JPS5826319A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS5826319A JPS5826319A JP12391581A JP12391581A JPS5826319A JP S5826319 A JPS5826319 A JP S5826319A JP 12391581 A JP12391581 A JP 12391581A JP 12391581 A JP12391581 A JP 12391581A JP S5826319 A JPS5826319 A JP S5826319A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ozone
- magnetic substance
- magnetic
- substance layer
- recording medium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はスパッタリング蒸着法等も含めた真空蒸着法に
より基板上に形成され金属強磁性体を主成分とする磁性
層を有する磁気記録媒体の製造方法に関する。
より基板上に形成され金属強磁性体を主成分とする磁性
層を有する磁気記録媒体の製造方法に関する。
磁気記録用の磁性層に蒸着薄膜を用いることの優位性は
、飽和磁束密度が犬であるため、厚さの薄い磁性層とす
ることができ、丑だ、抗磁力も比較的高いものが得られ
るので高密度記録に有利となることである。蒸着薄膜の
他の利点は真空蒸着。
、飽和磁束密度が犬であるため、厚さの薄い磁性層とす
ることができ、丑だ、抗磁力も比較的高いものが得られ
るので高密度記録に有利となることである。蒸着薄膜の
他の利点は真空蒸着。
スパッタリング蒸着等の方法に」:り薄くかつ厚さの一
様な膜が容易に得られることである。これらの理由から
蒸着薄膜を磁気記録用の行別として用いる傾向は近年増
加しつつある。例えば、ポリエチレンテレフタレートな
どのプラスチック基体上に蒸着によりコバルトを主体と
した合金の磁性層が形成されたビデオ用磁気テープが開
発されている。
様な膜が容易に得られることである。これらの理由から
蒸着薄膜を磁気記録用の行別として用いる傾向は近年増
加しつつある。例えば、ポリエチレンテレフタレートな
どのプラスチック基体上に蒸着によりコバルトを主体と
した合金の磁性層が形成されたビデオ用磁気テープが開
発されている。
ところで蒸着により形成された磁性層は一般に空孔が多
く空気中で腐食しやすい。そのため、記録、再生時に、
磁性層に磁気ヘッドが摺接することにより磁性層がはが
れてノイズが発生したり、あるいは記録、再生がまっ/
ζく不能となるような実用1一致命的な欠陥が発生ずる
。そこで、金属強磁性体を主成分とする磁性層の耐食性
及び耐摩粍+J二を改善する方法として、従来磁性層表
面に有機物層や面j食性の高い金属あるいは金属酸化物
層を形成して保護被膜とする方法や、金属磁性薄膜を冬
湿空気中で加熱処理したり、酸化性溶液中に浸漬処理す
ることにより表向酸化層を形成して、保護被膜とする方
法が行なわれていた。しかし、これらの方法では次の」
:うな問題が生じていた。すなわち、磁性層」−に有機
物層や金属あるいは金属酸化物を被覆する方法では、均
一でピンホールがない保護被膜1〜を形成するためには
0.1ミクロン以−にの膜厚を要する。その/こめ、磁
気ヘッドと磁性層との実効距ガ1が長くなり、記録密度
が低下する。一方、金属磁性薄膜を多湿空気中で加熱処
理し、保護酸化被膜を形成する方法では、磁性層が電解
メッキ、無電解メッキ等のメソギ法で形成されている場
合には磁性層がち密であるため、保護セ1.の高い酸化
被膜が形成される。しかしながら、真空蒸着法により形
成される磁性薄膜は周知の通り)、1;体上において一
次元的に成長した粒子群から構成されている/こめ、ピ
ンホールの多い薄膜となっている。そのため、沙湿空気
中で加熱処理すると、水蒸気日:ビンホール中で毛管凝
縮を起し、液状の水となって磁性体表1(ii (C気
腔イ’l−:のない水酸化物を形成させ、=F、 lc
、磁子′1層を爬食させる。−4、/C金属磁性’1.
