JPS5854520B2 - プリント板の製造方法 - Google Patents

プリント板の製造方法

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JPS5854520B2
JPS5854520B2 JP53086807A JP8680778A JPS5854520B2 JP S5854520 B2 JPS5854520 B2 JP S5854520B2 JP 53086807 A JP53086807 A JP 53086807A JP 8680778 A JP8680778 A JP 8680778A JP S5854520 B2 JPS5854520 B2 JP S5854520B2
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resist
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ground
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綾子 宮原
清隆 宮川
清 高木
啓治 黒沢
久三 三ツ井
光男 山下
憲二 山本
晴男 川俣
勇吉 竹田
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Fujitsu Ltd
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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はプリント板に関し、特に信号パターン間のクロ
ストークを減少させるように改良した多層プリント板に
関するものである。
近年、トランジスタ、ICその他の電子部品の小型化に
伴ないプリント板の配線が高密度化し信号パターン同志
が近接して配置されている。
このため近接して平行に配設された信号パターン間にお
いて、一方の信号パターンの電気信号が隣の信号パター
ンに混入して信号を防害したりあるいはノイズを発生す
る等、いわゆるクロストーク現象が起る。
このようなりロストークを防止するために配線ハターン
形成平面上において各信号パターン間にアースパターン
を配設し各信号パターン同志を隔離したプリント板は既
に本出願人により提案されている。
しかしながらこのようなプリント板においても完全なり
ロストーク消滅はできず、またプリント板を多層化した
場合の各層の信号パターン同志間でのクロストークを完
全に解消することはできない。
本発明は上記の点に鑑みなされたものであって、アース
パターンおよび信号パターンを有するプリント板におい
て、信号パターンの断面周囲近傍の一部又は全部を絶縁
層を介してアースパターンで囲み、以ってクロストーク
の発生を減少させたプリント板の製造方法を提供するこ
とである。
以下、図面を参照して本発明の実施例について説明する
第1図は本発明に係るプリント板の第1実施例の俗製造
過程における断面図である。
まず絶縁性の基板10両面にアース用銅膜2を形成する
(A図)。
これは市販の両面銅張板を用いてもよい。以下この基板
1の両面に同一の製造過程でプリント板が形成されるた
め基板1の上側についてのみ説明する。
銅膜2の上側にアースパターン形成用溝孔4を残して感
光性非媒樹脂、即ち無電解メッキ可能レジスト3を塗布
する(B図)。
この場合通常のレジスト塗布作業工程に従って、まず全
体にレジストを塗布し続いてパターンフィルムで覆い感
光、焼付け、現像により上記溝孔4を形成する。
次に上記溝孔4に電解メッキにより銅のアースパターン
2/を上記レジスト3の厚さまで成長させる(0図)。
次にこの上に感光性非触媒樹脂、即ち無電解メツキネ能
レジスト5を塗布し両アースパターン21 の上にアー
スパターン形成用溝孔6を設け、またこの2つの溝孔6
,6の中間に信号パターン形成用溝孔6′ を設ける(
D図)。
次に上記溝孔6および67 K無電解メッキにより無電
解メツキネ能レジスト5の厚さまで銅を成長させる。
このとき信号パターン形成用溝孔6′の底部は無電解メ
ッキ可能レジスト3であるためメッキ形成は可能である
このようにしてE図に示すように信号パターン2/lお
よび銅膜2に導通するアースパターン2/が形成される
次KB図に示した工程と同様にしてアースパターン2′
の位置ニ溝孔7を残して無電解メッキ可能レジスト3を
塗布する(F図)。
