JPS5822542B2 - 多重蒸着膜の形成方法 - Google Patents
多重蒸着膜の形成方法Info
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- JPS5822542B2 JPS5822542B2 JP54155857A JP15585779A JPS5822542B2 JP S5822542 B2 JPS5822542 B2 JP S5822542B2 JP 54155857 A JP54155857 A JP 54155857A JP 15585779 A JP15585779 A JP 15585779A JP S5822542 B2 JPS5822542 B2 JP S5822542B2
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- Japan
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- mask
- deposition mask
- vapor
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
- Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、多重蒸着膜の形成方法に係り、特にガス放電
表示パネル用電極基板のような蒸着膜形成対象物表面上
に大きさの異なる蒸着膜を重ねて形成するための斬新な
方法に関するものである。
表示パネル用電極基板のような蒸着膜形成対象物表面上
に大きさの異なる蒸着膜を重ねて形成するための斬新な
方法に関するものである。
従来、例えば間接放電型ガス放電表示パネルの製造工程
において、ガラス基板上に形成した所定パターンの電極
を被覆してＡｔ２０３などの誘電体層を形成するに当っ
ては、前記電極がＣｒ−Ｃｕ−Ｃｒのような酸化性を有
する場合、当該電極表面の酸化を防ぐ観点から、まず全
面に薄いＡｔ２０３の蒸着膜を形成したのち、表示部対
応領域に所望厚みのＡｔ２０３膜を重ねて蒸着するやり
方が採られている。
において、ガラス基板上に形成した所定パターンの電極
を被覆してＡｔ２０３などの誘電体層を形成するに当っ
ては、前記電極がＣｒ−Ｃｕ−Ｃｒのような酸化性を有
する場合、当該電極表面の酸化を防ぐ観点から、まず全
面に薄いＡｔ２０３の蒸着膜を形成したのち、表示部対
応領域に所望厚みのＡｔ２０３膜を重ねて蒸着するやり
方が採られている。
かくして最初に形成した薄い蒸着膜は電極の端末部をも
覆った形となり、パネル組立に伴うすべての加熱工程を
終了したのち、当該端末部の蒸着膜は電極接続のためエ
ツチングによって除去される。
覆った形となり、パネル組立に伴うすべての加熱工程を
終了したのち、当該端末部の蒸着膜は電極接続のためエ
ツチングによって除去される。
ところで、上記のような電極端末部を含むパターンの第
１蒸着膜と、表示エリアのみを覆うパターンの第２蒸着
膜を重ねて形成する場合、従来は、まず端子部を含んだ
電極領域に酸化を防止するための薄いＡｔ２０３の蒸着
膜を形成すべく第一の蒸着マスクを装着し、回転式蒸着
装置で所定の工程を経て所望の蒸着膜を形成する。
１蒸着膜と、表示エリアのみを覆うパターンの第２蒸着
膜を重ねて形成する場合、従来は、まず端子部を含んだ
電極領域に酸化を防止するための薄いＡｔ２０３の蒸着
膜を形成すべく第一の蒸着マスクを装着し、回転式蒸着
装置で所定の工程を経て所望の蒸着膜を形成する。
そして前記第１の蒸着膜の形成が終ると、前記第１の蒸
着マスクを取り外して、表示部対応領域の開口部を有す
る第２の蒸着マスクに交換して５〜１０μｍと比較的厚
い蒸着膜を形成しなければならなかった。
着マスクを取り外して、表示部対応領域の開口部を有す
る第２の蒸着マスクに交換して５〜１０μｍと比較的厚
い蒸着膜を形成しなければならなかった。
この蒸着マスクを交換する工程としては、基板冷却−空
気導入−ドラム取り出し一マスク交換−ドラム挿入−空
気吸引−基板再加熱の作業が必要であり、この蒸着マス
ク交換を行なう前記一連の工程に数時間を労費する問題
点があった。