’;膜を71j式処IIJjにより保護酸化5詭膜を形
成する方法で(cJ六処理液への浸6′?、乾燥L(“
11が入り、広い面積の磁1イ1層に7’J して均一
な酸化被膜を形成することは極めてt11シい3.さら
に、溶液中の中不純物が表向に旬着残留することにより
、耐食性が低下する。
く空気中で腐食しやすい。そのため、記録、再生時に、
磁性層に磁気ヘッドが摺接することにより磁性層がはが
れてノイズが発生したり、あるいは記録、再生がまっ/
ζく不能となるような実用1一致命的な欠陥が発生ずる
。そこで、金属強磁性体を主成分とする磁性層の耐食性
及び耐摩粍+J二を改善する方法として、従来磁性層表
面に有機物層や面j食性の高い金属あるいは金属酸化物
層を形成して保護被膜とする方法や、金属磁性薄膜を冬
湿空気中で加熱処理したり、酸化性溶液中に浸漬処理す
ることにより表向酸化層を形成して、保護被膜とする方
法が行なわれていた。しかし、これらの方法では次の」
:うな問題が生じていた。すなわち、磁性層」−に有機
物層や金属あるいは金属酸化物を被覆する方法では、均
一でピンホールがない保護被膜1〜を形成するためには
0.1ミクロン以−にの膜厚を要する。その/こめ、磁
気ヘッドと磁性層との実効距ガ1が長くなり、記録密度
が低下する。一方、金属磁性薄膜を多湿空気中で加熱処
理し、保護酸化被膜を形成する方法では、磁性層が電解
メッキ、無電解メッキ等のメソギ法で形成されている場
合には磁性層がち密であるため、保護セ1.の高い酸化
被膜が形成される。しかしながら、真空蒸着法により形
成される磁性薄膜は周知の通り)、1;体上において一
次元的に成長した粒子群から構成されている/こめ、ピ
ンホールの多い薄膜となっている。そのため、沙湿空気
中で加熱処理すると、水蒸気日:ビンホール中で毛管凝
縮を起し、液状の水となって磁性体表1(ii (C気
腔イ’l−:のない水酸化物を形成させ、=F、 lc
、磁子′1層を爬食させる。−4、/C金属磁性’1.
’;膜を71j式処IIJjにより保護酸化5詭膜を形
成する方法で(cJ六処理液への浸6′?、乾燥L(“
11が入り、広い面積の磁1イ1層に7’J して均一
な酸化被膜を形成することは極めてt11シい3.さら
に、溶液中の中不純物が表向に旬着残留することにより
、耐食性が低下する。
この」二うに、真空蒸着法により形成され/こ磁性層に
耐食性のすぐれる極めて薄い保護被膜を形成させる実用
的な方法は従来なかった。
耐食性のすぐれる極めて薄い保護被膜を形成させる実用
的な方法は従来なかった。
本発明は、従来における以上のような間)偵を解決する
/こめに、Jilj体上に蒸着に61:り形成7Nれ/
こ磁性層にオゾンを用いて酸化処理を行なうものである
。
/こめに、Jilj体上に蒸着に61:り形成7Nれ/
こ磁性層にオゾンを用いて酸化処理を行なうものである
。
本発明の一例をd)a明すると、ノ、(体上に蒸着によ
り形成され/こ例えばコハル1−(Co)を主成分とす
る7 − 磁性層をオゾン濃度0.01〜10容量%の雰囲気中に
10〜60分間放置する。これにより磁性層表面及び粒
界に安定なCoの高次の酸化物すなわちCOの四三酸化
物を形成させる。なおここで、オゾン酸化処理を行なう
前の前処理として磁性層をチッソガスなどの不活性ガス
雰囲気中で100°C程度の温度で熱処理し、吸着水、
結晶水を除去すく、それは次の理由に基づく。オゾン濃
度が0.01容量係以下の領域においてはオゾンの酸化
作用かは、オゾンの酸化作用が強ずぎて、基体扛゛丹書
秀し吹プラスチックフィルムからなる場合、そのフィル
ムを構成する高分子をも酸化し分解することがある。
り形成され/こ例えばコハル1−(Co)を主成分とす
る7 − 磁性層をオゾン濃度0.01〜10容量%の雰囲気中に
10〜60分間放置する。これにより磁性層表面及び粒
界に安定なCoの高次の酸化物すなわちCOの四三酸化
物を形成させる。なおここで、オゾン酸化処理を行なう
前の前処理として磁性層をチッソガスなどの不活性ガス
雰囲気中で100°C程度の温度で熱処理し、吸着水、
結晶水を除去すく、それは次の理由に基づく。オゾン濃
度が0.01容量係以下の領域においてはオゾンの酸化
作用かは、オゾンの酸化作用が強ずぎて、基体扛゛丹書
秀し吹プラスチックフィルムからなる場合、そのフィル
ムを構成する高分子をも酸化し分解することがある。
本発明により形成される例えばCOの四三酸化物は低次
の酸化物に比べ耐食性及び耐摩耗性にすぐれており、址
た、磁性層表面酸化層の自己修復作用をもっている。′
i/こ、本発明によると、磁性層に低温で保護性の高い
高次酸化物を形成でき、このため高部処理に対して熱負
けなどの悪影響が生じるプラスチックフィルムを用いた
基体に蒸着され/ζ磁性層に対して、本発明は特に有効
である。
の酸化物に比べ耐食性及び耐摩耗性にすぐれており、址
た、磁性層表面酸化層の自己修復作用をもっている。′
i/こ、本発明によると、磁性層に低温で保護性の高い
高次酸化物を形成でき、このため高部処理に対して熱負
けなどの悪影響が生じるプラスチックフィルムを用いた
基体に蒸着され/ζ磁性層に対して、本発明は特に有効
である。
なおここで、本発明によらず、通常の空気あるいは酸素
中で熱処理した場合にd、低次の酸化物が形成される。
中で熱処理した場合にd、低次の酸化物が形成される。
一方、この場合、四三酸化物を形成するだめには、一般
