JPS5842900A - 液化ガス滴下装置 - Google Patents
液化ガス滴下装置Info
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- JPS5842900A JPS5842900A JP56140252A JP14025281A JPS5842900A JP S5842900 A JPS5842900 A JP S5842900A JP 56140252 A JP56140252 A JP 56140252A JP 14025281 A JP14025281 A JP 14025281A JP S5842900 A JPS5842900 A JP S5842900A
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- F17C2250/0605—Parameters
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Vacuum Packaging (AREA)
- Filling Or Discharging Of Gas Storage Vessels (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は缶詰缶の巻締直前に液化不活性ガスを滴下封
入して、警封後の缶詰缶に所定の内圧を生じさせるよう
にした液化不活性ガスのｔ−１充填装置に関する。
入して、警封後の缶詰缶に所定の内圧を生じさせるよう
にした液化不活性ガスのｔ−１充填装置に関する。
灰値ガスを含まない飲料・食品Ｏ缶詰にあつでも、−炭
酸ガスを含む飲料と同様の板厚の薄い切材で製作された
缶を容器として用いることが望′まれている。
酸ガスを含む飲料と同様の板厚の薄い切材で製作された
缶を容器として用いることが望′まれている。
このため缶の巻締直前に液化不活性ガスを７−Ｆ封入し
て、密＠後の缶の内圧を高め、薄い材料でｆ′μられた
缶の強度不足を袖うことが試与られている。１かし５、
滴下封入すべき液化不活性ｊｊスの借は、缶充填物の１
Ｌ巻締装置１ｚ）運転連吠、缶内上１４ｔｓ空間７）大
勢さによって変化するＯ不活性ガス？：１勺下装［は、
液化不活性ガスの貯溜槽と滴下ノズルを−えでおり、上
記の簡ド童ゾノ制御と共に、貯榴惰への液化ガスの補光
にのＩｔ＋ｌＪ附とが必赤となる。
て、密＠後の缶の内圧を高め、薄い材料でｆ′μられた
缶の強度不足を袖うことが試与られている。１かし５、
滴下封入すべき液化不活性ｊｊスの借は、缶充填物の１
Ｌ巻締装置１ｚ）運転連吠、缶内上１４ｔｓ空間７）大
勢さによって変化するＯ不活性ガス？：１勺下装［は、
液化不活性ガスの貯溜槽と滴下ノズルを−えでおり、上
記の簡ド童ゾノ制御と共に、貯榴惰への液化ガスの補光
にのＩｔ＋ｌＪ附とが必赤となる。
最も簡皐には、叡化ガスの貯溜槽中にフロートを設Ｖ丁
、フロートの上下動によって槽内の気化ガスを逸流させ
て圧力を変動きせ、この圧力変化によって液化ガスボン
ベから液化不活性ガスを貯溜槽に流入するようにするこ
とが考えられる。しかし、藺下ノズルから流化する液化
ガスには、常にこの貯溜槽内の圧力が作用するのを防ぐ
ことが醋しいため、このような方式て〕崗下装置では、
滴下音の制御が難しくなる。
、フロートの上下動によって槽内の気化ガスを逸流させ
て圧力を変動きせ、この圧力変化によって液化ガスボン
ベから液化不活性ガスを貯溜槽に流入するようにするこ
とが考えられる。しかし、藺下ノズルから流化する液化
ガスには、常にこの貯溜槽内の圧力が作用するのを防ぐ
ことが醋しいため、このような方式て〕崗下装置では、
滴下音の制御が難しくなる。
像化ガス′７）滴下ｔｉｒ′７′）制御を精密にするた
め、貯溜槽内に液面Ｉ＋を設け、そり検出ＩＫ尖って電
磁弁等によって液化ガスの補給量を制卸する一方、槽内
圧力の調節によって滴下量の主６緬節を、滴下ノズルに
附設したバルブによって微調節を行うようにするものも
本発明者によって提≠されている。 （特願昭５５−１
６９４７６）この部下装置は、部下！θ制仰は精密であ
るが、制呻装鑓が複雑で高価となる欠点を有する・この
発明け、制御装＃け藺叫であるにもががわらず、滴下音
を情密に制、御出来る液化ガス簡下装＋７を得ようとす
るものである。
め、貯溜槽内に液面Ｉ＋を設け、そり検出ＩＫ尖って電
磁弁等によって液化ガスの補給量を制卸する一方、槽内
圧力の調節によって滴下量の主６緬節を、滴下ノズルに
附設したバルブによって微調節を行うようにするものも
本発明者によって提≠されている。 （特願昭５５−１
６９４７６）この部下装置は、部下！θ制仰は精密であ