気導入−ドラム取り出し一マスク交換−ドラム挿入−空
気吸引−基板再加熱の作業が必要であり、この蒸着マス
ク交換を行なう前記一連の工程に数時間を労費する問題
点があった。
本発明は、前記問題点を解消すべくなされたもので、所
定パターンの電極を形成した基板上に、開口部の異なる
複数の蒸着マスクを離脱可能に重ねて装着し、蒸着装置
を休止することなく複数層の蒸着膜を形成することに着
目したものである。
定パターンの電極を形成した基板上に、開口部の異なる
複数の蒸着マスクを離脱可能に重ねて装着し、蒸着装置
を休止することなく複数層の蒸着膜を形成することに着
目したものである。
筒中、に述べると、本発明は蒸着膜形成対象物表面上に
、所定パターンの開口部を有する第１の蒸着マスクと、
該第１蒸着マスクとは異なる開口部パターンをそなえた
第２の蒸着マスクとの少なくとも２枚のマスクを離脱可
能に重ねて蒸着装置内に装着し、これら２重の蒸着マス
クを通して第２蒸着マスクの開口部パターンに対応した
蒸着膜を形成したのち、該第２蒸着膜形成対象物から蒸
着経路外へ離脱させ、引続き第１の蒸着マスクを通して
尚核マスクの開口部パターンに対応した蒸着膜を連続し
て形成するようにしたことを特徴とするものである。
、所定パターンの開口部を有する第１の蒸着マスクと、
該第１蒸着マスクとは異なる開口部パターンをそなえた
第２の蒸着マスクとの少なくとも２枚のマスクを離脱可
能に重ねて蒸着装置内に装着し、これら２重の蒸着マス
クを通して第２蒸着マスクの開口部パターンに対応した
蒸着膜を形成したのち、該第２蒸着膜形成対象物から蒸
着経路外へ離脱させ、引続き第１の蒸着マスクを通して
尚核マスクの開口部パターンに対応した蒸着膜を連続し
て形成するようにしたことを特徴とするものである。
以下図面を参照しながら本発明に係る多重蒸着膜の形成
力法の実施例について詳細に説明する。
力法の実施例について詳細に説明する。
第１図は、本発明の蒸着膜形成方法に用いる蒸着装置の
一実施例を示す要部断面図で、１は蒸着槽となる円筒状
の真空容器、２は前記真空容器１の中に設置された蒸着
試料容器、３は前記蒸着試料容器内に収容される蒸着試
料、４は蒸着膜を形成すべき基板５を固定した吊下げ具
９を軸１０により回動自在に取り付ける回転枠、７は附
記蒸着試料３を加熱する。
一実施例を示す要部断面図で、１は蒸着槽となる円筒状
の真空容器、２は前記真空容器１の中に設置された蒸着
試料容器、３は前記蒸着試料容器内に収容される蒸着試
料、４は蒸着膜を形成すべき基板５を固定した吊下げ具
９を軸１０により回動自在に取り付ける回転枠、７は附
記蒸着試料３を加熱する。
＋Ｊｒｌ熱ヒーク、８は前記回転枠４を回転する回転伝
導ローラ、１１は第２の蒸着マスク６１を落下さぜる押
込み棒、６１は装着金具６１１を具備した第２の蒸着マ
スク、６２は第１の蒸着マスクである。
導ローラ、１１は第２の蒸着マスク６１を落下さぜる押
込み棒、６１は装着金具６１１を具備した第２の蒸着マ
スク、６２は第１の蒸着マスクである。
このよ−うな構成において、基板５の蒸着膜形成面にま
ず第１の蒸着マスク６２を装着し、このままの状態で前
記第１の蒸着マスク６２の外側下方に装着金具６１１を
具備した第２の蒸着マスク６１を重ねて装着して、これ
を吊下げ具９に固定する。
ず第１の蒸着マスク６２を装着し、このままの状態で前
記第１の蒸着マスク６２の外側下方に装着金具６１１を
具備した第２の蒸着マスク６１を重ねて装着して、これ
を吊下げ具９に固定する。
かくして複数の蒸着マスク６１，６２を装着した基板を
回転枠４の所定位置に回転自在に軸支し、蒸着試料たと
えばＡｔ２０３などの所定の蒸着試料３を蒸着試料容器
２に収容する。
回転枠４の所定位置に回転自在に軸支し、蒸着試料たと
えばＡｔ２０３などの所定の蒸着試料３を蒸着試料容器
２に収容する。
そして真空容器１内を図示しない真空ポンプで排気し高
真空を保持した状態で回転枠４を回転伝導ローラ８によ
って矢印Ａ方向に回転すると、蒸着マスク６１．６２を
重ねて装着した基板５の蒸着膜形成面が常時下向きとな
っているので、蒸着試料３の上に順次位置するようにな
る。
真空を保持した状態で回転枠４を回転伝導ローラ８によ