続いて電解メッキにより溝孔7にアースパターン2′ヲ
形成する(G図)。
続いて無電解メッキにより表面上全体に銅膜2″′を形
成する(H図)。
なお、この場合、メッキ作業時間を短縮するため、無電
解メッキにより樹脂上に薄く銅膜が形成された後電解メ
ッキにより銅をメッキ成長させてもよい。
このことは以下の各実施例において樹脂上に無電解メッ
キを施す場合にも同様である。
以上のようにして信号パターン2//の断面周囲を絶縁
材料(この場合は無電解メッキ可能レジスト3、および
無電解メツキネ能レジスト5)を介してアースパターン
2′およびこれに導通するアース用銅膜2,2///V
Cより完全に囲うことができる。
以上のような工程の繰返しにより製造した多層プリント
板を用いれば各信号パターン間のクロストークは防止さ
れプリント板を用いた装置の信頼性が増加する。
第2図は本発明に係るプリント板の別の実施例の谷製造
過程の断面図である。
まず基板1上に通常の方法に従って信号パターン15を
形威しこの上に未硬化樹脂16を塗布する(A図)。
次にアルミニウム膜9および銅薄膜8からなるUTC(
Ultra Th1n Copper ) 17の銅薄
膜8を基板1側に向はゴム等の弾性材18を介して上か
ら押圧する(B図)。
このとき真空ラミネート法を用いて圧着部の空気成分を
除去することが望ましい。
従ってUTC17は信号パターン15の形状に沿って湾
曲して基板1に樹脂16を介して接合される(0図)。
続いてUTC17のアルミニウム膜9を取り除き、信号
パターン15の上部の必要部分レジスト19を塗布する
(D図)。
次にエツチングにより銅薄膜8の不要部を除去する(E
図)。
以上のようにして信号パターン15の断面周囲の一部を
銅薄膜8によるアースパターンで囲うことができる。
第3図は本発明の別の実施例の各工程のプリント板断面
図である。
基板1の片面に信号パターン21/およびその両側にア
ースパターン2′を形成し、さらにこの基板10反対面
(下側)に上側の両アースパターンの間隔を覆う幅のア
ースパターン2″′を形成する(A図)。
この各パターン形成工程は両面銅張板のプリントエツチ
ング等により行なう。
次に基板1の下側のアースパターン2″′と同様の形状
のアースパターン2″′を形成した別の基板11を未硬
化樹脂16を塗布した基板1と圧着接合する(B図)。
この別の基板1′上のアースパターン2″′は片面銅張
板のプリントエツチング等によつ形成する。
このようにして0図に示すように信号パターン2″の断
面周囲を谷アースパターン2′、2″′ により囲うこ
とができる。
なお未硬化樹脂16として誘電率の低い樹脂(例えばポ
リブタジェン、フッ化樹脂、ポリエチレA等)を適当に
選択して用いれば伝送速度を速くすることができる。
このことは本明細書中に開示した各実施例についても同
様である。
第4図は本発明の別の実施例のプリント板の各製造過程
を示す断面図である。
まずUTC17上に信号パターン21を形成し、これを
溝20を形成した基板1にプリプレグ12を介して積層
する(A図)。
次に溝20内に埋設された信号パターン21を残してU
TC17を除去する(B図)。
次にこの信号パターン21の上面を絶縁性樹脂22(例
えばレジスト)で覆い表面に厚さ1〜2μ程度の無を解
メッキ23を施す(0図)。
次にアースパターン形成部以外にレジスト24を塗布す
る(D図)。
続いて電解メッキによりアースパターン25を形成し、
レジスト剥離後レジスト下部の銅膜をエツチングにより
除去する(E図)。
このようにして信号パターン21の断面周囲の一部を絶
縁性樹脂22を介してアースパターン25で囲うことが
できる。
第5図は本発明の別の実施例のプリント板の各製造過程
を示す断面図である。
銅薄膜8およびアルミニウム膜9からなるUTC17の
銅薄膜8側にレジスト31を塗布し、非塗布部にメッキ
成長によりアースパターン29を形成する(A図)。
レジスト31を塗布した状態のUTC17をプリプレグ
12を介して信号パターン30を形成した基板1上に積
層する。
UTC17と基板1とを圧着接合後UTCのアルミニウ
ム膜9を除去する(0図)。
以上のようにして信号パターン30の断面周囲の一部を
銅薄膜8およびアースパターン29からなるアース層に
より囲うことができる。
この場合、信号パターン30周囲の絶縁層にはレジスト
が残留しているため誘電率は低下する。
第6図は本発明の別の実施例のプリント板の各製造過程
を示す断面図である。
