JPS5850518A - 一眼レフレツクスカメラのミラ−装置 - Google Patents
一眼レフレツクスカメラのミラ−装置Info
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- JPS5850518A JPS5850518A JP56150115A JP15011581A JPS5850518A JP S5850518 A JPS5850518 A JP S5850518A JP 56150115 A JP56150115 A JP 56150115A JP 15011581 A JP15011581 A JP 15011581A JP S5850518 A JPS5850518 A JP S5850518A
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- Japan
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- light
- slits
- width
- pitch
- mirror device
- Prior art date
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B19/00—Cameras
- G03B19/02—Still-picture cameras
- G03B19/12—Reflex cameras with single objective and a movable reflector or a partly-transmitting mirror
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/28—Systems for automatic generation of focusing signals
- G02B7/36—Systems for automatic generation of focusing signals using image sharpness techniques, e.g. image processing techniques for generating autofocus signals
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Focusing (AREA)
- Cameras In General (AREA)
- Automatic Focus Adjustment (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野８
本発明は一眼レフレックスカメラのミラー装置に関し、
更に詳しくは、撮影レンズ透過光を二分割し、反射光を
ファインダ光学系に、透過光を合焦検出用なρの受光器
にそれぞれ導く一眼レフレックスカメラのミラー装置に
関する。
更に詳しくは、撮影レンズ透過光を二分割し、反射光を
ファインダ光学系に、透過光を合焦検出用なρの受光器
にそれぞれ導く一眼レフレックスカメラのミラー装置に
関する。
従来技術
本願出願人は、先に出願した特願昭５６−８８６２７号
によって、多数の受光素子が配列された合焦検出用受光
器を有する一眼レフレックスカメラにおいて、受光素子
の配列方向に平行な方向にのびる同形状の幅の狭い透光
スリットが多数規則的に配列された全反射ミーラーによ
って撮影レンズ透過光を二分割し、反射光をファインダ
光学系に、透過光を上記合焦検出用受光器にそれぞれ導
くものを提案した。第１図は上記特願昭５６−８８６２
７号第８図図示の実施例のミラーを示すものであり、幅
１５μ、長さ１３０００μの透光スリット（２）がピッ
チ８０μ （ピッチとは隣接するスリット間の中心距離
）で規則的に配列されており、スリット（２）の延びる
方向は、合焦検出装置（４）の多数の受光素子（６）の
配列方向（Ｂ）と平行になるよう設定されている。
によって、多数の受光素子が配列された合焦検出用受光
器を有する一眼レフレックスカメラにおいて、受光素子
の配列方向に平行な方向にのびる同形状の幅の狭い透光
スリットが多数規則的に配列された全反射ミーラーによ
って撮影レンズ透過光を二分割し、反射光をファインダ
光学系に、透過光を上記合焦検出用受光器にそれぞれ導
くものを提案した。第１図は上記特願昭５６−８８６２
７号第８図図示の実施例のミラーを示すものであり、幅
１５μ、長さ１３０００μの透光スリット（２）がピッ
チ８０μ （ピッチとは隣接するスリット間の中心距離
）で規則的に配列されており、スリット（２）の延びる
