
水溶液を加えて重縮合させる界面重合法などＫよって製
造することができる。
金物のアルカリ性水溶献とテレフタロイルクロリドの有
機涛ｍｓ＊とを反応させ１次いでこの反応混合物にホス
ゲンを導入して車錫が２０ロホーメート基のオリゴマー
トシ、コのオリゴ！−の有機溶媒に前示一般式〔凹〕で
表わされるジヒドロキシジアリール化合物のアルカリ銖
水溶液を加えて重縮合させる界面重合法などＫよって製
造することができる。
工業的には１回収損失が大きく臭気の強いピリジンを使
用する必要がない点で、界面重合法が有利である。
用する必要がない点で、界面重合法が有利である。
ジヒドロキシジアリール化合物、テレ７タロイルクロリ
ド類およびホスゲンの使用量は、得られる芳香族ポリエ
ステルボーリカーボネート中のジヒドロキシジアリール
化合物残基ニア″し７タル酸残基：カーボネート結合？
モル比が７二〇、ＪＪ 〜０．９１ ： ｏ、！７〜ｏ
、コＳ、好まＬ＜は／： ０．１１−０．亭り：０．６
り〜ｏ０．ｔｌとなるよ５遥９宜遥訳される。プレ７タ
ル酸残基のモル比がこれより少ないとガンス転移点の改
善の点で不−足であり、逆にカーボネート結食のモル比
が少なすぎるとポリカーボネートが本来有する性實が損
なわれる。ただし、こ−の組成モル比は赤外線スペクト
ル分析により−０００−基／？ｌＯｘ’および−ｏａｏ
ｏ−基Ｉクク０ｔｌｎ、のヒータ比より求めた値である
。
ド類およびホスゲンの使用量は、得られる芳香族ポリエ
ステルボーリカーボネート中のジヒドロキシジアリール
化合物残基ニア″し７タル酸残基：カーボネート結合？
モル比が７二〇、ＪＪ 〜０．９１ ： ｏ、！７〜ｏ
、コＳ、好まＬ＜は／： ０．１１−０．亭り：０．６
り〜ｏ０．ｔｌとなるよ５遥９宜遥訳される。プレ７タ
ル酸残基のモル比がこれより少ないとガンス転移点の改
善の点で不−足であり、逆にカーボネート結食のモル比
が少なすぎるとポリカーボネートが本来有する性實が損
なわれる。ただし、こ−の組成モル比は赤外線スペクト
ル分析により−０００−基／？ｌＯｘ’および−ｏａｏ
ｏ−基Ｉクク０ｔｌｎ、のヒータ比より求めた値である
。
前示一般式ＣＨ１１で表わされるジヒドロキシジアリー
ル化合物の臭体例としては。
ル化合物の臭体例としては。
ビス（ターヒドロキシフェニル）メタン。
／、／−ビス（ターヒドロキシフェニル）エタ／。
−１−一ヒス（参−ヒドロキシフェニル）プロパン、Ｊ
、−一ビス（ターヒドロキシフェニル）ブタン、Ｊ、−
一ビス（参−ヒドロキシフェニル）オクタン、ビス（亭
−ヒドロキシフェニル）フエ＝に、、う、Ｊ、Ｊ−１？
Ｊ（＃−アト。や、−゛３−メチルフェニル）フロパン
＋１ ’ｌ’ｌビー（゛亭−ヒドロキシーＪ−亀Ｊブチ
ルフェニル）プロパン、−２−一ビス（参−ヒドロキシ
−Ｊ−プロモフェニル）プロパン、−、−一ビス（ヂ・
−ヒドロキシ−Ｊ、ｊ−ジブロモフェニル）１ｇパン。
、−一ビス（ターヒドロキシフェニル）ブタン、Ｊ、−
一ビス（参−ヒドロキシフェニル）オクタン、ビス（亭
−ヒドロキシフェニル）フエ＝に、、う、Ｊ、Ｊ−１？
Ｊ（＃−アト。や、−゛３−メチルフェニル）フロパン
＋１ ’ｌ’ｌビー（゛亭−ヒドロキシーＪ−亀Ｊブチ
ルフェニル）プロパン、−２−一ビス（参−ヒドロキシ
−Ｊ−プロモフェニル）プロパン、−、−一ビス（ヂ・
−ヒドロキシ−Ｊ、ｊ−ジブロモフェニル）１ｇパン。
−９２−ビス（ダーヒドロキシーＪ＃ｊ−ジクロロフェ
ニル）フロパンのようなビス（ヒドロキシアリール）ア
ルカンＩＬ ／ａ／−ビス（４Ｉ−ヒト■キシ７エエル
）シクロペンタン、／、ｌ−ビス（参−とドロ、中ジフ
ェニル）シフ四ヘキナンのようなビス（ヒドロキシ７リ
ール）シク■アルカン類、 ｌ、参′−シヒドロキシジ
フエエルエーテル、参＃参′−ジヒド四キシ−Ｊ、Ｊ’
−ジメチルジフェニルエーテル、のような、ジヒドロキ
シジアリ＃ルエーデルａ１．亭、４ｔ′−ジヒドロキシ
ジ７工二ルスルフイド、事、参′−ジヒドロキシ−Ｊ、
