JPS5848042B2 - 電子線と材料の移動方向とのずれを検出する方法 - Google Patents
電子線と材料の移動方向とのずれを検出する方法Info
- Publication number
- JPS5848042B2 JPS5848042B2 JP51031858A JP3185876A JPS5848042B2 JP S5848042 B2 JPS5848042 B2 JP S5848042B2 JP 51031858 A JP51031858 A JP 51031858A JP 3185876 A JP3185876 A JP 3185876A JP S5848042 B2 JPS5848042 B2 JP S5848042B2
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- JP
- Japan
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- electron beam
- scanning
- deviation
- slit
- area
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- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電子線と材料の移動方向とのずれを検出する方
法に関し、更に詳述すれば断面形状が例えば矩形である
電子線の断面の各辺の方向と電子線の投射される材料の
移動方向とのずれ即ち傾きを検出する方法に関する。
法に関し、更に詳述すれば断面形状が例えば矩形である
電子線の断面の各辺の方向と電子線の投射される材料の
移動方向とのずれ即ち傾きを検出する方法に関する。
従来電子線露光装置等電子線を用いて材料上で図形を描
く装置においては微小径の電子線を走査して所望の図形
をぬりつぶすようにしていた。
く装置においては微小径の電子線を走査して所望の図形
をぬりつぶすようにしていた。
しかしながらこの様なやり方では大面積の図形を描くに
は時間がかかり過ぎるため、近時比較的大きな面積の矩
形状断面を持つ電子線を材料柊投射すると共に材料上で
該電子線を走査することにより短時間で大面積の図形を
描くことのできる装置が提案されている。
は時間がかかり過ぎるため、近時比較的大きな面積の矩
形状断面を持つ電子線を材料柊投射すると共に材料上で
該電子線を走査することにより短時間で大面積の図形を
描くことのできる装置が提案されている。
上記提案装置においては投射する電子線の断面は矩形で
あるため方向性があり、電子線を材料上で走査する場合
矩形の辺に沿った方向に移動させることが必要であると
共に、材料を移動させて電子線の走査範囲を移す時の材
料の移動方向も又矩形の辺の方向に沿っていなければな
らない。
あるため方向性があり、電子線を材料上で走査する場合
矩形の辺に沿った方向に移動させることが必要であると
共に、材料を移動させて電子線の走査範囲を移す時の材
料の移動方向も又矩形の辺の方向に沿っていなければな
らない。
もし材料の移動方向と矩形の辺の方向が一致しない時に
材料を断続的に移動させた場合、正しくは第１図ａに示
す如く走査範囲が１本の帯状に移動しなければならない
のに対し、実際には同図ｂに示す如く走査範囲は序々に
ずれてし１い好１しくない。
材料を断続的に移動させた場合、正しくは第１図ａに示
す如く走査範囲が１本の帯状に移動しなければならない
のに対し、実際には同図ｂに示す如く走査範囲は序々に
ずれてし１い好１しくない。
本発明は上述した点に鑑みてなされたものであり、電子
線の辺の方向と材料の移動方向とのずれ即ち傾きを検出
することのできる方法を提供することを目的とする。
線の辺の方向と材料の移動方向とのずれ即ち傾きを検出
することのできる方法を提供することを目的とする。
以下図面に基づき本発明を詳説する。
第２図は本発明による方法を実施するための電子線露光
装置の一例を示す構成図であり、同図に釦いて１は電子
銃である。
装置の一例を示す構成図であり、同図に釦いて１は電子
銃である。
電子銃１より発生した電子線はレンズ２を介して第１ス
リット３に投射される。
リット３に投射される。
該スリット３に設けられた正方形の電子線通過開口（大
きさ１００μｍ×１００μｍ）を通過した電子線Ｂ１は
偏向信号発生回路４からの偏向信号が供給される第１偏
向器５によって偏向された後、レンズ６を介して第１ス
リット３と全く同一形状の第２スリット７に投射される
。
きさ１００μｍ×１００μｍ）を通過した電子線Ｂ１は