方向は、合焦検出装置（４）の多数の受光素子（６）の
配列方向（Ｂ）と平行になるよう設定されている。
透光スリット（２）を有する光分割部（３）の大きさは
１３ｍｍＸ１３ｍｍである。このように、スフリット（
２）を等間隔で配列すると、反射光側でも透過光側でも
回折光の干渉が生じる。透過回折光は合焦検出範囲を広
めるのに役立つが、反射光の回折は第２図のように数次
回折光が輝線状になる。例えば、第１図において、光分
割部囚−内のスリット（２）の合計面積を光分割部の面
積の１５％とする（光反射部の合計面積は８５％）と、
０次回折光の強度を１００％と、して、１次のものは２
．９％、２次は２．３％、３次は１．５％となり、強度
は小さいが輝線状となるのでファインダで見ると目立ち
、ファインダ像が観察しにくい。
１３ｍｍＸ１３ｍｍである。このように、スフリット（
２）を等間隔で配列すると、反射光側でも透過光側でも
回折光の干渉が生じる。透過回折光は合焦検出範囲を広
めるのに役立つが、反射光の回折は第２図のように数次
回折光が輝線状になる。例えば、第１図において、光分
割部囚−内のスリット（２）の合計面積を光分割部の面
積の１５％とする（光反射部の合計面積は８５％）と、
０次回折光の強度を１００％と、して、１次のものは２
．９％、２次は２．３％、３次は１．５％となり、強度
は小さいが輝線状となるのでファインダで見ると目立ち
、ファインダ像が観察しにくい。
１旬
本発明は、上述のような点に鑑みてなされたものであり
、その目的は、所定の光分割部の面積内で所定の透過率
及び反射率を維持しつつ、見やすいファインダ像が得ら
れる一眼レフレックスカメラのミラー装置を提供するこ
とにある。
、その目的は、所定の光分割部の面積内で所定の透過率
及び反射率を維持しつつ、見やすいファインダ像が得ら
れる一眼レフレックスカメラのミラー装置を提供するこ
とにある。
発明の要旨
一定の面積内で所定の透過率及び反射率を維持しつつ、
上述のような回折光が輝線状に見えるのを防ごうとすれ
ば、簡単に考えると、（１）スリットの幅方向のピッチ
（隣シ合うスリット間の中心距離）をより大きくして、
０次以外の回折光を微小な角度内におさめて眼で検知で
きないようにするか、（２）幅方向のピッチをランダム
にして反射光の回折が目立たないようにするかが考えら
れる。しかし、（１）のようにピッチを大きくすると所
定の透過率を維持する為にはスリット幅も大きくせねば
ならず、スリット自体がファインダによって黒い線とし
て観察され好ましくない。（２）のようにピッチを全く
ランダムにすると、あまり小さすぎるピッチのところで
は隣り合う２本のスリットがファインダでは一本の黒い
線として見えるし、あまり大きすぎるピッチのところで
は反射光の明るさが不連続的に異なるように見える０ス
リット幅自体をランダムにすることも考えられるが、ス
リット幅をあまり大きくするとそれが黒い線として観察
されるので、幅をランダムに設定できる範囲が小さく、
輝線を充分に見えなくすることができない。
上述のような回折光が輝線状に見えるのを防ごうとすれ
ば、簡単に考えると、（１）スリットの幅方向のピッチ
（隣シ合うスリット間の中心距離）をより大きくして、
０次以外の回折光を微小な角度内におさめて眼で検知で
きないようにするか、（２）幅方向のピッチをランダム
にして反射光の回折が目立たないようにするかが考えら
れる。しかし、（１）のようにピッチを大きくすると所
定の透過率を維持する為にはスリット幅も大きくせねば
ならず、スリット自体がファインダによって黒い線とし
て観察され好ましくない。（２）のようにピッチを全く
ランダムにすると、あまり小さすぎるピッチのところで
は隣り合う２本のスリットがファインダでは一本の黒い
線として見えるし、あまり大きすぎるピッチのところで
は反射光の明るさが不連続的に異なるように見える０ス
リット幅自体をランダムにすることも考えられるが、ス
リット幅をあまり大きくするとそれが黒い線として観察
されるので、幅をランダムに設定できる範囲が小さく、
輝線を充分に見えなくすることができない。
寮
本発明は以上のような考共から試行実験をくり返した結
果として得られるもので弗り、全反射面に一方向に、延
びる多数の透光スリットが配列されたものにおいて、透
光スリットの幅を８０μ以下とするとともに、幅方向の
ピッチを平均スリット幅の２倍以上の範囲内で２種以上
とし、最小ピッチと最大ピッチとの比を１：１．５〜１
：３とすることを特徴とするものである。
果として得られるもので弗り、全反射面に一方向に、延
びる多数の透光スリットが配列されたものにおいて、透
光スリットの幅を８０μ以下とするとともに、幅方向の