って矢印Ａ方向に回転すると、蒸着マスク６１．６２を
重ねて装着した基板５の蒸着膜形成面が常時下向きとな
っているので、蒸着試料３の上に順次位置するようにな
る。
かくして前記蒸着試料３を加熱ヒータ７によって蒸発せ
しめれば、前記回転枠４に軸支された吊下げ具９に取り
付けられた複数の基板５にまず第２の蒸着マスク６１の
開口部パターンに対応する領域すなわち表示部対応領域
に規制された形状の蒸着膜を順次形成し、この蒸着が終
ると、回転式蒸着装置を停ｔｌ−させることなく、真空
容器１の側方に設けた押込み棒１１を第２の蒸着マスク
６１の下方に具備した装着金具６１１に押込んで前記第
２の蒸着マスク６１を順次蒸着経路外−＼離脱せしめて
、真、空容器１の下部空間に落下せしめる。
しめれば、前記回転枠４に軸支された吊下げ具９に取り
付けられた複数の基板５にまず第２の蒸着マスク６１の
開口部パターンに対応する領域すなわち表示部対応領域
に規制された形状の蒸着膜を順次形成し、この蒸着が終
ると、回転式蒸着装置を停ｔｌ−させることなく、真空
容器１の側方に設けた押込み棒１１を第２の蒸着マスク
６１の下方に具備した装着金具６１１に押込んで前記第
２の蒸着マスク６１を順次蒸着経路外−＼離脱せしめて
、真、空容器１の下部空間に落下せしめる。
そして引続き第１の蒸着マスク６２の窓に対応する端子
部分を含んだ領域の蒸着膜すなわち前記放電部分の蒸着
膜を含めて蒸着膜を形成するものである。
部分を含んだ領域の蒸着膜すなわち前記放電部分の蒸着
膜を含めて蒸着膜を形成するものである。
このようにして蒸着膜を形成した基板の構成を第５図に
おいて後で詳述する。
おいて後で詳述する。
第２図は、本発明に係る多重蒸着膜の形成力法における
基板５に蒸着マスクを取りつけた構造の一実施例を示す
側断面図で、前脳と同等の部分については同一符号が付
しである。
基板５に蒸着マスクを取りつけた構造の一実施例を示す
側断面図で、前脳と同等の部分については同一符号が付
しである。
６２１は第１Ｑ）蒸着マスク６２に具備する装着金具で
、まず基板５に前記第１の蒸着マスク６２を装着した上
に、第２の蒸着マスク６１を重ね合わせて固定するよう
に、前記第１の蒸着マスク６２の両端の下面に複数個の
永久磁石６２２を保持させである。
、まず基板５に前記第１の蒸着マスク６２を装着した上
に、第２の蒸着マスク６１を重ね合わせて固定するよう
に、前記第１の蒸着マスク６２の両端の下面に複数個の
永久磁石６２２を保持させである。
したがって第２の蒸着マスク６１に前記第１の蒸着マス
ク６２に付設した永久磁石６２２の対応する位置に鉄片
６１２が設けである。
ク６２に付設した永久磁石６２２の対応する位置に鉄片
６１２が設けである。
第３図は、基板５に２枚の蒸着マスクを取り付けた構造
の他の実施例を示す側断面図で、前脳と同等の部分につ
いては同一符号が付しである。
の他の実施例を示す側断面図で、前脳と同等の部分につ
いては同一符号が付しである。
６２３は第１−の蒸着マスク６２の長手方向両端に取り
付けた弾性のあるたとえば燐青銅等からなるストッパで
、第２の蒸着マスク６１を嵌め込むように構成されてい
る。
付けた弾性のあるたとえば燐青銅等からなるストッパで
、第２の蒸着マスク６１を嵌め込むように構成されてい
る。
したがって前記第２の蒸着マスク６１には前記ストッパ
６２３に対応した位置に孔が設けである。
６２３に対応した位置に孔が設けである。
なお、第２の蒸着マスク６１を除外する方法は第２図で
述べたとおりである。
述べたとおりである。
第４図は、基板５に２枚の蒸着マスクを取り付けた構造
の他の実施例を示す側断面図で、前脳と同等の部分につ
いては同一符号が付しである。
の他の実施例を示す側断面図で、前脳と同等の部分につ
いては同一符号が付しである。
６２４は第１の蒸着マスク６２の受は金具、６１３は第
２の蒸着マスク６１の端部を折り曲げた引っかけて、１
３は機密保持用の０リング、１４は前記第２の蒸着マス
ク６１を除外する引っかけ棒である。
２の蒸着マスク６１の端部を折り曲げた引っかけて、１
３は機密保持用の０リング、１４は前記第２の蒸着マス
ク６１を除外する引っかけ棒である。