偏向信号発生回路４からの偏向信号が供給される第１偏
向器５によって偏向された後、レンズ６を介して第１ス
リット３と全く同一形状の第２スリット７に投射される
。
該スリット板７に設けられた開口を通過した電子線Ｂ２
はレンズ８によって１／１０に縮小されて可動台９上に
固定された材料１０に投射されると共に、走査信号発生
回路１１からの走査信号が供給される第２偏向器１２に
よって材料１０上にむいて走査される。
はレンズ８によって１／１０に縮小されて可動台９上に
固定された材料１０に投射されると共に、走査信号発生
回路１１からの走査信号が供給される第２偏向器１２に
よって材料１０上にむいて走査される。
該材料への電子線投射により該材料より発生した電子は
検出器１３によって検出される。
検出器１３によって検出される。
得られた検出信号は増幅器１４によって増幅された後、
陰極線管１５のグリッド１６に供給されると共にＡ−Ｄ
変換器１７を介して中央処理装置１８に送られる。
陰極線管１５のグリッド１６に供給されると共にＡ−Ｄ
変換器１７を介して中央処理装置１８に送られる。
該処理装置１８は指令信号を発し、前記偏向信号発生回
路４及び走査信号発生回路１１に送る。
路４及び走査信号発生回路１１に送る。
更に該処理装置１８は移送信号を移動機構１９に送り可
動台９を適宜移動させる。
動台９を適宜移動させる。
又前記陰極線管１５の偏向コイル２０には前記走査信号
発生回路１１からの走査信号が供給されている。
発生回路１１からの走査信号が供給されている。
上述の如き構或に釦いて第１スリット３の像は第２スリ
ット７上にレンズ６を介して倍率１倍で投影される。
ット７上にレンズ６を介して倍率１倍で投影される。
即ち第２スリット７上には１辺が１００μｍの正方形の
断面を持つ電子線Ｂ１が投射される。
断面を持つ電子線Ｂ１が投射される。
ここで中央処理装置１８よりの指令によって電子線Ｂ１
を第３図ａに示される位置に投射すれば、第２スリット
７の開口の１つの隅Ｐを通る細い電子線Ｂ２Ｐが得られ
る。
を第３図ａに示される位置に投射すれば、第２スリット
７の開口の１つの隅Ｐを通る細い電子線Ｂ２Ｐが得られ
る。
そして該電子線Ｂ２Ｐはレンズ８を介して１／１０に縮
小されて材料上に投射されると共に第２偏向器１２によ
って一定区域ｚＰ内で２次元的に走査される。
小されて材料上に投射されると共に第２偏向器１２によ
って一定区域ｚＰ内で２次元的に走査される。
この走査によって区域ｚＰより発生した電子は検出器１
３によって検出され、得られた検出信号は輝度信号とし
て蓄積型陰極線管１５のグリッド１６に供給される。
３によって検出され、得られた検出信号は輝度信号とし
て蓄積型陰極線管１５のグリッド１６に供給される。
この時該陰極線管１５内の電子ビームは偏向コイル２０
によって前記電子線Ｂ２Ｐの走査と同期して走査される
ため、該陰極線管１５の画面には区域ＺＰの電子線走査
像が得られ蓄積される。
によって前記電子線Ｂ２Ｐの走査と同期して走査される
ため、該陰極線管１５の画面には区域ＺＰの電子線走査
像が得られ蓄積される。
上記が本発明の第１の段階である。次に中央処理装置１
８よりの指令を移動機構１９に送り材料を所定の方向へ
適宜な距離、例えば１０μｍ移動させる。
８よりの指令を移動機構１９に送り材料を所定の方向へ
適宜な距離、例えば１０μｍ移動させる。
これが第２の段階である。更に中央処理装置１８よりの
指令によって電子線Ｂ１は第３図ｂに示される位置に投
射され、第２スリット７の開口の隅Ｐの隣の隅Ｑを通る
細い電子線Ｂ２Ｑが得られる。
指令によって電子線Ｂ１は第３図ｂに示される位置に投
射され、第２スリット７の開口の隅Ｐの隣の隅Ｑを通る
細い電子線Ｂ２Ｑが得られる。
そして該電子線Ｂ２Ｑは前記第１のｎと全く同様にレン
ズ８を介して１／１０に縮小されて材料上に投射される
と共に第２偏向器１２によって一定区域ＺＱ内で２次元
的に走査される。
ズ８を介して１／１０に縮小されて材料上に投射される
と共に第２偏向器１２によって一定区域ＺＱ内で２次元
的に走査される。
その結果陰極線管１５の画面には先に得られて継続して
表示されている区域ｚＰＯ像に重畳して区域ＺＱＯ像が
表示．される。
表示されている区域ｚＰＯ像に重畳して区域ＺＱＯ像が
表示．される。
これが第３段階である。
ところで区域ＺＰを走査する電子線Ｂ２Ｐと区域ＺＱを
走査する電子線Ｂ２Ｑとは第２スリット７の位置におい
て第３図に示される様に１００μｍ離れており、それが
１／１０に縮小されて材料に投射されるため、もし第２
偏向器１２による偏向を受けないとすれば電子線Ｂ２Ｐ
，Ｂ２Ｑは第４図に釦ける材料１０上で斜線で示された