ピッチを平均スリット幅の２倍以上の範囲内で２種以上
とし、最小ピッチと最大ピッチとの比を１：１．５〜１
：３とすることを特徴とするものである。
実施例
以下、図面に基いて本発明の種々実施例を説明する。
第３図（ａ）は本発明一実施例の透光スリット（２）の
配列を示すもので、第３図（ｂ）はその幅方向のピツチ
の変化を示すグラフであるｂ不実施例において、透光ス
リット（匂は全て同形状であり、その幅は８０μ以下、
長さは１３０００μで、全ての透光スリットは一方向に
延びるよう互いに平行に配置されている。隣り合うスリ
ット間のピッチはスリット幅の２倍以上で、最小ピッチ
と最大ピッチとの比は約１：３であって、この範囲内で
各ピッチはランダムに設定されており、透光スリット（
２）を有する光分割部のうちスリットの総面積が１５係
を占めるよう配列されている。このスリットの占める面
積は、所望の反射率及び透過率に応じて各ピッチを設定
することにより光分割部のうち１０〜３０議を占めるよ
うにすることができる。
配列を示すもので、第３図（ｂ）はその幅方向のピツチ
の変化を示すグラフであるｂ不実施例において、透光ス
リット（匂は全て同形状であり、その幅は８０μ以下、
長さは１３０００μで、全ての透光スリットは一方向に
延びるよう互いに平行に配置されている。隣り合うスリ
ット間のピッチはスリット幅の２倍以上で、最小ピッチ
と最大ピッチとの比は約１：３であって、この範囲内で
各ピッチはランダムに設定されており、透光スリット（
２）を有する光分割部のうちスリットの総面積が１５係
を占めるよう配列されている。このスリットの占める面
積は、所望の反射率及び透過率に応じて各ピッチを設定
することにより光分割部のうち１０〜３０議を占めるよ
うにすることができる。
このように配列された門数の誘光スリットを有するミラ
ーは、第４図（ａ） （ｂ）に示されるように、多数の
受光素子が配列された合焦検出装置を有する一眼レフレ
ックスカメラの主ミラーに用いられる。
ーは、第４図（ａ） （ｂ）に示されるように、多数の
受光素子が配列された合焦検出装置を有する一眼レフレ
ックスカメラの主ミラーに用いられる。
第４図（ａ）において、（８）は撮影レンズ、（１０）
は上述に位置する副ミラー、（１４Ｊは多数の受光素子
が配列された合焦検出装置であり、第４図（ｂ）に示さ
れるように、受光素子α６）の配列方向に平行な方向に
透光スリット（２）が延びるよう設定されている。
は上述に位置する副ミラー、（１４Ｊは多数の受光素子
が配列された合焦検出装置であり、第４図（ｂ）に示さ
れるように、受光素子α６）の配列方向に平行な方向に
透光スリット（２）が延びるよう設定されている。
（１８）は焦点板、ｃ２０）はペンタプリズム、（２２
）は接眼レンズでこれらはファインダ光学系を構成する
。
）は接眼レンズでこれらはファインダ光学系を構成する
。
このような構成により、撮影レンズ（８）を透過した光
は主ミラーαＯ）の光分割部囚により二分割され、反射
光はファインダ光学系に導かれると共に、光分割部（３
）の透過光は副ミラーα２）により反射されて合焦検出
装置（１４）に導かれ撮影レンズ（８）の合焦状態が検
出される。
は主ミラーαＯ）の光分割部囚により二分割され、反射
光はファインダ光学系に導かれると共に、光分割部（３
）の透過光は副ミラーα２）により反射されて合焦検出
装置（１４）に導かれ撮影レンズ（８）の合焦状態が検
出される。
第５図は本実施例の主ミラー００）におけるスリットの
幅方向の反射光強度分布を示すものであり、図から明ら
かなように、０次回折光（すなわち回折しない光）近傍
では強度がほとんどゼロとなり、スリットの平均ピッチ
の１次回折光のあたりでわずかな強度ピークがあり、そ
れ以後は強度が徐々に小さくなっていく。従って、第２
図のように輝線がファインダで観察されることばないし
、スリット自身は幅が狭いのでファインダで確認される
こともないし、最大ピッチも平均スリット幅の６倍以下
と小さいのでスリット間に広い間隔ができてそこを境に
明るさが変わるように見えることもなく、所望の透過率
及び反射率を維持しつつ見やすいファインダ像を、得る
ことができる。更に、本実施例において、透光スリット
（２）を透過した光の回折については、スリットの幅方
向の回折は合焦検出範囲を広くするのに役立つし、スリ
ット長手方向については合焦検出装置α４）にはほとん
ど回折しない光のみ受光されるので精度を悪化させるこ
とはない。
幅方向の反射光強度分布を示すものであり、図から明ら
かなように、０次回折光（すなわち回折しない光）近傍
では強度がほとんどゼロとなり、スリットの平均ピッチ
の１次回折光のあたりでわずかな強度ピークがあり、そ