的に数100′Cの温度を必要とする。
的に数100′Cの温度を必要とする。
次に具体的に本発明の詳細な説明する。
ポリエチレンテレフタレートフィルノ、上ニコバルト8
0係、ニッケル2o%の磁性層を真空蒸着法で形成させ
ノζものにオゾン処理を行なった。処理条件はオゾン濃
度1係、雰囲気温度50°C9処理時間3Q分間とした
。この」:うに本発明に」:り磁性層にオゾン処理した
磁気記録媒体および、比較として、未処理の磁気記録媒
体、100°C91時間の条件で磁性層を空気酸化した
磁気記録媒体をそれぞれ反射電子線回折(ED)、X線
光電子分7 。
0係、ニッケル2o%の磁性層を真空蒸着法で形成させ
ノζものにオゾン処理を行なった。処理条件はオゾン濃
度1係、雰囲気温度50°C9処理時間3Q分間とした
。この」:うに本発明に」:り磁性層にオゾン処理した
磁気記録媒体および、比較として、未処理の磁気記録媒
体、100°C91時間の条件で磁性層を空気酸化した
磁気記録媒体をそれぞれ反射電子線回折(ED)、X線
光電子分7 。
先広(ESCA)、お」:びオージェ電子分光法(AE
S)により磁性層表面の酸化状態、および深さ方向の分
析を行なっ/こ。分析結果の一例として、AESでの深
さ方向分析結果を第1図、第2図、第3図にそれぞれ示
す。なおここで、第1図は磁性層未処理の磁気妃録fi
’!l(体について、第2図は磁性層を空気酸化処理し
/こ磁気記録媒体について、第3図は本発明に」:り磁
性層をオゾン処理しゾζ磁気記録媒体について、それぞ
れ分析した結果を示す。第1図に示すように、未処理品
は表面にCoo、Ni○が形成されているが、その酸化
層−二厚さ20〜30A千7度の極めて薄い自然酸化層
であり、保護膜とはならない。まだ、第2図に示すよう
に空気酸化した磁性層表面にもC00,N i Oが形
成されており、その酸化層の厚さはほぼ50Aであり、
前記の自然酸化層の厚さより増加している。しかし、形
成されている酸化層はコバルトの低次の酸化物であり、
保護膜としての作用は比較的弱い。これに対して、第3
図に示すように、オゾン処理ではCO3O4゜Ni○が
形成されており、その酸化層の厚さはほぼ70λであり
、前記空気酸化層の厚さ、1:り厚いことがわかっ/こ
。一方オシン処理で形成され/ζC0304U1、Co
o に比べ面1食1イ1:及び面1摩耗性にに1、るか
にすぐれており、表面酸化層の自己修復作用をもってい
る。さらに、オゾンは磁性体の粒界内部に侵入(〜、柱
状粒子表面ずなわぢ磁性体内部の活性部を安定なCo3
O4に改質する作用を呈するものと考えられる。
S)により磁性層表面の酸化状態、および深さ方向の分
析を行なっ/こ。分析結果の一例として、AESでの深
さ方向分析結果を第1図、第2図、第3図にそれぞれ示
す。なおここで、第1図は磁性層未処理の磁気妃録fi
’!l(体について、第2図は磁性層を空気酸化処理し
/こ磁気記録媒体について、第3図は本発明に」:り磁
性層をオゾン処理しゾζ磁気記録媒体について、それぞ
れ分析した結果を示す。第1図に示すように、未処理品
は表面にCoo、Ni○が形成されているが、その酸化
層−二厚さ20〜30A千7度の極めて薄い自然酸化層
であり、保護膜とはならない。まだ、第2図に示すよう
に空気酸化した磁性層表面にもC00,N i Oが形
成されており、その酸化層の厚さはほぼ50Aであり、
前記の自然酸化層の厚さより増加している。しかし、形
成されている酸化層はコバルトの低次の酸化物であり、
保護膜としての作用は比較的弱い。これに対して、第3
図に示すように、オゾン処理ではCO3O4゜Ni○が
形成されており、その酸化層の厚さはほぼ70λであり
、前記空気酸化層の厚さ、1:り厚いことがわかっ/こ
。一方オシン処理で形成され/ζC0304U1、Co
o に比べ面1食1イ1:及び面1摩耗性にに1、るか
にすぐれており、表面酸化層の自己修復作用をもってい
る。さらに、オゾンは磁性体の粒界内部に侵入(〜、柱
状粒子表面ずなわぢ磁性体内部の活性部を安定なCo3
O4に改質する作用を呈するものと考えられる。
次に前記のようにして作成した三f小の磁気記録媒体の
面1食件及び面]摩耗性を調べる/ζめ、40°C9相
対?W 1fJl 90係の腐食試験を行ない、表面層
の変色状態、光学顕微鏡での錆の観察、および磁気ヘッ
ドに」:る引っかき試験を行なった。未処理品の場合、
1週間で黄色に変色しており、全面に錆発生が認められ
た。寸だ、引っかき試験で磁性層のはく前が起こった。
面1食件及び面]摩耗性を調べる/ζめ、40°C9相
対?W 1fJl 90係の腐食試験を行ない、表面層
の変色状態、光学顕微鏡での錆の観察、および磁気ヘッ
ドに」:る引っかき試験を行なった。未処理品の場合、
1週間で黄色に変色しており、全面に錆発生が認められ
た。寸だ、引っかき試験で磁性層のはく前が起こった。
空気酸化処理品でに]:1週間で部分的な錆発生が認め
られ、引っかき試験でも一部磁性層のはく肉1(が認め
らJlだ。これに対して、本発明によるオゾン処理品の
」場合、1ケ月の腐食試験でもほとんど錆は認められず
、寸だ、引っか − き試験においても何ら問題がないことが確認された。一
方、コバルト・ニッケルよりなる磁性層の表面に70A
程度の酸化保護被膜を形成させても、電磁変換特性には
4つたく問題がないことが確認された。
られ、引っかき試験でも一部磁性層のはく肉1(が認め