位置に１０μｍの距離を隔てて投射される。
走査する電子線Ｂ２Ｑとは第２スリット７の位置におい
て第３図に示される様に１００μｍ離れており、それが
１／１０に縮小されて材料に投射されるため、もし第２
偏向器１２による偏向を受けないとすれば電子線Ｂ２Ｐ
，Ｂ２Ｑは第４図に釦ける材料１０上で斜線で示された
位置に１０μｍの距離を隔てて投射される。
同同図中破線で囲んだ部分は第２スリット７の開口が１
／１０に縮小されて投影されたものであり、この破線の
方向が電子線の辺の方向となる。
／１０に縮小されて投影されたものであり、この破線の
方向が電子線の辺の方向となる。
この様に電子線Ｂ２ＰとＢ２Ｑとは材料上で１０μｍの
距離を隔てて投射されるので、当然電子線Ｂ２Ｐ，Ｂ２
Ｑによる走査区域ＺＰ，ＺＱも又材料上で電子線の辺の
方向に１０μｍ離れたものとなる。
距離を隔てて投射されるので、当然電子線Ｂ２Ｐ，Ｂ２
Ｑによる走査区域ＺＰ，ＺＱも又材料上で電子線の辺の
方向に１０μｍ離れたものとなる。
そのため例えば材料上に設けられた基準マークＳに着目
すれば、該マークＳは第１の段階で得られた区域ＺＰＯ
像に釦いて第５図に示される様にＳＰとして表示される
。
すれば、該マークＳは第１の段階で得られた区域ＺＰＯ
像に釦いて第５図に示される様にＳＰとして表示される
。
そして第２の段階で材料を１０μｍ移動させた時、基準
マークは正しくは電子線の辺の方向のＳ。
マークは正しくは電子線の辺の方向のＳ。
の位置に来なければならないのに対し、辺の方向と角度
θ傾いて移動してＳ１の位置に来てし１ったとすれば、
第３の段階で区域ＺＱＯ像を得た時基準マークＳは第５
図に示されるＳＱとして表示され、画像における基準マ
ークの表示位置には垂直方向のずれｆが発生する。
θ傾いて移動してＳ１の位置に来てし１ったとすれば、
第３の段階で区域ＺＱＯ像を得た時基準マークＳは第５
図に示されるＳＱとして表示され、画像における基準マ
ークの表示位置には垂直方向のずれｆが発生する。
この時のずれｆと角度θとの間に次式の関係が存在する
ことは第４図より明らかである従ってずれｆ及び像の倍
率Ｍを知ることによって電子線の辺の方向と材料の移動
方向とのなす角度θを求めることができる。
ことは第４図より明らかである従ってずれｆ及び像の倍
率Ｍを知ることによって電子線の辺の方向と材料の移動
方向とのなす角度θを求めることができる。
そして求めた角度θに基づいて材料を回転するなどの処
理により電子線の辺の方向と材料の移動方向との傾きを
補正すれば双方の方向を一致させることができる。
理により電子線の辺の方向と材料の移動方向との傾きを
補正すれば双方の方向を一致させることができる。
又両方の方向が一致したことも区域ＺＰの像とＺＱＯ像
とのずれが零になることによって確認することができる
。
とのずれが零になることによって確認することができる
。
尚上記は陰極線管１５の画面よりずれｆを求めるように
したが、これに限らず検出器１３より得られた検出信号
をＡ−Ｄ変換器１７を介して中央処理装置１８に送り、
該処理装置１８に耘いて区域ＺＰとＺＱｏ像に相当する
信号に基づいて例えば材料上に設けられた同一の基準マ
ークの位置をそれぞれ検出し、その位置のずれより傾き
θを求めるようにしても良く、この様にすれば処理の自
動化が可能となる。
したが、これに限らず検出器１３より得られた検出信号
をＡ−Ｄ変換器１７を介して中央処理装置１８に送り、
該処理装置１８に耘いて区域ＺＰとＺＱｏ像に相当する
信号に基づいて例えば材料上に設けられた同一の基準マ
ークの位置をそれぞれ検出し、その位置のずれより傾き
θを求めるようにしても良く、この様にすれば処理の自
動化が可能となる。
又上述した実施例に釦いては電子線の断面の辺の方向と
電子線の走査方向とが平行な場合について説明したが、
電子線の走査方向はどんな方向でも良いことは言う渣で
もない。
電子線の走査方向とが平行な場合について説明したが、
電子線の走査方向はどんな方向でも良いことは言う渣で
もない。
更に上述した実施例においては電子線の断面が矩形の場
合について説明したが、これに限らず多角形状の開口を
有するスリットを用いて作成した多角形状の断面を持つ
電子線の場合でもその多角形の一つの辺の方向と材料の
移動方向とのずれを検出することができる。
合について説明したが、これに限らず多角形状の開口を
有するスリットを用いて作成した多角形状の断面を持つ
電子線の場合でもその多角形の一つの辺の方向と材料の
移動方向とのずれを検出することができる。
以上詳述した如く本発明によれば電子線の断面の辺の方