れ以後は強度が徐々に小さくなっていく。従って、第２
図のように輝線がファインダで観察されることばないし
、スリット自身は幅が狭いのでファインダで確認される
こともないし、最大ピッチも平均スリット幅の６倍以下
と小さいのでスリット間に広い間隔ができてそこを境に
明るさが変わるように見えることもなく、所望の透過率
及び反射率を維持しつつ見やすいファインダ像を、得る
ことができる。更に、本実施例において、透光スリット
（２）を透過した光の回折については、スリットの幅方
向の回折は合焦検出範囲を広くするのに役立つし、スリ
ット長手方向については合焦検出装置α４）にはほとん
ど回折しない光のみ受光されるので精度を悪化させるこ
とはない。
第６図（ａ）は本発明の他の実施例に係る透光スリット
の配列を示すものであり、第６図缶）はその幅方向のピ
ッチの変化を示すグラフである。本実施例において透光
スリットは全て第３図〜第５図の実施例と同形状のもの
であるが、その配列はピッチがスリット幅の２倍以上で
最小ピッチと最大ピッチとの比が１：１．５〜１：３の
範囲内でスリットの幅方向にピッチが徐々に大きくなシ
次に徐々に小さくなるようにスリットを配列したものを
一つのブロック（Ｏとして、このブロックをくり返し配
置したものである。−ブロックの幅は約１〜３ｍｍであ
り、光分割部にはこのブロックが４〜１３個設けられる
。本実施例の配列も第４図図示のように、所定方向に配
列された多数の受光素子を有する一眼レフレックスカメ
ラの主ミラーに用いられ、スリットの延びる方向が受光
素子の配列方向と平行になるように配置される。
の配列を示すものであり、第６図缶）はその幅方向のピ
ッチの変化を示すグラフである。本実施例において透光
スリットは全て第３図〜第５図の実施例と同形状のもの
であるが、その配列はピッチがスリット幅の２倍以上で
最小ピッチと最大ピッチとの比が１：１．５〜１：３の
範囲内でスリットの幅方向にピッチが徐々に大きくなシ
次に徐々に小さくなるようにスリットを配列したものを
一つのブロック（Ｏとして、このブロックをくり返し配
置したものである。−ブロックの幅は約１〜３ｍｍであ
り、光分割部にはこのブロックが４〜１３個設けられる
。本実施例の配列も第４図図示のように、所定方向に配
列された多数の受光素子を有する一眼レフレックスカメ
ラの主ミラーに用いられ、スリットの延びる方向が受光
素子の配列方向と平行になるように配置される。
一第７図は本実施例の反射光強度分布を示すものであり
、第５図と比べると明らかなように、本実施例の配列で
は、回折光に強度ピークができないし、回折光の強度自
体も全体に弱くすることができる。これは、透光スリッ
トを第３図のようにランダムに配置するよりも、何らか
の規則性をもって配列した方が回折光を分散させたり打
ち消し合ったりさせ□ることができるからであると考え
られるＯ ゛第８図はそれぞれ本発明の他の実施例に係るピッチの
幅方向の変化を示すものであり、第６図の実施例のよう
に単位ブロックがくり返し配置されるものにおいて、そ
の単位ブロック内のピッチの変化を示すものである。第
８図（ａ）は階段状のピッチの変化を有するブロック、
第８図（ｂ）は中央がくぼんだカルデラ状のピッチの、
変化を有するプロンするブロックをそれぞれ示しており
、−ブロックの幅方向長さは約１〜３ｍｍである。透光
スリットは全て幅８０μ以下の同一形状である。第８図
図示の各実施例においては、隣り合うスリットがあまり
近接しすぎたりあまり離れすぎたりしないように、平均
ピッチよりも大きいピッチの数と小さいピッチの数とが
ほぼ等しくなるようにピッチが設定されている。
、第５図と比べると明らかなように、本実施例の配列で
は、回折光に強度ピークができないし、回折光の強度自
体も全体に弱くすることができる。これは、透光スリッ
トを第３図のようにランダムに配置するよりも、何らか
の規則性をもって配列した方が回折光を分散させたり打
ち消し合ったりさせ□ることができるからであると考え
られるＯ ゛第８図はそれぞれ本発明の他の実施例に係るピッチの
幅方向の変化を示すものであり、第６図の実施例のよう
に単位ブロックがくり返し配置されるものにおいて、そ
の単位ブロック内のピッチの変化を示すものである。第
８図（ａ）は階段状のピッチの変化を有するブロック、
第８図（ｂ）は中央がくぼんだカルデラ状のピッチの、
変化を有するプロンするブロックをそれぞれ示しており
、−ブロックの幅方向長さは約１〜３ｍｍである。透光
スリットは全て幅８０μ以下の同一形状である。第８図
図示の各実施例においては、隣り合うスリットがあまり
近接しすぎたりあまり離れすぎたりしないように、平均