Ｊ’−Ｘ）メチルジフェニルスルフィ′ドのようなジヒ
ドロキシジアリールスルフィド類、参、参′−ジヒドロ
キシジフェニルスルホキシド、 ＩＩ、ｌ’−ジヒドロ
キシ−！、Ｊ’−ジメチルジフェニルメルホキシドのよ
うなりとドロキシジアリール７？ルホキシドＳ、、＊、
亭′−ジヒドロ曳シジフェニルスル、ホク。
ニル）フロパンのようなビス（ヒドロキシアリール）ア
ルカンＩＬ ／ａ／−ビス（４Ｉ−ヒト■キシ７エエル
）シクロペンタン、／、ｌ−ビス（参−とドロ、中ジフ
ェニル）シフ四ヘキナンのようなビス（ヒドロキシ７リ
ール）シク■アルカン類、 ｌ、参′−シヒドロキシジ
フエエルエーテル、参＃参′−ジヒド四キシ−Ｊ、Ｊ’
−ジメチルジフェニルエーテル、のような、ジヒドロキ
シジアリ＃ルエーデルａ１．亭、４ｔ′−ジヒドロキシ
ジ７工二ルスルフイド、事、参′−ジヒドロキシ−Ｊ、
Ｊ’−Ｘ）メチルジフェニルスルフィ′ドのようなジヒ
ドロキシジアリールスルフィド類、参、参′−ジヒドロ
キシジフェニルスルホキシド、 ＩＩ、ｌ’−ジヒドロ
キシ−！、Ｊ’−ジメチルジフェニルメルホキシドのよ
うなりとドロキシジアリール７？ルホキシドＳ、、＊、
亭′−ジヒドロ曳シジフェニルスル、ホク。
参、参′−シヒド諺キシーＪ、Ｊ’−ジメｔルジフェニ
ルスルホンのようなジヒドーキシジアリールスルホンｌ
Ｉ等があげられる。
ルスルホンのようなジヒドーキシジアリールスルホンｌ
Ｉ等があげられる。
テレフタ■イルクロリド、類としては、ブレツメｏ−１
ルクロＶドの他に、その被にノ・ロゲン原子、アル中ル
ゑを有するテレフタロイルクロリド、例えばＪ、ｊ−ジ
クロルテレフタロイルク四リド、ＪＪ−ジブロムテレフ
タロイルク撃リド。
ルクロＶドの他に、その被にノ・ロゲン原子、アル中ル
ゑを有するテレフタロイルクロリド、例えばＪ、ｊ−ジ
クロルテレフタロイルク四リド、ＪＪ−ジブロムテレフ
タロイルク撃リド。
タールテレフタ１イルクロリド１、メチルテレフタロイ
ルターロリド、−、ｊ−ジメチルテレ７タロイルクロリ
ｙなどがあげられる。また、少量の他の二塩基酸のクロ
リド、例えば−０％未満のイノフタロイルクロリド、１
，４−ナフタリンジカルボン駿ジクロリド、参、ダーペ
ンゾーフェノンジカルポン駿ジクロリｒなどを混会して
用いてもよい。
ルターロリド、−、ｊ−ジメチルテレ７タロイルクロリ
ｙなどがあげられる。また、少量の他の二塩基酸のクロ
リド、例えば−０％未満のイノフタロイルクロリド、１
，４−ナフタリンジカルボン駿ジクロリド、参、ダーペ
ンゾーフェノンジカルポン駿ジクロリｒなどを混会して
用いてもよい。
このように、して製造、専れた本発明の芳香族ポリエス
テルポリカーボネートは、 ０．４１７ａＪ塩化メチレ
ン畷・液を用いＪＱ℃で測定したターｐから１式 ％式％ により算出した固有粘度〔マ〕が、０．参〜／、１ 。
テルポリカーボネートは、 ０．４１７ａＪ塩化メチレ
ン畷・液を用いＪＱ℃で測定したターｐから１式 ％式％ により算出した固有粘度〔マ〕が、０．参〜／、１ 。
り小さいと機械的性質が十分でない。
また、上記芳香族ポリエスデ長ポリカーボネ−トのガラ
ス転移点（７ｇ）は１通常／４０〜１９０℃、好、家し
くは／９０〜／１１”Ｃ，である。
ス転移点（７ｇ）は１通常／４０〜１９０℃、好、家し
くは／９０〜／１１”Ｃ，である。
さらに、鋏芳香族ポリエステルポリカーボネートは、末
端カルボキシ基が１Ｑμ当量／ｌ樹脂以下であることが
好ましい。
端カルボキシ基が１Ｑμ当量／ｌ樹脂以下であることが
好ましい。
ナフＪＱンジカルボン酸ジクロリド、 ＩＩ、ｌ’ −
ベンゾフェノンジカルボン駿ジクロリドなどを拠金して
用いてもよい。
ベンゾフェノンジカルボン駿ジクロリドなどを拠金して
用いてもよい。
本発明で用いるポリエチレンワックス、ボリアａピレン
ワックスまたはそれらの部分酸化ワックスは、蒸気圧浸
透法により一定した数平均分子量が／Ｉ００〜ｊ ００