るが、制呻装鑓が複雑で高価となる欠点を有する・この
発明け、制御装＃け藺叫であるにもががわらず、滴下音
を情密に制、御出来る液化ガス簡下装＋７を得ようとす
るものである。
以Ｆ図聞をみ照して計細に説明する。
１汀この発明の欣化不活註ガス滴下装蓋■模式図でち曇
）、ｌは断熱材（発泡スチロール等）件によって断熱さ
れる液化不活性ガス貯溜槽であり、璽磁的駆勧装置１Ｉ
ｔ２によって液化ガスの滴下量を調節するための、例え
ばロータリーバルブ等である滴下バルブ３および滴下ノ
ズル４を備えている。セして、この貯溜槽１の内面は液
化不活性ガスの元タンクからの初期給欣時に、貯溜槽の
温度７す；十分に低下するまでの間の急激な気化、圧カ
ヒ昇を抑え、槽内圧を早期に安定させて、給液準備時間
を短縮し、液化ガスを節約するため、テフロンコートを
することが望ましい。
）、ｌは断熱材（発泡スチロール等）件によって断熱さ
れる液化不活性ガス貯溜槽であり、璽磁的駆勧装置１Ｉ
ｔ２によって液化ガスの滴下量を調節するための、例え
ばロータリーバルブ等である滴下バルブ３および滴下ノ
ズル４を備えている。セして、この貯溜槽１の内面は液
化不活性ガスの元タンクからの初期給欣時に、貯溜槽の
温度７す；十分に低下するまでの間の急激な気化、圧カ
ヒ昇を抑え、槽内圧を早期に安定させて、給液準備時間
を短縮し、液化ガスを節約するため、テフロンコートを
することが望ましい。
貯溜槽ｌの上部空間の気化ガスは、内圧調整パルプ６を
通じてＭｊ下ノズル４を囲ｔｒ ｌｊ ス／ スル５か
ら放出され、滴下する液化ガスを低己不、占Ｉガスでシ
ーＩＣ上する。
通じてＭｊ下ノズル４を囲ｔｒ ｌｊ ス／ スル５か
ら放出され、滴下する液化ガスを低己不、占Ｉガスでシ
ーＩＣ上する。
貯溜槽ｌ内への給液部にはパケット式フロートバルブ９
が設けられ、液面レベルに応じてバルブの開孔倣が自動
的Ｋ１１１顧される。
が設けられ、液面レベルに応じてバルブの開孔倣が自動
的Ｋ１１１顧される。
図中、７けだ全弁、８は槽内圧制御用ヒーター、ｌＯけ
配管、１１は内圧が貯溜槽１υ内圧より大きく設定され
る液化不活性ガスの元タンク、１２は凍結防止用ヒータ
ー、１３は元タンクの内圧調整用の圧力８１４整弁であ
る。
配管、１１は内圧が貯溜槽１υ内圧より大きく設定され
る液化不活性ガスの元タンク、１２は凍結防止用ヒータ
ー、１３は元タンクの内圧調整用の圧力８１４整弁であ
る。
所定のＷａ下欝に応じて圧カー整バルブ６を設定１７、
それ（でよって定まる貯溜槽１の内圧よりも元タンク１
１０内圧が高くな′るよう圧カ調整汗１３を設定し７て
、貯溜槽１と元タンク１．１を接続すれば、元タンク１
１）圧力にょって貯溜４Ｎ Ｉ内に液化不活性ガスが流
入する。槽１内の液面が所定の高さに達すればフロート
バルブは液化ガスの流入を止め、以後は元タンク１１の
内圧よりは低い貯溜槽ｌの内圧り変化に無関係に液面レ
ベルを維持し、消費量に見合った液化ガスが自動的に給
液される。
それ（でよって定まる貯溜槽１の内圧よりも元タンク１
１０内圧が高くな′るよう圧カ調整汗１３を設定し７て
、貯溜槽１と元タンク１．１を接続すれば、元タンク１
１）圧力にょって貯溜４Ｎ Ｉ内に液化不活性ガスが流
入する。槽１内の液面が所定の高さに達すればフロート
バルブは液化ガスの流入を止め、以後は元タンク１１の
内圧よりは低い貯溜槽ｌの内圧り変化に無関係に液面レ
ベルを維持し、消費量に見合った液化ガスが自動的に給
液される。
貯溜槽ｌ内の液化ガスは、槽の内圧の作用下で、−下パ
ルプ３が開かれた間に滴Ｆノズル４ＶＣ流下する、２従
って、内圧調整バルブ６の設定比をに化させることによ
り、液化ガスの滴下量をＸ節することが出来る。槽ｌ内
の圧力が低下しすぎ、所定の膚下蓋が得られなくなる場
合には、ヒーター８により、内圧を上列之せることが、
出来る。
ルプ３が開かれた間に滴Ｆノズル４ＶＣ流下する、２従
って、内圧調整バルブ６の設定比をに化させることによ
り、液化ガスの滴下量をＸ節することが出来る。槽ｌ内
の圧力が低下しすぎ、所定の膚下蓋が得られなくなる場
合には、ヒーター８により、内圧を上列之せることが、
出来る。
ンー下−の調節は、滴下バルブ３の開閉時間の調部設定
によっても可能であることは云うまでもない。従って、
滴下ｉｔの調節は■パルプ３の開閉時間を一定にして内
圧のみＯ調節で行う。
によっても可能であることは云うまでもない。従って、
滴下ｉｔの調節は■パルプ３の開閉時間を一定にして内
圧のみＯ調節で行う。
■楕１の内圧を一定にしてバルブ３の開閉時間を両部す
る。■上記の組合せで内圧と開閉時間の両方を１ｌｉ１
節する。の３通りの方法が実施可能である。しかし、生