ピッチよりも大きいピッチの数と小さいピッチの数とが
ほぼ等しくなるようにピッチが設定されている。
で、Ｄ）はガラス基板、（ＡＩ） は全反射面を構成
するＡＩ 膜で、Ａｌ膜 （Ａ１）の膜厚は所望の反射
率に応じて設定される。このようなミラーは、ガラス基
板（Ｇ）上にＡＩ を所定膜厚となるまで蒸着し、エ
ツチング等により透光スリットの形状配列に応じてＡｌ
膜（Ａ１）を取り除くことにより製造される○ 更Ｋ、第１０図の例は、Ａ１膜（Ａｌ）上に、ＭｇＦ２
、ＳｉＯ□等の低屈折率誘電体膜■と、ＺｒＯ□、Ｔｉ
Ｏ２等の高屈折率誘電体膜■とからなる増反射膜をコー
ティングしたものであり、低・高屈折率誘電体膜（転）
■の膜厚は、設計波長をχ。とじて、それぞれχ。／４
である。ガラス基板（Ｇ）の裏面には、膜厚χ。／４の
低屈折率誘電体膜■が設けられており、これは透光スリ
ットを透過した光がガラス基板０）裏面によって反射さ
れてしまうのを防ぐ増透過膜である。このようなミラー
は、ガラス基板（Ｇ）上にＡＩ、低屈折率誘電体、高屈
折率誘電体を順に蒸着し、スリットの形状配列に応じて
所定部分をエツチング等により取り除けば良い。ガラス
基板０）裏面の増透過膜は、上記低屈折率誘電体蒸着時
に蒸着すれば良い。このように構成することにより、ミ
ラーによる反射及び透過を共に増加させることができる
。
するＡＩ 膜で、Ａｌ膜 （Ａ１）の膜厚は所望の反射
率に応じて設定される。このようなミラーは、ガラス基
板（Ｇ）上にＡＩ を所定膜厚となるまで蒸着し、エ
ツチング等により透光スリットの形状配列に応じてＡｌ
膜（Ａ１）を取り除くことにより製造される○ 更Ｋ、第１０図の例は、Ａ１膜（Ａｌ）上に、ＭｇＦ２
、ＳｉＯ□等の低屈折率誘電体膜■と、ＺｒＯ□、Ｔｉ
Ｏ２等の高屈折率誘電体膜■とからなる増反射膜をコー
ティングしたものであり、低・高屈折率誘電体膜（転）
■の膜厚は、設計波長をχ。とじて、それぞれχ。／４
である。ガラス基板（Ｇ）の裏面には、膜厚χ。／４の
低屈折率誘電体膜■が設けられており、これは透光スリ
ットを透過した光がガラス基板０）裏面によって反射さ
れてしまうのを防ぐ増透過膜である。このようなミラー
は、ガラス基板（Ｇ）上にＡＩ、低屈折率誘電体、高屈
折率誘電体を順に蒸着し、スリットの形状配列に応じて
所定部分をエツチング等により取り除けば良い。ガラス
基板０）裏面の増透過膜は、上記低屈折率誘電体蒸着時
に蒸着すれば良い。このように構成することにより、ミ
ラーによる反射及び透過を共に増加させることができる
。
更に、第１１図の例は、Ａｌ 蒸着後エツチング処理を
行なって透光スリットを形成し、その上に低・高屈折率
誘電体を順に蒸着したものである。
行なって透光スリットを形成し、その上に低・高屈折率
誘電体を順に蒸着したものである。
第１２図の例は、ガラス基板（Ｇ）上にそれぞれ膜厚χ
。／４の低屈折率誘電体膜■及び高屈折率誘電体膜０を
真空蒸着し、その上に膜厚χ。／２のＭｇＦ 。
。／４の低屈折率誘電体膜■及び高屈折率誘電体膜０を
真空蒸着し、その上に膜厚χ。／２のＭｇＦ 。
膜（ＭｇＦｚ）を蒸着した後に、Ａ１ 蒸着を行ない、
最後にＡＩ 膜をエツチング処理したものであり、Ｍｇ
Ｆ ２膜をエツチングのストッパーとして用いたもので
ある。
最後にＡＩ 膜をエツチング処理したものであり、Ｍｇ
Ｆ ２膜をエツチングのストッパーとして用いたもので
ある。
以上の実施例では、全て透光スリットを光分割部の全体
に延びる連続線状の同一形状としたが、一つのスリット
の長さが幅に比べて充分長ければ連続線状ではなくて途
中に何か所か切れ目があっても良いし、更に各スリット
の幅は長手方向には同一幅であれば幅方向には８０μ以
下の範囲内でランダムにしても良い。
に延びる連続線状の同一形状としたが、一つのスリット
の長さが幅に比べて充分長ければ連続線状ではなくて途
中に何か所か切れ目があっても良いし、更に各スリット
の幅は長手方向には同一幅であれば幅方向には８０μ以
下の範囲内でランダムにしても良い。
更に、上記実施例では撮影レンズ透過光をファインダ用
反射光と、合焦検出用透過光とに分割するよう構成され
ていたが、本発明のミラーはこれに限定されるものでは
なく、ミラー透過光を測光用受光素子に導くようにして
も良い０第１３図（ａ）（ｂ）はこの例を示すもので、
−眼レフレックスカメラの主ミラー全域に本発明に係る
透光スリットが形成されたものであり、各スリット伐）
は第４図（ｂ）図示のような合焦検出装置に透過光を導
く場合のスリットと垂直な方向に延びる“ように配列さ
れている。このような構成により、撮影レンズ（８）透
過光は、主ミラーαωによりファインダ用反射光と測光