このような構成は前述の実施例と異なり、第１の蒸着マ
スク６２の長手方向両端に第２の蒸着マスク６１の受は
金具６２４を設け、該受は金具６２４に第２の蒸着マス
ク６１を挿入して所定の蒸着膜を形成する状態を示した
もので、真空容器１には気密保持０リング１３を介して
引っかけ棒１４が設けられており、該引つかけ棒１４に
よって、第２の蒸着マスク６１の引っかけ６１３を引っ
張って蒸着経路外へ離脱するようにしたものてある。
スク６２の長手方向両端に第２の蒸着マスク６１の受は
金具６２４を設け、該受は金具６２４に第２の蒸着マス
ク６１を挿入して所定の蒸着膜を形成する状態を示した
もので、真空容器１には気密保持０リング１３を介して
引っかけ棒１４が設けられており、該引つかけ棒１４に
よって、第２の蒸着マスク６１の引っかけ６１３を引っ
張って蒸着経路外へ離脱するようにしたものてある。
第５図は、本発明に係る多重蒸着膜の形成力法により蒸
着膜を形成した基板５を示し、ａは平面図、ｂは側断面
図で、前脳と同等の部分については同一符号を付す。
着膜を形成した基板５を示し、ａは平面図、ｂは側断面
図で、前脳と同等の部分については同一符号を付す。
５１は基板５に形成した電極、５２は電極端子、５３は
放電部分の第１の誘電体蒸着膜、５４は放電部分および
端子部分を覆った第２の誘電体蒸着膜である。
放電部分の第１の誘電体蒸着膜、５４は放電部分および
端子部分を覆った第２の誘電体蒸着膜である。
蒸着マスクの窓の大きさは第５図ａに示ずニー重斜線が
放電部分のみを蒸着するときに用いる第２のもので、一
重と７１重斜線を合わせたものが放電部分と端子部分と
を同時に蒸着する大きな窓をそなえた第１のものである
。
放電部分のみを蒸着するときに用いる第２のもので、一
重と７１重斜線を合わせたものが放電部分と端子部分と
を同時に蒸着する大きな窓をそなえた第１のものである
。
したがって蒸着膜の形成は窓の小さい第２マスクとその
下の第１−マスクを通して放電部分の蒸着膜を形成した
のち、第１のマスクを通して放電部分と端子部分を含め
た薄い蒸着膜を形成するようにする。
下の第１−マスクを通して放電部分の蒸着膜を形成した
のち、第１のマスクを通して放電部分と端子部分を含め
た薄い蒸着膜を形成するようにする。
なお、本実施例ではガス放電パネルの製造方法につき２
層の蒸着膜形成について詳述したが、ガス放電パネルに
限らすＥＬその他の平板表示素子にも適用でき、しかも
蒸着膜は２層に限らず複数層の蒸着膜形成が可能である
。
層の蒸着膜形成について詳述したが、ガス放電パネルに
限らすＥＬその他の平板表示素子にも適用でき、しかも
蒸着膜は２層に限らず複数層の蒸着膜形成が可能である
。
また蒸着材料を切替えて多重蒸着膜を形成することも勿
論可能である。
論可能である。
以上説明したように、本発明に係る多重蒸着膜の形成力
法によれば、複数層の蒸着膜を一工程で形成することが
可能となるので、製造工程が著しく短縮でき能率向上に
寄与するところが犬であり、しかも外気にふれることが
ないので品質の向上も期待できる。
法によれば、複数層の蒸着膜を一工程で形成することが
可能となるので、製造工程が著しく短縮でき能率向上に
寄与するところが犬であり、しかも外気にふれることが
ないので品質の向上も期待できる。
第１図は本発明に係る多重蒸着膜の形成方法の一実施例
を示す要部側断面図、第２〜４図は、本発明に係る蒸着
マスクの取付構造を示す側断面図、第５図は本発明に係
る多重蒸着膜の形成方法により形成した基板の側断面図
および平面図である。 １：真空容器、２：蒸着試料容器、３：蒸着試料、４：
回転枠、５：基板、７：加熱ヒータ、８：回転伝導ロー
ラ、９：吊下げ具、１０：軸、１１：押込み棒、１３：
Ｏリング、１４：引っかけ棒、５１：電極、５２：電極
端子、５３：放電部分の誘電体蒸着膜、５４：放電部分
および端子部分の誘電体蒸着膜、６１：第２の蒸着マス
ク、６２：第１の蒸着マスク、６１１：６２１ ：装着
金具、６１２：鉄片、６１３：引っかけ、６２２：永久
磁石、６２３：ストッパ、６２４：受は金具。
を示す要部側断面図、第２〜４図は、本発明に係る蒸着
マスクの取付構造を示す側断面図、第５図は本発明に係