０．好ましくは２０００−１０００程度のものである。
ワックスまたはそれらの部分酸化ワックスは、蒸気圧浸
透法により一定した数平均分子量が／Ｉ００〜ｊ ００
０．好ましくは２０００−１０００程度のものである。
数平均分子量があまりに小４さいと、芳香族ポリエステ
ルポリカーボネートが本来有する機械約性質中島的性質
を損うようになり、また、練り込みに際して喰い込みが
悪（なる、逆に歓平なり、加えて成形品に白濁が見られ
るようになるので好ましくない。
ルポリカーボネートが本来有する機械約性質中島的性質
を損うようになり、また、練り込みに際して喰い込みが
悪（なる、逆に歓平なり、加えて成形品に白濁が見られ
るようになるので好ましくない。
ポリエチレンワックス、ポリプロピレンワックスまたは
それらの部分酸化ワックスの配合量は芳香族ポリニスグ
ルポリカーボネート１００重あまりに多いと離層性は改
良されるけれども耐衡撃性その他の機械的性質が低下す
るようになるので好ましくない。
それらの部分酸化ワックスの配合量は芳香族ポリニスグ
ルポリカーボネート１００重あまりに多いと離層性は改
良されるけれども耐衡撃性その他の機械的性質が低下す
るようになるので好ましくない。
芳香族ポリエステルボリカ゛−ボネートと、ポリエチレ
ンワックス、ポリプロピレンワックスまたはそれらの部
分酸化ワックス１との配食方法としては、公知の種々の
方法を採用することができ１例えば１両者の粒状物また
は扮状物をプレンダーやミキサーを用いトライブレンド
する方法１両者な押出機等を用いて溶融混合する方法、
上記ワックス類の溶液と芳香族ポリニスグルポリカーボ
ネートの溶液を混合した混食物から、溶媒を蒸発させる
かまたは沈澱析出させる方妹、あるいは、芳香族ポリエ
ステルポリカーボネート製造り任意の段階でワックス類
を添加する方法等を採用することができる。
ンワックス、ポリプロピレンワックスまたはそれらの部
分酸化ワックス１との配食方法としては、公知の種々の
方法を採用することができ１例えば１両者の粒状物また
は扮状物をプレンダーやミキサーを用いトライブレンド
する方法１両者な押出機等を用いて溶融混合する方法、
上記ワックス類の溶液と芳香族ポリニスグルポリカーボ
ネートの溶液を混合した混食物から、溶媒を蒸発させる
かまたは沈澱析出させる方妹、あるいは、芳香族ポリエ
ステルポリカーボネート製造り任意の段階でワックス類
を添加する方法等を採用することができる。
本発明の組成物には、その性質を損なわない範囲におい
て他種の樹脂１例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン
、エチレン−酢酸ビニル共重合体のようなポリオレフィ
ン系樹脂、ポリメチルメタアクリＶ−）、エチレン−メ
チルメタアクリレート共重合体、ポリメタアクリル酸の
ようなポリアタリレート系樹脂、ポリスチレン。
て他種の樹脂１例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン
、エチレン−酢酸ビニル共重合体のようなポリオレフィ
ン系樹脂、ポリメチルメタアクリＶ−）、エチレン−メ
チルメタアクリレート共重合体、ポリメタアクリル酸の
ようなポリアタリレート系樹脂、ポリスチレン。
ム１８．ムｍｅ、ムロ８，８ム１．輩Ｂ８のようなポリ
スチレン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート」ポリブ
チレンテレフタレート、ポリカプロ２タトン、ポリピパ
ロックトンのような、ポリニスデル１１１脂、 ！″イ
ロンー１．ナイロンー４４ナイ四ンー６７０．ナイロン
−／／、ナイロ、ノー／−のよ、うなポリアミド樹脂、
ポリカーボネート樹脂、ポリアセタール樹脂等を配合し
てもよい。
スチレン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート」ポリブ