らJlだ。これに対して、本発明によるオゾン処理品の
」場合、1ケ月の腐食試験でもほとんど錆は認められず
、寸だ、引っか − き試験においても何ら問題がないことが確認された。一
方、コバルト・ニッケルよりなる磁性層の表面に70A
程度の酸化保護被膜を形成させても、電磁変換特性には
4つたく問題がないことが確認された。
以上のように、本発明によると、面1食性ならびに而[
摩耗性にすぐれる磁気記録媒体を容易に製造することが
できる。
摩耗性にすぐれる磁気記録媒体を容易に製造することが
できる。
第1図、第2凹かよび第3昭1 td、−Co N i
よりなる磁性層表向におけるオージェ電子分光法による
深さ方向の分析結果を示す図で、このうち、第1図は磁
性層未処理の磁気記録媒体について、第2図は磁性層を
空気酸化処理した磁気記録媒体について、第3図は本発
明により磁性層をオゾン処理した磁気記録媒体について
、それぞれ分析した結果を示す。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第 3 図 ら窒ざび) 像−:J(A)
よりなる磁性層表向におけるオージェ電子分光法による
深さ方向の分析結果を示す図で、このうち、第1図は磁
性層未処理の磁気記録媒体について、第2図は磁性層を
空気酸化処理した磁気記録媒体について、第3図は本発
明により磁性層をオゾン処理した磁気記録媒体について
、それぞれ分析した結果を示す。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第 3 図 ら窒ざび) 像−:J(A)
Claims (4)
- (1)基体上に形成され強磁性金属よりなる磁性層をオ
ゾンを用い処理することを特徴とする磁気記録媒体の製
造方法。 - (2)オゾンの濃度が0.01〜10容量係の範囲内に
あることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の磁気
記録媒体の製造方法。 - (3) 強磁性金属がコバルトを含むことを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の磁気記録媒体の製造方法
。 - (4)基体がプラスチックフィルムからなることを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載の磁気記録媒体の製造
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12391581A JPS5826319A (ja) | 1981-08-06 | 1981-08-06 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12391581A JPS5826319A (ja) | 1981-08-06 | 1981-08-06 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5826319A true JPS5826319A (ja) | 1983-02-16 |
JPS644255B2 JPS644255B2 (ja) | 1989-01-25 |
Family
ID=14872488
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12391581A Granted JPS5826319A (ja) | 1981-08-06 | 1981-08-06 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5826319A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0436219A2 (en) * | 1989-12-27 | 1991-07-10 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for making magnetic recording media |
US7513266B2 (en) | 2004-06-09 | 2009-04-07 | Shibuya Ryutsu Co., Ltd. | Collapsible umbrella |
-
1981
- 1981-08-06 JP JP12391581A patent/JPS5826319A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0436219A2 (en) * | 1989-12-27 | 1991-07-10 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for making magnetic recording media |
US7513266B2 (en) | 2004-06-09 | 2009-04-07 | Shibuya Ryutsu Co., Ltd. | Collapsible umbrella |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS644255B2 (ja) | 1989-01-25 |
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