この場合は、第5図の実施例と異なる点はUTC17に
アースパターン29を形成後レジストを剥離することで
ありさらにUTC17および信号パターン30を形成し
た基板1とを低誘電率の粉体レジン32を用いて接合す
ることである。
第7図は本発明の別の実施例のプリント板の谷製造過程
を示す断面図である。
まず絶縁性を有し、光又はその他の処理で溶解性または
非溶解性をもつ基板iKレーザ加工等により溝20を形
成する(A図)。
次にこの基板10表面に無電解メッキおよび電解メッキ
を施し銅膜2を形成する(B図)次にこの銅膜2を形成
した溝20内に樹脂33を埋め込みその表面全体に無電
解メッキにより銅膜34を形成する(C図)。
この銅膜34上にパターンに従ってレジスト35を塗布
する(D図)。
続いて電解メッキにより溝20内の樹脂33の上部には
信号パターン36/ を、谷溝20の中間部にはアース
パターン36となるべき銅パターン層を形成しレジスト
を除去する(E図)。
次にエツチングにより表面全体から無電解メッキによる
銅膜34の厚さ分の銅を除去する(F図)。
次に表面全体にレジスト37を塗布する(G図)。
次にパターンフィルム(図示しない)を用いて露光、焼
付け、現像してアースパターン36上のレジスト37を
除去し、信号パターン36′はレジスト37内に埋め込
んだままにしておく(H図)。
続いて電解メッキによりアースパターン36上に銅を成
長させレジスト3フ0表面位置に達した後さらに無電解
メッキにより表面全体に谷アースパターン36同志を導
通させる銅膜39を形成する(1図)。
次に銅膜39の不要部をエツチングにより除去する(5
図)。
以上のようにして信号パターン36′ の断面周囲を銅
膜2,39およびアースパターン36により完全に囲う
ことができる。
第8図は本発明の別の実施例のプリント板の谷製造過程
を示す断面図である。
第1基板1の両面ニ信号パターン40を形成する。
第2基板1/および第3基板1″の片板に上記信号パタ
ーン40より幅の広いアースパターン41を各々形成す
る。
これらの第11第2、第3基板を各々対応する信号パタ
ーン40およびアースパターン41がプリプレグ12を
介して対面するように配置し上下方向から矢印のような
力を加えて積層する(A図)。
従って第2基板1′および第3基板1/′は信号パター
ン40の形状に従って湾曲して第1基板1上に積層され
る(B図)。
このようにして信号パターン40の断面周囲の一部を残
してアースパターン41により囲うことができる。
第9図は本発明の別の実施例のプリント板の各製造過程
を示す断面図である。
まず銅板42の上面にVシスト43を塗布する(A図)
次にこの上面をパターンフィルム44で覆い(B図)、
露光、焼付け、現像によりレジスト不要部を除去する(
C図)。
次にエツチングにより銅板42に4つの溝45を形成す
る(D図)。
次にこの溝45内に樹脂46を埋め込む(E図)。
続いて銅板42の下面に対しても同様の過程に従って上
面の溝45と連通ずる溝45′ を形成し同様にして
樹脂46を埋め込む(F図)。
次にこの銅板420両面にVシスト43を塗布しパター
ンフィルム44で覆い(G図)、露光、焼付け、現像後
中央の2つの樹脂部46間の銅板表面をレジスト43で
覆ったまま残りのレジストを除去する(H図)。
続いて無電解メッキおよび電解メッキにより上下両表口
全体に銅膜47を形成する(1図)。
次にこの銅膜47上にレジスト43を塗布しパターンフ
ィルム44で覆い(5図)、露光、焼付け、現像により
不要部のレジストを除去する(K図)。
続いてエツチングによりアースパターン47′を形成す
る(L図)。
このようにして中央の2つの樹脂部46間の銅板を信号
パターン42”としその側対側の銅板部をアースパター
ン42’ とすれば信号パターンはアースパターンに
より絶縁層を介して完全に囲まれることになる。
この場合、H図に示した状態、即ち銅板42に4本の樹
脂部を形成し中央2つの樹脂部間の銅板を覆うレジスト
43を塗布した状態の後の工程は第10図に示すような
方法を用いてもよい。
即ち、両表面に無電解メッキにより銅膜41″を形成す
る( I’図)。
次にレジスト43を全面に塗布しパターンフィルム44
/で覆い(J′ 図)アースパターン形成部のレジスト
を除去する(K/ 図)。
次に、電解メッキによりアースパターン47′ を形
成する(L/図)。
続いてエツチングにより上記17図の工程で行った無電
解メッキによる銅膜47″を除去する(L図)。