チレンテレフタレート、ポリカプロ２タトン、ポリピパ
ロックトンのような、ポリニスデル１１１脂、 ！″イ
ロンー１．ナイロンー４４ナイ四ンー６７０．ナイロン
−／／、ナイロ、ノー／−のよ、うなポリアミド樹脂、
ポリカーボネート樹脂、ポリアセタール樹脂等を配合し
てもよい。
また、υ′ノ酸、亜リす酸、それらのエステル。
またはそれらの金属塩のような安定剤、ガラス繊維、゛
炭素−紬のような補強剤、シリカ、アルミナ、シリカ−
アルミナ、シリカ−マグネシア。
炭素−紬のような補強剤、シリカ、アルミナ、シリカ−
アルミナ、シリカ−マグネシア。
カルシウム化会物等の充填剤、その他町履剤。
滑剤、紫外＊ａ収剤、−燃剤、染顔料等の添加剤を加え
ることもできる。
ることもできる。
本発明の組成物は、芳香族ポリエステルポリカーボネー
トが本来有するすぐれた性質を損なうことなく、離層性
が改善されているので、エンジニアリングプラスチック
として広範囲の用途に使用することができ、工業的価値
が大きい。
トが本来有するすぐれた性質を損なうことなく、離層性
が改善されているので、エンジニアリングプラスチック
として広範囲の用途に使用することができ、工業的価値
が大きい。
以下、実施例によって本発明を異体的に説明するが１本
発明はその畳旨をこえない隈り以下の実施例に限定され
るものではない。
発明はその畳旨をこえない隈り以下の実施例に限定され
るものではない。
なお、実施例中「部」は「重量部」を示し。
引張強度、―げ強度およびアイゾツト衝撃強度はそれぞ
れムｆｌＴＭＤ４２１−ＡＩ、ム８τＭＤ７９０ およ
びム５１ＴＭ Ｄ Ｊｊ４に基いて一定した値である。
れムｆｌＴＭＤ４２１−ＡＩ、ム８τＭＤ７９０ およ
びム５１ＴＭ Ｄ Ｊｊ４に基いて一定した値である。
また、離朦性は、連続射出成形において、成形品にエジ
ェクターの痕が目立ちはじめるまでの成形ショツト数を
示し、ショツト数が大きいはど離層性がすぐれているこ
とを示す。
ェクターの痕が目立ちはじめるまでの成形ショツト数を
示し、ショツト数が大きいはど離層性がすぐれているこ
とを示す。
芳香族ポリヱスデルボリカーボネートの製造例テレフタ
ロイルクロリドのＪ％塩化メチレン湊ｔ、ビスフェノー
ルＡを３％水酸化ナトリウム水溶液に溶解してＷｉ４製
したビスフェノールムナトリクム塩／Ｊ％の水溶液およ
び１〜トリエチルア電ン水溶液を、それぞれ参−Ｊす／
ｈｒ 。
ロイルクロリドのＪ％塩化メチレン湊ｔ、ビスフェノー
ルＡを３％水酸化ナトリウム水溶液に溶解してＷｉ４製
したビスフェノールムナトリクム塩／Ｊ％の水溶液およ
び１〜トリエチルア電ン水溶液を、それぞれ参−Ｊす／
ｈｒ 。
／ ｊ、？す／ｈｒおよび０．−り徊の流量で、内径Ｊ
Ｑｗｍ、長さ１．１ ｍのガラス球充填塔に供給し。
Ｑｗｍ、長さ１．１ ｍのガラス球充填塔に供給し。
腋塔の供給口から０．７身ｍの位置からホスゲン９．９
１Ｑ／ｈｒを吹込んで反応を行い、ニスグル紬金を有し
、末端にりｗ＋ｅｔホーメート基な有す一オリゴマーを
製造した・ 反応混合物を分液して得た上記オリゴマーの塩化メチレ
ン濤′ａｌ参参、０（△１上記と同じビスフェノールム
ナトリウム塩の／Ｊ％水溶水溶液／ｌ。／ｋｘ、Ｊｊ％
水酸化ナトリウム水＊＊／、／〜／ ｈｒ、Ｊ％トリエ
チルア建ンの水溶液０．４クー／ｈｒおよびＰ−ターシ
ャリ−ブチルフェノールコクＩ／ｈｒを、攪拌槽に供給
し、平均滞留時間が一時間となるようにして重―倉反応
を行った。
１Ｑ／ｈｒを吹込んで反応を行い、ニスグル紬金を有し
、末端にりｗ＋ｅｔホーメート基な有す一オリゴマーを
製造した・ 反応混合物を分液して得た上記オリゴマーの塩化メチレ
ン濤′ａｌ参参、０（△１上記と同じビスフェノールム
ナトリウム塩の／Ｊ％水溶水溶液／ｌ。／ｋｘ、Ｊｊ％
水酸化ナトリウム水＊＊／、／〜／ ｈｒ、Ｊ％トリエ
チルア建ンの水溶液０．４クー／ｈｒおよびＰ−ターシ
ャリ−ブチルフェノールコクＩ／ｈｒを、攪拌槽に供給
