JPS5848042B2 - 電子線と材料の移動方向とのずれを検出する方法 - Google Patents
電子線と材料の移動方向とのずれを検出する方法Info
- Publication number
- JPS5848042B2 JPS5848042B2 JP51031858A JP3185876A JPS5848042B2 JP S5848042 B2 JPS5848042 B2 JP S5848042B2 JP 51031858 A JP51031858 A JP 51031858A JP 3185876 A JP3185876 A JP 3185876A JP S5848042 B2 JPS5848042 B2 JP S5848042B2
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- Japan
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- electron beam
- scanning
- deviation
- slit
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- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電子線と材料の移動方向とのずれを検出する方
法に関し、更に詳述すれば断面形状が例えば矩形である
電子線の断面の各辺の方向と電子線の投射される材料の
移動方向とのずれ即ち傾きを検出する方法に関する。
法に関し、更に詳述すれば断面形状が例えば矩形である
電子線の断面の各辺の方向と電子線の投射される材料の
移動方向とのずれ即ち傾きを検出する方法に関する。
従来電子線露光装置等電子線を用いて材料上で図形を描
く装置においては微小径の電子線を走査して所望の図形
をぬりつぶすようにしていた。
く装置においては微小径の電子線を走査して所望の図形
をぬりつぶすようにしていた。
しかしながらこの様なやり方では大面積の図形を描くに
は時間がかかり過ぎるため、近時比較的大きな面積の矩
形状断面を持つ電子線を材料柊投射すると共に材料上で
該電子線を走査することにより短時間で大面積の図形を
描くことのできる装置が提案されている。
は時間がかかり過ぎるため、近時比較的大きな面積の矩
形状断面を持つ電子線を材料柊投射すると共に材料上で
該電子線を走査することにより短時間で大面積の図形を
描くことのできる装置が提案されている。
上記提案装置においては投射する電子線の断面は矩形で
あるため方向性があり、電子線を材料上で走査する場合
矩形の辺に沿った方向に移動させることが必要であると
共に、材料を移動させて電子線の走査範囲を移す時の材
料の移動方向も又矩形の辺の方向に沿っていなければな
らない。
あるため方向性があり、電子線を材料上で走査する場合
矩形の辺に沿った方向に移動させることが必要であると
共に、材料を移動させて電子線の走査範囲を移す時の材
料の移動方向も又矩形の辺の方向に沿っていなければな
らない。
もし材料の移動方向と矩形の辺の方向が一致しない時に
材料を断続的に移動させた場合、正しくは第1図aに示
す如く走査範囲が1本の帯状に移動しなければならない
のに対し、実際には同図bに示す如く走査範囲は序々に
ずれてし1い好1しくない。
材料を断続的に移動させた場合、正しくは第1図aに示
す如く走査範囲が1本の帯状に移動しなければならない
のに対し、実際には同図bに示す如く走査範囲は序々に
ずれてし1い好1しくない。
本発明は上述した点に鑑みてなされたものであり、電子
線の辺の方向と材料の移動方向とのずれ即ち傾きを検出
することのできる方法を提供することを目的とする。
線の辺の方向と材料の移動方向とのずれ即ち傾きを検出
することのできる方法を提供することを目的とする。
以下図面に基づき本発明を詳説する。
第2図は本発明による方法を実施するための電子線露光
装置の一例を示す構成図であり、同図に釦いて1は電子
銃である。
装置の一例を示す構成図であり、同図に釦いて1は電子
銃である。
電子銃1より発生した電子線はレンズ2を介して第1ス
リット3に投射される。
リット3に投射される。
該スリット3に設けられた正方形の電子線通過開口(大
きさ100μm×100μm)を通過した電子線B1は
偏向信号発生回路4からの偏向信号が供給される第1偏
向器5によって偏向された後、レンズ6を介して第1ス
リット3と全く同一形状の第2スリット7に投射される
。
きさ100μm×100μm)を通過した電子線B1は
偏向信号発生回路4からの偏向信号が供給される第1偏