このようにして第9図(L図)と同じよウニ信号パター
ンをアースパターンで完全に囲うことができる。
第11図は本発明の別の実施例のプリント板の各製造過
程を示す断面図である。
銅板53上にパターンに従ってレジスト54を塗布しエ
ツチングにより溝55を形成する(A図)。
レジスト除去抜溝55内に誘電率の低い未硬化の樹脂5
6、例えばポリブタジェンを充填する(B図)。
このように形成した銅板53を信号パターン58を形成
した基板5Tと熱圧着により一体化する(C図)。
続いて必要部分にレジスト59を塗布しくD図)、エツ
チングにより不要部分の銅を除去する(E図鬼このよう
にして信号パターン58の断面周囲の約半分を樹脂56
を介してアースパターンとしての銅板53で囲うことが
できる。
第12図は本発明の別の実施例のプリント板の各製造過
程を示す断面図である。
基板1上に信号パターン48およびアースランド49を
形成する(A図)。
これは両面銅張積層板を用いて形成してもよい。
レジスト50により各信号パターン48を覆う(B図)
次に厚付は無電解メッキにより表面全体に銅膜52な形
成し必要部にレジスト51を塗布する(0図)。
エツチングにより不要な銅膜を除去しレジストを剥離す
る(D図)。
以上のようにして信号パターン48の断面周囲の約半分
を絶縁層であるレジスト50を介してアースパターンで
ある銅膜52で囲うことができる。
第13図は本発明の別の実施例のプリント板の谷製造過
程を示す断面図である。
銅張積層板の基板1上に信号パターン61およびアース
ランド60を形成する。
次に信号パターン61を誘電率が低い絶縁性の樹脂62
により覆5(B図)。
次にアースパターンとする部分にスクリーン印刷ニより
導電性樹脂63をコーティングする(0図)。
以上のようにして信号パターン61の断面周囲をアース
パターンで部分的に囲うことができる。
第14図は本発明の別の実施例のプリント板の各製造過
程を示す断面図である。
銅張積層板の基板1上に信号パターン64およびアース
ランド65を形成する(A図)。
信号パターン64上には無電解メッキ可能レジスト66
を塗布し、アースランド65上には無電解メツキネ能レ
ジスト67を塗布する(B図)。
無電解銅メッキによりlO〜20μの厚さのアースパタ
ーン68を形成する(0図)。
アースランド65上の無電解メツキネ能レジストを除去
する(D図)。
この後、アースランド65にはスルーホール等を形成す
る。
以上のようにして信号パターン64の断面周囲の一部を
アースパターン68により絶縁性のレジスト66を介し
て囲うことができる。
第15図は本発明の別の実施例のプリント板の製造方法
の谷過程を示すプリント板断面図である。
まず信号パターンに対応した位置に沿ってレーザ加工又
は樹脂エツチングあるいは他の機械的方法により基板1
に溝20を形成する(A図)。
次に無電解メッキにより上記溝20の内表面を含む基板
10表面にアース層としての銅膜2を形成する(B図)
次にUTCIIの銅薄膜8上に形成した信号パターン8
/が基板1の溝20と対面するようにUTCIIと基板
1とを配置し両者をプリプレグ(接着シート)12を介
して圧着させる(0図)。
次にUTCl 1のアルミニウム膜9をはがしさらに銅
薄膜8をエツチングにより除去し信号パターン8′ の
みを基板1の溝内に残し、続いて樹脂13を介して表面
にアース用銅膜14を形成する(D図)。
以上のようにして信号パターン8/の断面周囲を一部残
しアースパターンにより囲むことができる。
第16図は本発明の別の実施例のプリント板の谷製造過
程を示す断面図である。
絶縁性基板10表面に銅膜2を形成する(A図)。
信号パターン対応部周辺を残してレジスト26を塗布す
る(B図)。
エツチングによりレジスト非塗布部の銅膜を除去し、さ
らにレジスト26を除去する(C閣。
次に樹脂エツチングにより基板1に溝2γを形成する(
D図)。
次に無電解メッキおよび電解メッキにまり銅膜28を形
成する(E図)。
続いて溝27周辺にレジスト26を塗布する。
次にエツチングにまり銅膜28の不要部を除去しアース
パターン28′ を形成する。
次にUTCl7上に形成した信号パターン21を溝2γ
に対面させて配置しUTCl7と基板1とをプリプレグ
12を介して積層する(H図)。
UTC17と基板1とを熱圧着接合後、信号パターン2
1のみをアースパターン28′の内側に残してUTCを
除去する(■図)。
以上のようにして信号パターン21(7)Fr面周囲の