し、平均滞留時間が一時間となるようにして重―倉反応
を行った。
反応混合物を分液して得たポリ！−の塩化メチレン溶液
を、水、塩酸水溶液１次いで水で洗浄した後、塩化メチ
レンを蒸発させて、〔Ｖ〕が０．７身でビスフェノール
ム残基：テレ７タル酸残基：カーボネート結合のモル比
／ ： Ｊ事４ ：０、ｊ ｌの芳香族ポリエステルポ
リカーボネートを得た。
を、水、塩酸水溶液１次いで水で洗浄した後、塩化メチ
レンを蒸発させて、〔Ｖ〕が０．７身でビスフェノール
ム残基：テレ７タル酸残基：カーボネート結合のモル比
／ ： Ｊ事４ ：０、ｊ ｌの芳香族ポリエステルポ
リカーボネートを得た。
実施例／、Ｊおよび比歇例／−Ｊ
上記製造例により製造した芳香族ポリニスデルポリカー
ボネートの粉末１００部に対し、下記表７に示す数平均
分子量のポリエチレンワックス（ヘキスト社製、商標、
ヘキストワックスＰム）０．１部を配合し、押出機を用
いて２００℃で溶融混合して押出し、ペレット化した。
ボネートの粉末１００部に対し、下記表７に示す数平均
分子量のポリエチレンワックス（ヘキスト社製、商標、
ヘキストワックスＰム）０．１部を配合し、押出機を用
いて２００℃で溶融混合して押出し、ペレット化した。
これらのベレットを、射出成形機（日精樹脂物製τｓ−
ｔｏａｍ）およびム８ＴＭで規定する試験片成形用金飄
な用イ、 ｌ１Ｊｆ！温ＩＩＬＪＪＯ”Ｃ。
ｔｏａｍ）およびム８ＴＭで規定する試験片成形用金飄
な用イ、 ｌ１Ｊｆ！温ＩＩＬＪＪＯ”Ｃ。
金層温度／１０℃、射出圧力ｔ Ｊ Ｊ ｏ ！／ｄ。
射出時間／ｊ秒および冷却時間０秒の条件で連続成形を
行った。
行った。
ｍｇｉ＊、および得られた試験片の機械的性質および熱
変形１１度は下記＃！コに示す−りであった。
変形１１度は下記＃！コに示す−りであった。
なお、比較のため、流−バッフインを用いた場金、数平
均分子量が本発明範囲外のポリエチレンワックスを用い
た場合、および添加剤を使用しなかった場合の結果を併
記する。
均分子量が本発明範囲外のポリエチレンワックスを用い
た場合、および添加剤を使用しなかった場合の結果を併
記する。
Claims (4)
- （１）一般式 を表わされる構造単位と１一般式 ゛ （式中、！および芳香核は上記と同一意義を有すゐ
・） で表わされる構造単位とからなり、かつジしドロキシジ
アリール化合物残基：デレフタル酸残基：力−メネート
結合のセル比がｌ：０．１３〜０．７ｊ ： ０．４２
〜０．１２３ である芳香族ポリニスデルポリカーボ
ネート１００重量部に対し、数平均分子量／！ＤＯ−１
０００のポリエチレンワックス、ポリプロピレンワック
スまたはその部分酸化ワックス０．０ｊ〜！重量部を配
合してなる芳香族ポリエステルポリカーボネート樹脂組
成物。 - （２）芳香族ポリエステルポリカーボネートの固有粘度
が０．参〜／、ｊｌである特許請求の範囲第（１）項記
載の芳香族ポリエステルポリカーボネート樹脂組成物。 - （３） 芳香族ポリエステルポリカーボネートのガラ
ス転移点が、７４０〜／９０℃である特許請求の範囲第
（１）項記載の芳香族ボリエヌールポリカーボネート樹
脂組成物。 - （４）芳香族ポリニスデルポリカーボネートの末趨カル
ボキシ基が７０μ当量／ｌ樹脂以下である特許請求の範
囲第（１）項記載の芳香族ポリエステルポリカーボ耳−
ト側脂組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14053882A JPS5859255A (ja) | 1982-08-13 | 1982-08-13 | 芳香族ポリエステルポリカ−ボネ−ト樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14053882A JPS5859255A (ja) | 1982-08-13 | 1982-08-13 | 芳香族ポリエステルポリカ−ボネ−ト樹脂組成物 