歯ラインにおいて、液化ガスを封入した缶の内圧を測定
しながら測定値をフィードバックして滴下量を調節する
には、応答の早いｍｓ的躯動によるバルブ３の制御によ
るのが便利であ１】、主調整は貯溜ｍｉの内圧、すなわ
ち内圧調整バルブ６の設定調節により、做Ａ整は滴下バ
ルブ３の制御によるのがよい、。
る。■上記の組合せで内圧と開閉時間の両方を１ｌｉ１
節する。の３通りの方法が実施可能である。しかし、生
歯ラインにおいて、液化ガスを封入した缶の内圧を測定
しながら測定値をフィードバックして滴下量を調節する
には、応答の早いｍｓ的躯動によるバルブ３の制御によ
るのが便利であ１】、主調整は貯溜ｍｉの内圧、すなわ
ち内圧調整バルブ６の設定調節により、做Ａ整は滴下バ
ルブ３の制御によるのがよい、。
こＯ発明は上記の開型な構成により、貯溜槽ｌへυ給液
は、タンク内圧に無関係に、液のレベルのみによって行
われるので、安定した給液が＝ｒ能であると共に、タン
ク内圧も、給液と無関係に設定出来、滴下パルプと協動
して液上ガスの徽少で応答の早い調節が可能となった。
は、タンク内圧に無関係に、液のレベルのみによって行
われるので、安定した給液が＝ｒ能であると共に、タン
ク内圧も、給液と無関係に設定出来、滴下パルプと協動
して液上ガスの徽少で応答の早い調節が可能となった。
図面はこの発明の液化不活性ガス滴下装置の模式図であ
る。 １：液化ガス貯溜槽 ３：滴下パルプ ４：ｉ１相下ノ
ズル ５：ガスノズル ６：槽内圧調整パルプ ８：ヒ
ーター ９：フロートバルプ１１：液化ガス元タンク
１３；圧力＋１１１ＩＩ整弁特許出顧人 東洋装罐床
式会仕 出Ｕ人代哩人 弁理士 佐 藤 文 男（ほか１
名）
る。 １：液化ガス貯溜槽 ３：滴下パルプ ４：ｉ１相下ノ
ズル ５：ガスノズル ６：槽内圧調整パルプ ８：ヒ
ーター ９：フロートバルプ１１：液化ガス元タンク
１３；圧力＋１１１ＩＩ整弁特許出顧人 東洋装罐床
式会仕 出Ｕ人代哩人 弁理士 佐 藤 文 男（ほか１
名）
Claims (1)
- 缶詰缶り巻締直前に、缶内に液化不活性ガスを滴下する
ためυ装置であ・つて、液化不活性ガス７〕貯溜楕、駆
動装置によって開閉される液化ガス′７）滴下バルブ、
該滴下パルプからの液化ガスを滴下する滴下・Ｉズル、
上Ｉピ貯溜槽上部の気化ガスＯ放出経路に設けられた圧
力調整バルブ、元タンクから上記貯溜槽への液化ガスの
給液口を開閉するフロートバルブを備えて、いることを
０倣とする液化ガス滴下装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56140252A JPS5842900A (ja) | 1981-09-08 | 1981-09-08 | 液化ガス滴下装置 |
| US06/383,319 US4489767A (en) | 1981-09-08 | 1982-05-28 | Apparatus for dropping liquefied gases |
| EP82302931A EP0074702A3 (en) | 1981-09-08 | 1982-06-08 | Apparatus for dropping a liquefied inert gas into a can |
| KR1019820002703A KR840000761A (ko) | 1981-09-08 | 1982-06-17 | 액화가스 적하장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56140252A JPS5842900A (ja) | 1981-09-08 | 1981-09-08 | 液化ガス滴下装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5842900A true JPS5842900A (ja) | 1983-03-12 |
Family
ID=15264449
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56140252A Pending JPS5842900A (ja) | 1981-09-08 | 1981-09-08 | 液化ガス滴下装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5842900A (ja) |
-
1981
- 1981-09-08 JP JP56140252A patent/JPS5842900A/ja active Pending
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