用受光素子（２４）に導かれる透過光とに分割される。
反射光と、合焦検出用透過光とに分割するよう構成され
ていたが、本発明のミラーはこれに限定されるものでは
なく、ミラー透過光を測光用受光素子に導くようにして
も良い０第１３図（ａ）（ｂ）はこの例を示すもので、
−眼レフレックスカメラの主ミラー全域に本発明に係る
透光スリットが形成されたものであり、各スリット伐）
は第４図（ｂ）図示のような合焦検出装置に透過光を導
く場合のスリットと垂直な方向に延びる“ように配列さ
れている。このような構成により、撮影レンズ（８）透
過光は、主ミラーαωによりファインダ用反射光と測光
用受光素子（２４）に導かれる透過光とに分割される。
第１４図（ａ） （ｂ） （ｃ）は更に測光装置と合焦
検出装置とを有する例を示し、主ミラーαＯ）上には全
面にわたって第３図〜第５図の実施例と同様の幅、ピッ
チの透光スリット（２）が多数配列されている。（３０
）は多数の受光素子（３２）が配列されたイメージセン
サで、該イメージセンサ（３０）には撮影レンズ（８）
によって結像される像を互いに異なる２方向からに゛ら
む１組の受光光学系（２６） （２８）によって光が導
かれ、イメージセンサ（３０）は両受光光学系（２６）
（２８）により形成される像の位置から撮影レンズ（８
）の合焦状態を検出するものであ−る。第１４図（０図
示のように、イメージセンサ（３０）の素子（３２１の
配列方向（２）と平行な方向に主ミラー００）の透光ス
リット（２）が延びるよう配置されているのは、第３図
〜第５図の場合と同様である。
検出装置とを有する例を示し、主ミラーαＯ）上には全
面にわたって第３図〜第５図の実施例と同様の幅、ピッ
チの透光スリット（２）が多数配列されている。（３０
）は多数の受光素子（３２）が配列されたイメージセン
サで、該イメージセンサ（３０）には撮影レンズ（８）
によって結像される像を互いに異なる２方向からに゛ら
む１組の受光光学系（２６） （２８）によって光が導
かれ、イメージセンサ（３０）は両受光光学系（２６）
（２８）により形成される像の位置から撮影レンズ（８
）の合焦状態を検出するものであ−る。第１４図（０図
示のように、イメージセンサ（３０）の素子（３２１の
配列方向（２）と平行な方向に主ミラー００）の透光ス
リット（２）が延びるよう配置されているのは、第３図
〜第５図の場合と同様である。
以上のように、本発明は撮影レンズ透過光をファインダ
用反射光と測光用透過光とに分割するときにも使用可能
である。
用反射光と測光用透過光とに分割するときにも使用可能
である。
一然困
以上のように、本発明は、撮影レンズ透過光を二分割し
、反射光をファインダ光学系に、透過光ヲ受光器に導く
一眼レフレックスカメラのミラー装置において、一方向
に延びる多数の透光スリットがその幅方向に配列された
全反射ミラーにより撮影レンズ透過光を二分割するよう
構成し、各スリットの幅は８０ｐ以下であるとともに、
幅方向に隣り合うスリット間のピッチは全スリットの平
均幅の２倍以上で２種以上であり、最小ピッチと最大ピ
ッチとの比は１：１．５〜１：３であることを特徴とす
るものであシ、このような構成とす目 ることによって反射光の回折がファインダで＃立たない
ようにすることができ、所定の光分割部内で所定の反射
率及び透過率を維持しつつ見やすいファインダ像を得る
ことができる。更に、本発明においてはミラー製造時に
一次元的にスリットの幅とスリット間の間隔とを定める
だけで良いので、スリットのエツチング用マスクを簡単
に作成することができ、製造が容易であるし、製品の検
査も容易である。
、反射光をファインダ光学系に、透過光ヲ受光器に導く
一眼レフレックスカメラのミラー装置において、一方向
に延びる多数の透光スリットがその幅方向に配列された
全反射ミラーにより撮影レンズ透過光を二分割するよう
構成し、各スリットの幅は８０ｐ以下であるとともに、
幅方向に隣り合うスリット間のピッチは全スリットの平
均幅の２倍以上で２種以上であり、最小ピッチと最大ピ
ッチとの比は１：１．５〜１：３であることを特徴とす
るものであシ、このような構成とす目 ることによって反射光の回折がファインダで＃立たない
ようにすることができ、所定の光分割部内で所定の反射
率及び透過率を維持しつつ見やすいファインダ像を得る
ことができる。更に、本発明においてはミラー製造時に
一次元的にスリットの幅とスリット間の間隔とを定める
だけで良いので、スリットのエツチング用マスクを簡単
に作成することができ、製造が容易であるし、製品の検
査も容易である。
第１図は従来の一眼レフレックスカメラのミラー装置を