向器5によって偏向された後、レンズ6を介して第1ス
リット3と全く同一形状の第2スリット7に投射される
。
該スリット板7に設けられた開口を通過した電子線B2
はレンズ8によって1/10に縮小されて可動台9上に
固定された材料10に投射されると共に、走査信号発生
回路11からの走査信号が供給される第2偏向器12に
よって材料10上にむいて走査される。
はレンズ8によって1/10に縮小されて可動台9上に
固定された材料10に投射されると共に、走査信号発生
回路11からの走査信号が供給される第2偏向器12に
よって材料10上にむいて走査される。
該材料への電子線投射により該材料より発生した電子は
検出器13によって検出される。
検出器13によって検出される。
得られた検出信号は増幅器14によって増幅された後、
陰極線管15のグリッド16に供給されると共にA−D
変換器17を介して中央処理装置18に送られる。
陰極線管15のグリッド16に供給されると共にA−D
変換器17を介して中央処理装置18に送られる。
該処理装置18は指令信号を発し、前記偏向信号発生回
路4及び走査信号発生回路11に送る。
路4及び走査信号発生回路11に送る。
更に該処理装置18は移送信号を移動機構19に送り可
動台9を適宜移動させる。
動台9を適宜移動させる。
又前記陰極線管15の偏向コイル20には前記走査信号
発生回路11からの走査信号が供給されている。
発生回路11からの走査信号が供給されている。
上述の如き構或に釦いて第1スリット3の像は第2スリ
ット7上にレンズ6を介して倍率1倍で投影される。
ット7上にレンズ6を介して倍率1倍で投影される。
即ち第2スリット7上には1辺が100μmの正方形の
断面を持つ電子線B1が投射される。
断面を持つ電子線B1が投射される。
ここで中央処理装置18よりの指令によって電子線B1
を第3図aに示される位置に投射すれば、第2スリット
7の開口の1つの隅Pを通る細い電子線B2Pが得られ
る。
を第3図aに示される位置に投射すれば、第2スリット
7の開口の1つの隅Pを通る細い電子線B2Pが得られ
る。
そして該電子線B2Pはレンズ8を介して1/10に縮
小されて材料上に投射されると共に第2偏向器12によ
って一定区域zP内で2次元的に走査される。
小されて材料上に投射されると共に第2偏向器12によ
って一定区域zP内で2次元的に走査される。
この走査によって区域zPより発生した電子は検出器1
3によって検出され、得られた検出信号は輝度信号とし
て蓄積型陰極線管15のグリッド16に供給される。
3によって検出され、得られた検出信号は輝度信号とし
て蓄積型陰極線管15のグリッド16に供給される。
この時該陰極線管15内の電子ビームは偏向コイル20
によって前記電子線B2Pの走査と同期して走査される
ため、該陰極線管15の画面には区域ZPの電子線走査
像が得られ蓄積される。
によって前記電子線B2Pの走査と同期して走査される
ため、該陰極線管15の画面には区域ZPの電子線走査
像が得られ蓄積される。
上記が本発明の第1の段階である。次に中央処理装置1
8よりの指令を移動機構19に送り材料を所定の方向へ
適宜な距離、例えば10μm移動させる。
8よりの指令を移動機構19に送り材料を所定の方向へ
適宜な距離、例えば10μm移動させる。
これが第2の段階である。更に中央処理装置18よりの
指令によって電子線B1は第3図bに示される位置に投
射され、第2スリット7の開口の隅Pの隣の隅Qを通る
細い電子線B2Qが得られる。
指令によって電子線B1は第3図bに示される位置に投
射され、第2スリット7の開口の隅Pの隣の隅Qを通る
細い電子線B2Qが得られる。
そして該電子線B2Qは前記第1のnと全く同様にレン
ズ8を介して1/10に縮小されて材料上に投射される
と共に第2偏向器12によって一定区域ZQ内で2次元
的に走査される。
ズ8を介して1/10に縮小されて材料上に投射される
と共に第2偏向器12によって一定区域ZQ内で2次元
的に走査される。
その結果陰極線管15の画面には先に得られて継続して
表示されている区域zPO像に重畳して区域ZQO像が
表示.される。
表示されている区域zPO像に重畳して区域ZQO像が
表示.される。
これが第3段階である。
ところで区域ZPを走査する電子線B2Pと区域ZQを
走査する電子線B2Qとは第2スリット7の位置におい
て第3図に示される様に100μm離れており、それが
1/10に縮小されて材料に投射されるため、もし第2
偏向器12による偏向を受けないとすれば電子線B2P
,B2Qは第4図に釦ける材料10上で斜線で示された