一部をアースパターン28′ により囲うことができる
以上説明したように本発明に係るプリント板においては
信号パターンの断面周囲の全部または一部を囲うように
アースパターンを形成するため各信号パターン間でのク
ロストーク現像は大きく減少し、信号伝達の信頼性が大
きく増加する。
また各図面に基いて説明した本発明に係るプリント板の
各製造方法を繰り返すことにより、あるいは製造したプ
リント板を複数段に積層することにより多層化し、多層
プリント板として用いればクロストーク現象の解消効果
はさらに犬きく発揮される。
【図面の簡単な説明】
第1図ないし第16図は本発明に係るプリント板の各別
の製造方法の各過程を順番に示したプリント板断面図で
ある。 1 、 1’、 1”、 57・・・・・・基板、2
’、25,28’29,36,41,42’、47’、
68・・・・・アースパターン、2”、8’、i5,2
1,30,36’。 40.42”、48,58,61,64・・・・・・信
号パターン、2.2”’、28,34,39,47゜4
7”’、52・・・・・・銅膜、3.66・・・・・・
無電解メッキ可能レジスト、4,6・・・・・・アース
パターン形成用溝孔、5,67・・・・・・無電解メツ
キネ能レジスト、6/・・・・・・信号パターン形成用
溝孔、7・・・・・・溝孔、10.19,24,26,
31,35,37゜43.50,5L 54,59・
・・・・・レジスト、11.17・・・・・・UTC,
12・・・・・・プリプレグ、13.16,22,33
,46,56,62・・・・・・樹脂、63・・・・・
・導電性樹脂。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1(a)基板上にアース金属からなる第1層を形成する
    工程: (b) 上記第1層上にレジストを塗布し、このレジ
    ストに少くとも2本のアースパターン形成用溝孔を設け
    る工程; (c) 上記レジストの溝孔に上記第1層と導通する
    アースパターン金属をこのレジスト表面位置までメッキ
    成長させて第2層を形成する工程;(d) 上記第2
    層上にレジストを塗布し、このレジストニ上記第2層の
    両アースパターンに連続するアースパターン形成用溝孔
    を設け、さらにこれらの両溝孔の中間部に信号パターン
    形成用溝孔を設ける工程; (e) 上記レジストの各溝孔に各パターン金属をこ
    のレジスト表面位置までメッキ成長させて第3層を形成
    する工程: (f) 上記第3層上にレジストを塗布し、上記第3
    層のアースパターンに対応する位置にのみこれに連続す
    るアースパターン形成用溝孔を設ける工程; Q 上記第3層上に塗布したレジストの溝孔にアースパ
    ターン金属をこのレジスト表面位置までメッキ成長させ
    て第4層を形成する工程:(h) 上記第4層の各ア
    ースパターンを相互に導通させるためのアース金属から
    なる第5層を形成する工程:からなるプリント板の製造
    方法。 2(a)金属表面層を有する薄板上にレジストを用いて
    該金属表面層と導通するアースパターンメッキを成長さ
    せる工程: (b) 上記薄板と別の基板上に信号パターンを形成
    する工程; (C)上記アースパターンを形成した薄板のレジストを
    除去する工程; (d) 上記レジスト除去後の薄板を絶縁材料を介し
    て上記基板上に積層する工程;からなるプリント板の製
    造方法。 3(a)銅板の片面に少くとも2本の溝を形成する工程
    ; (b) 上記溝内に絶縁樹脂を充填する工程;(c)
    上記銅板の反対面に上記溝に対応して対応する溝同
    志が連通ずるような溝を形成する工程;(d) 上記
    反対面に形成した溝内に絶縁樹脂を充填する工程; (e) 上記銅板両表面の両溝間の銅露出向をレジス
    トで覆い、両溝間の銅板周囲を絶縁材料により囲う工程
    ; (f) 上記レジスト塗布後の銅板両面上に上記両溝
    の外側の銅板と導通するアース金属層を形成する工程;
    からなるプリント板の製造方法。
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JPS5513936A (en) 1980-01-31

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