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15702478A Division JPS5584353A (en) | 1978-12-20 | 1978-12-20 | Aromatic polyester-polycarbonate resin composition |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5859255A true JPS5859255A (ja) | 1983-04-08 |
Family
ID=15270997
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14053882A Pending JPS5859255A (ja) | 1982-08-13 | 1982-08-13 | 芳香族ポリエステルポリカ−ボネ−ト樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5859255A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0803337A3 (en) * | 1996-04-26 | 1998-08-05 | Hoechst Japan Limited | Release agent compositions |
| EP0905190A1 (de) * | 1997-09-29 | 1999-03-31 | Ticona GmbH | Thermoplastische Formmasse |
| JP2005075991A (ja) * | 2003-09-02 | 2005-03-24 | Mitsubishi Engineering Plastics Corp | 導光板用芳香族ポリカーボネート樹脂組成物、導光板および面光源体 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52128992A (en) * | 1976-04-02 | 1977-10-28 | Allied Chem | Melt processing copolymer of bisphenol aatelephthalateecarbonate and preparation thereof |
-
1982
- 1982-08-13 JP JP14053882A patent/JPS5859255A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52128992A (en) * | 1976-04-02 | 1977-10-28 | Allied Chem | Melt processing copolymer of bisphenol aatelephthalateecarbonate and preparation thereof |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0803337A3 (en) * | 1996-04-26 | 1998-08-05 | Hoechst Japan Limited | Release agent compositions |
| EP0905190A1 (de) * | 1997-09-29 | 1999-03-31 | Ticona GmbH | Thermoplastische Formmasse |
| JP2005075991A (ja) * | 2003-09-02 | 2005-03-24 | Mitsubishi Engineering Plastics Corp | 導光板用芳香族ポリカーボネート樹脂組成物、導光板および面光源体 |
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