向と材料の移動方向とのずれを検出することができ、そ
の効果は極めて大きい。
向と材料の移動方向とのずれを検出することができ、そ
の効果は極めて大きい。
第１図は電子線の断面の辺の方向と材料の移動方向との
ずれを説明するための図であり、第２図は本発明を実施
するための装置の一例を示す構成図である。 又第３図、第４図、第５図は第２図に示された装置の動
作を説明するための図である。 １：電子銃、２，６，８ ：レンズ、３，７：スリット
、４：偏向信号発生回路、５．１２：偏向器、９：可動
台、１０：材料、１１：走査信号発生回路、１３：検出
器、１４：増幅器、１５：蓄積型陰極線管、１６：グリ
ッド、１７：Ａ−Ｄ変換器、１８：中央処理装置、１９
：移動機構、２０：偏向コイル。
ずれを説明するための図であり、第２図は本発明を実施
するための装置の一例を示す構成図である。 又第３図、第４図、第５図は第２図に示された装置の動
作を説明するための図である。 １：電子銃、２，６，８ ：レンズ、３，７：スリット
、４：偏向信号発生回路、５．１２：偏向器、９：可動
台、１０：材料、１１：走査信号発生回路、１３：検出
器、１４：増幅器、１５：蓄積型陰極線管、１６：グリ
ッド、１７：Ａ−Ｄ変換器、１８：中央処理装置、１９
：移動機構、２０：偏向コイル。
Claims (1)
- １ 電子線通路上に配置される多角形状開口を有する前
段及び後段スリットと該スリット間に配置された偏向手
段とを備えた多角形状断面を持つ電子線の形成手段から
、後段スリット゛の多角形状開口の一辺の一端部を通る
電子線を取り出して材料上に投射すると共に、該電子線
を第２の偏向手段を用いて材料上で走査すること、走査
終了後材料を移動させること、材料移動後前記形成手段
から後段スリットの多角形状開口の前記辺の他端部を通
る電子線を取り出して材料上に投射すると共に、該電子
線を前記第２の偏向手段を用いて材料上で走査すること
、上記夫々の電子線走査によって材料より得られる情報
をもとに該材料上の基準対象部の相対位置関係を求める
ことより戒る多角形状断面を持つ電子線の辺の方向と材
料の移動方向とのずれを検出する方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51031858A JPS5848042B2 (ja) | 1976-03-23 | 1976-03-23 | 電子線と材料の移動方向とのずれを検出する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51031858A JPS5848042B2 (ja) | 1976-03-23 | 1976-03-23 | 電子線と材料の移動方向とのずれを検出する方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS52115249A JPS52115249A (en) | 1977-09-27 |
| JPS5848042B2 true JPS5848042B2 (ja) | 1983-10-26 |
Family
ID=12342737
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51031858A Expired JPS5848042B2 (ja) | 1976-03-23 | 1976-03-23 | 電子線と材料の移動方向とのずれを検出する方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5848042B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6263425A (ja) * | 1986-08-26 | 1987-03-20 | Toshiba Corp | 電子ビ−ム露光装置 |
| JPH0727859B2 (ja) * | 1993-04-05 | 1995-03-29 | 株式会社東芝 | 荷電粒子ビーム描画装置 |
| JP2503359B2 (ja) * | 1993-04-05 | 1996-06-05 | 株式会社東芝 | 荷電粒子ビ―ム描画装置 |
-
1976
- 1976-03-23 JP JP51031858A patent/JPS5848042B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS52115249A (en) | 1977-09-27 |
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