示す図、第２図、はその反射光強度分布を示すグラフ、
第ａ Ｖｍ （ａ） （ｂ）は本発明一実施例の透光ス
リットの配列を示す図、第４図（ａ） （ｂ）は該実施
例の一眼レフレックスカメラを示す図、第５図はその反
射光強度分布を示すグラフ、第６図（ａ）（ｂ）は他の
実施例のスリットの配列を示す図、第７図はその反射光
強度分布を示すグラフ、第８図（ａ） （ｂ） （ｃ）
（ｄ）（ｅ）はそれぞれ別々の実施例のスリット間の
ピッチを示す図、第９図〜第１２図はそれぞれ本発明に
係るミラーの断面図、第１３図（ａ） （ｂ）は更に別
の実施例の一眼レフレックスカメラを示す図、第１４図
（ａ） （ｂ） （ｃ）は更に他の実施例の一眼レフレ
ックスカメラを示す図である０ （２）；透光スリット、（８）；撮影レンズ、住０）；
ミラー装置、α４）；受光器、α８） （２０） Ｃ２
乃；ファインダ光学系、（２４）ｉ受光器。 出願人 ミノルタカメラ株式会社 第３′図（α） 第３図（″′ イ１［ 第４図（α） 第４図（ｂ）
示す図、第２図、はその反射光強度分布を示すグラフ、
第ａ Ｖｍ （ａ） （ｂ）は本発明一実施例の透光ス
リットの配列を示す図、第４図（ａ） （ｂ）は該実施
例の一眼レフレックスカメラを示す図、第５図はその反
射光強度分布を示すグラフ、第６図（ａ）（ｂ）は他の
実施例のスリットの配列を示す図、第７図はその反射光
強度分布を示すグラフ、第８図（ａ） （ｂ） （ｃ）
（ｄ）（ｅ）はそれぞれ別々の実施例のスリット間の
ピッチを示す図、第９図〜第１２図はそれぞれ本発明に
係るミラーの断面図、第１３図（ａ） （ｂ）は更に別
の実施例の一眼レフレックスカメラを示す図、第１４図
（ａ） （ｂ） （ｃ）は更に他の実施例の一眼レフレ
ックスカメラを示す図である０ （２）；透光スリット、（８）；撮影レンズ、住０）；
ミラー装置、α４）；受光器、α８） （２０） Ｃ２
乃；ファインダ光学系、（２４）ｉ受光器。 出願人 ミノルタカメラ株式会社 第３′図（α） 第３図（″′ イ１［ 第４図（α） 第４図（ｂ）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、撮影レンズ透過光を二分割し、反射光をファインダ
光学系に、透過光を受光器にそれぞれ導く一眼レフレッ
クスカメラのミラー装置において、一方向に延びる多数
の透光スリットがその幅方向に配列された全反射ミラー
によって撮影レンズ透過光を二分割するよう構成し、各
スリットの幅は８０μ以下であるとともに、幅方向に隣
接配置されるスリット間のピッチは全スリットの平均幅
の２倍以上でかつ２種以上であり、最小ピッｊと最大ピ
ッチとの比は１ ： １．５〜１：３であることを特徴
とする一眼レフレックスカメラのミラー装置。 ２、全スリットの幅は一定であることを特徴とする特許
請求の範囲第１項記載の一眼レフレックスカメラのミラ
ー装置０ ３、全スリットは８０μ以下の範囲内でランダムな幅を
有することを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の一
眼レフレックスカメラのミラー装置０ ４、全スリットは、所定のピッチ関係で配列されたスリ
ット群を１ブロツクとしてこのブロックのくり返し配列
りなるよう配列されていることを特徴とする特許請求の
範囲第１項から第３８項までのいずれかに記載の一眼レ
フレックスカメラのミラー装置。 ５、平均ピッチよりも大きいピッチの数と平均ピッチよ
、りも小さいピッチの数とはほぼ等しくなるようスリッ
トが配列されていることを特徴とする特許請求の範囲第
１項から第４項までのいずれかに記載の一眼レフ・レッ
クスカメラのミラー装置０６、受光器は多数の受光素子
が配列された合焦検出用受光器であり、スリットは該受
光素子の配列方向に平行な方向に延びるよう配列されて
いることを特徴とする特許請求の範囲第１項から第５項
までのいずれかに記載の一眼レフレックスカメラのミラ
ー装置。 ７、前記受光器とは別に、ミラー反射光を受光する受光
器が設けられていることを特徴とする特許請求の範囲第
１項から第６項までのいずれかに記載の一眼レフレック
スカメラのミラー装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56150115A JPS5850518A (ja) | 1981-09-22 | 1981-09-22 | 一眼レフレツクスカメラのミラ−装置 |