る多重蒸着膜の形成方法により形成した基板の側断面図
および平面図である。 １：真空容器、２：蒸着試料容器、３：蒸着試料、４：
回転枠、５：基板、７：加熱ヒータ、８：回転伝導ロー
ラ、９：吊下げ具、１０：軸、１１：押込み棒、１３：
Ｏリング、１４：引っかけ棒、５１：電極、５２：電極
端子、５３：放電部分の誘電体蒸着膜、５４：放電部分
および端子部分の誘電体蒸着膜、６１：第２の蒸着マス
ク、６２：第１の蒸着マスク、６１１：６２１ ：装着
金具、６１２：鉄片、６１３：引っかけ、６２２：永久
磁石、６２３：ストッパ、６２４：受は金具。
Claims (1)
- １ 蒸着膜形成対象物表面上に、所定パターンの開口部
を有する第１の蒸着マスクと、該第１蒸着マスクとは異
なる開口部パターンをそなえた第２の蒸着マスクとの少
なくとも２枚のマスクを離脱可能に重ねて蒸着装置内に
装着し、これら２重の蒸着マスクを通して第２蒸着マス
クの開口部パターンに対応した蒸着膜を形成した後、該
第２蒸着マスクを蒸着膜形成対象物から蒸着経路外へ離
脱させ、引続き第１の蒸着マスクを通して当該マスクの
開口部パターンに対応した蒸着膜を連続して形成するよ
うにしたことを特徴とする多重蒸着膜の形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54155857A JPS5822542B2 (ja) | 1979-11-30 | 1979-11-30 | 多重蒸着膜の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54155857A JPS5822542B2 (ja) | 1979-11-30 | 1979-11-30 | 多重蒸着膜の形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5677378A JPS5677378A (en) | 1981-06-25 |
| JPS5822542B2 true JPS5822542B2 (ja) | 1983-05-10 |
Family
ID=15615009
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP54155857A Expired JPS5822542B2 (ja) | 1979-11-30 | 1979-11-30 | 多重蒸着膜の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5822542B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59150689U (ja) * | 1983-03-30 | 1984-10-08 | 株式会社昭和製作所 | アンチ・ノ−ズダイブ型のフロントフオ−ク |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5929965U (ja) * | 1982-08-19 | 1984-02-24 | 木村新株式会社 | 姿見用ミラ− |
| EP0326191A3 (en) * | 1983-02-25 | 1991-12-27 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Apparatus and method for plasma treatment of resin material |
-
1979
- 1979-11-30 JP JP54155857A patent/JPS5822542B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59150689U (ja) * | 1983-03-30 | 1984-10-08 | 株式会社昭和製作所 | アンチ・ノ−ズダイブ型のフロントフオ−ク |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5677378A (en) | 1981-06-25 |
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