位置に10μmの距離を隔てて投射される。
走査する電子線B2Qとは第2スリット7の位置におい
て第3図に示される様に100μm離れており、それが
1/10に縮小されて材料に投射されるため、もし第2
偏向器12による偏向を受けないとすれば電子線B2P
,B2Qは第4図に釦ける材料10上で斜線で示された
位置に10μmの距離を隔てて投射される。
同同図中破線で囲んだ部分は第2スリット7の開口が1
/10に縮小されて投影されたものであり、この破線の
方向が電子線の辺の方向となる。
/10に縮小されて投影されたものであり、この破線の
方向が電子線の辺の方向となる。
この様に電子線B2PとB2Qとは材料上で10μmの
距離を隔てて投射されるので、当然電子線B2P,B2
Qによる走査区域ZP,ZQも又材料上で電子線の辺の
方向に10μm離れたものとなる。
距離を隔てて投射されるので、当然電子線B2P,B2
Qによる走査区域ZP,ZQも又材料上で電子線の辺の
方向に10μm離れたものとなる。
そのため例えば材料上に設けられた基準マークSに着目
すれば、該マークSは第1の段階で得られた区域ZPO
像に釦いて第5図に示される様にSPとして表示される
。
すれば、該マークSは第1の段階で得られた区域ZPO
像に釦いて第5図に示される様にSPとして表示される
。
そして第2の段階で材料を10μm移動させた時、基準
マークは正しくは電子線の辺の方向のS。
マークは正しくは電子線の辺の方向のS。
の位置に来なければならないのに対し、辺の方向と角度
θ傾いて移動してS1の位置に来てし1ったとすれば、
第3の段階で区域ZQO像を得た時基準マークSは第5
図に示されるSQとして表示され、画像における基準マ
ークの表示位置には垂直方向のずれfが発生する。
θ傾いて移動してS1の位置に来てし1ったとすれば、
第3の段階で区域ZQO像を得た時基準マークSは第5
図に示されるSQとして表示され、画像における基準マ
ークの表示位置には垂直方向のずれfが発生する。
この時のずれfと角度θとの間に次式の関係が存在する
ことは第4図より明らかである従ってずれf及び像の倍
率Mを知ることによって電子線の辺の方向と材料の移動
方向とのなす角度θを求めることができる。
ことは第4図より明らかである従ってずれf及び像の倍
率Mを知ることによって電子線の辺の方向と材料の移動
方向とのなす角度θを求めることができる。
そして求めた角度θに基づいて材料を回転するなどの処
理により電子線の辺の方向と材料の移動方向との傾きを
補正すれば双方の方向を一致させることができる。
理により電子線の辺の方向と材料の移動方向との傾きを
補正すれば双方の方向を一致させることができる。
又両方の方向が一致したことも区域ZPの像とZQO像
とのずれが零になることによって確認することができる
。
とのずれが零になることによって確認することができる
。
尚上記は陰極線管15の画面よりずれfを求めるように
したが、これに限らず検出器13より得られた検出信号
をA−D変換器17を介して中央処理装置18に送り、
該処理装置18に耘いて区域ZPとZQo像に相当する
信号に基づいて例えば材料上に設けられた同一の基準マ
ークの位置をそれぞれ検出し、その位置のずれより傾き
θを求めるようにしても良く、この様にすれば処理の自
動化が可能となる。
したが、これに限らず検出器13より得られた検出信号
をA−D変換器17を介して中央処理装置18に送り、
該処理装置18に耘いて区域ZPとZQo像に相当する
信号に基づいて例えば材料上に設けられた同一の基準マ
ークの位置をそれぞれ検出し、その位置のずれより傾き
θを求めるようにしても良く、この様にすれば処理の自
動化が可能となる。
又上述した実施例に釦いては電子線の断面の辺の方向と
電子線の走査方向とが平行な場合について説明したが、
電子線の走査方向はどんな方向でも良いことは言う渣で
もない。
電子線の走査方向とが平行な場合について説明したが、
電子線の走査方向はどんな方向でも良いことは言う渣で
もない。
更に上述した実施例においては電子線の断面が矩形の場
合について説明したが、これに限らず多角形状の開口を
有するスリットを用いて作成した多角形状の断面を持つ
電子線の場合でもその多角形の一つの辺の方向と材料の
移動方向とのずれを検出することができる。
合について説明したが、これに限らず多角形状の開口を
有するスリットを用いて作成した多角形状の断面を持つ
電子線の場合でもその多角形の一つの辺の方向と材料の
移動方向とのずれを検出することができる。
以上詳述した如く本発明によれば電子線の断面の辺の方