| US06/421,054 US4461557A (en) | 1981-09-22 | 1982-09-22 | Mirror arrangement for use in a single lens reflex camera |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56150115A JPS5850518A (ja) | 1981-09-22 | 1981-09-22 | 一眼レフレツクスカメラのミラ−装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5850518A true JPS5850518A (ja) | 1983-03-25 |
Family
ID=15489810
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56150115A Pending JPS5850518A (ja) | 1981-09-22 | 1981-09-22 | 一眼レフレツクスカメラのミラ−装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4461557A (ja) |
| JP (1) | JPS5850518A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4557580A (en) * | 1981-08-18 | 1985-12-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Beam splitter for a single lens reflex camera |
| JPS6078436A (ja) * | 1983-10-05 | 1985-05-04 | Canon Inc | 一眼レフレツクスカメラ |
| JPS6472126A (en) * | 1987-09-11 | 1989-03-17 | Minolta Camera Kk | Range finding/photometric optical system |
| JP3523336B2 (ja) * | 1994-08-24 | 2004-04-26 | ペンタックス株式会社 | 一眼レフカメラ、一眼レフ監視カメラ、及び一眼レフカメラの露光方法 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US1253138A (en) * | 1915-02-16 | 1918-01-08 | Brewster Film Corp | Light-splitting device for color photography. |
| US2220862A (en) * | 1939-04-28 | 1940-11-05 | Gen Electric | Low-reflectance glass |
| US3356523A (en) * | 1964-02-10 | 1967-12-05 | Mc Donnell Douglas Corp | Polystyrene film containing an antireflection coating |
| NL6514120A (ja) * | 1965-11-01 | 1967-05-02 | ||
| US3540364A (en) * | 1967-02-02 | 1970-11-17 | Nippon Kogaku Kk | Light shielding device for a single lens reflex camera |
| DE2632047C3 (de) * | 1976-07-16 | 1987-01-22 | Dr. Beck & Co Ag, 2000 Hamburg | Verwendung von Polyesterurethanlacken |
| US4185191A (en) * | 1978-06-05 | 1980-01-22 | Honeywell Inc. | Range determination system |
| JPS614902Y2 (ja) * | 1980-11-18 | 1986-02-15 |
-
1981
- 1981-09-22 JP JP56150115A patent/JPS5850518A/ja active Pending
-
1982
- 1982-09-22 US US06/421,054 patent/US4461557A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4461557A (en) | 1984-07-24 |
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