向と材料の移動方向とのずれを検出することができ、そ
の効果は極めて大きい。
向と材料の移動方向とのずれを検出することができ、そ
の効果は極めて大きい。
第1図は電子線の断面の辺の方向と材料の移動方向との
ずれを説明するための図であり、第2図は本発明を実施
するための装置の一例を示す構成図である。 又第3図、第4図、第5図は第2図に示された装置の動
作を説明するための図である。 1:電子銃、2,6,8 :レンズ、3,7:スリット
、4:偏向信号発生回路、5.12:偏向器、9:可動
台、10:材料、11:走査信号発生回路、13:検出
器、14:増幅器、15:蓄積型陰極線管、16:グリ
ッド、17:A−D変換器、18:中央処理装置、19
:移動機構、20:偏向コイル。
ずれを説明するための図であり、第2図は本発明を実施
するための装置の一例を示す構成図である。 又第3図、第4図、第5図は第2図に示された装置の動
作を説明するための図である。 1:電子銃、2,6,8 :レンズ、3,7:スリット
、4:偏向信号発生回路、5.12:偏向器、9:可動
台、10:材料、11:走査信号発生回路、13:検出
器、14:増幅器、15:蓄積型陰極線管、16:グリ
ッド、17:A−D変換器、18:中央処理装置、19
:移動機構、20:偏向コイル。
Claims (1)
- 1 電子線通路上に配置される多角形状開口を有する前
段及び後段スリットと該スリット間に配置された偏向手
段とを備えた多角形状断面を持つ電子線の形成手段から
、後段スリット゛の多角形状開口の一辺の一端部を通る
電子線を取り出して材料上に投射すると共に、該電子線
を第2の偏向手段を用いて材料上で走査すること、走査
終了後材料を移動させること、材料移動後前記形成手段
から後段スリットの多角形状開口の前記辺の他端部を通
る電子線を取り出して材料上に投射すると共に、該電子
線を前記第2の偏向手段を用いて材料上で走査すること
、上記夫々の電子線走査によって材料より得られる情報
をもとに該材料上の基準対象部の相対位置関係を求める
ことより戒る多角形状断面を持つ電子線の辺の方向と材
料の移動方向とのずれを検出する方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP51031858A JPS5848042B2 (ja) | 1976-03-23 | 1976-03-23 | 電子線と材料の移動方向とのずれを検出する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP51031858A JPS5848042B2 (ja) | 1976-03-23 | 1976-03-23 | 電子線と材料の移動方向とのずれを検出する方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS52115249A JPS52115249A (en) | 1977-09-27 |
JPS5848042B2 true JPS5848042B2 (ja) | 1983-10-26 |
Family
ID=12342737
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP51031858A Expired JPS5848042B2 (ja) | 1976-03-23 | 1976-03-23 | 電子線と材料の移動方向とのずれを検出する方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5848042B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6263425A (ja) * | 1986-08-26 | 1987-03-20 | Toshiba Corp | 電子ビ−ム露光装置 |
JPH0727859B2 (ja) * | 1993-04-05 | 1995-03-29 | 株式会社東芝 | 荷電粒子ビーム描画装置 |
JP2503359B2 (ja) * | 1993-04-05 | 1996-06-05 | 株式会社東芝 | 荷電粒子ビ―ム描画装置 |
-
1976
- 1976-03-23 JP JP51031858A patent/JPS5848042B2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS52115249A (en) | 1977-09-27 |
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