JPS58224450A - 情報媒体複製用原盤の製造方法 - Google Patents
情報媒体複製用原盤の製造方法Info
- Publication number
- JPS58224450A JPS58224450A JP10614782A JP10614782A JPS58224450A JP S58224450 A JPS58224450 A JP S58224450A JP 10614782 A JP10614782 A JP 10614782A JP 10614782 A JP10614782 A JP 10614782A JP S58224450 A JPS58224450 A JP S58224450A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- organic material
- forming
- information bits
- material layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（１）発明の技術分野
本発明は、記＆！技１Ｊとしての光ティスフ技術に関し
、さらに杆しく述べると、例えはオーディオ用及びビデ
オ用ＣＩ）元ディスクのようなｔ１ｖ報媒体を大量にａ
ＳするＫめの原盤を製造する方法に関する。
、さらに杆しく述べると、例えはオーディオ用及びビデ
オ用ＣＩ）元ディスクのようなｔ１ｖ報媒体を大量にａ
ＳするＫめの原盤を製造する方法に関する。
（２））従来技術と問題点
光ディスクの原盤を製造するため、従来、フォトレジス
トが主として用いらｒしていΦ。この従来の原盤製造方
法は、先ず、ガラス基板上にフ、ｉ トレジストを盆布
し、こｎを（ロ）転させながら、集束し、そして情報に
よって強度変調さｎｔｃｆｔ、ビームを照射し、そして
現像液により現像して凹凸のあるフォトレジストの原盤
２作成すΦことからなっている。元ディスクをｌ！ｌｌ
製するＷ台には、例えば。
トが主として用いらｒしていΦ。この従来の原盤製造方
法は、先ず、ガラス基板上にフ、ｉ トレジストを盆布
し、こｎを（ロ）転させながら、集束し、そして情報に
よって強度変調さｎｔｃｆｔ、ビームを照射し、そして
現像液により現像して凹凸のあるフォトレジストの原盤
２作成すΦことからなっている。元ディスクをｌ！ｌｌ
製するＷ台には、例えば。
上記のようにして作成した原盤に無電解メッキで金を付
け、二ｙケル電鋳する。得らｆ１Ｊｃニッケルスタンバ
を使用して、レコード盤の製作と同じ要領でプラスナッ
クモールドを作り、この上方にアルミニウム反射ａｔ蒸
着し、そしてさらにプラスチック保賎膜を塗布する。と
ころが、上記のようにして原盤を製造す０場合、フォト
レジストの塗布法に原因があるのであΦが、原ＪｌｉＧ
ｆｔフォトレジストの四部、Ｔなわち、情報ビットに対
応する部分、の深さが均一にならないという欠点がある
。
け、二ｙケル電鋳する。得らｆ１Ｊｃニッケルスタンバ
を使用して、レコード盤の製作と同じ要領でプラスナッ
クモールドを作り、この上方にアルミニウム反射ａｔ蒸
着し、そしてさらにプラスチック保賎膜を塗布する。と
ころが、上記のようにして原盤を製造す０場合、フォト
レジストの塗布法に原因があるのであΦが、原ＪｌｉＧ
ｆｔフォトレジストの四部、Ｔなわち、情報ビットに対
応する部分、の深さが均一にならないという欠点がある
。
この欠点は、フォトレジストＱ】塗布法Ｑ）改良やこれ
に代るべき新しい材料の発見が試みられているにも拘ら
ず、未だ解消されるに至っていない。さらに加えて、こ
Ｇ’Ｊ↓うな四部の深さを通常ビットないのであるが、
これもうまくいっていない。また、フォトレジストの光
反射率が４チ程度と非常に小さいため、集束し７た光ビ
ームを書き込み時にレジスト上に正確に焦点合わ容する
、いわゆるフォーカスサーボ用の反射光が弱く、したが
って、フォーカスサーボが安定に保てない、さいう問題
（３） がある。例えば、ビットの深さのバラつきがあると、７
８生信号ｃＤ８／Ｎの低下が生じるという欠点が、ｔｙ
ｃ、フォーカスサーボが安定でないと、書込み光スポッ
トのスポット径が変動してビット径、深さが不安定にな
り、再生信号のＳ／Ｎが低下するといり欠点が、そｎ（
′れ導びかれる。
に代るべき新しい材料の発見が試みられているにも拘ら
ず、未だ解消されるに至っていない。さらに加えて、こ
Ｇ’Ｊ↓うな四部の深さを通常ビットないのであるが、
これもうまくいっていない。また、フォトレジストの光
反射率が４チ程度と非常に小さいため、集束し７た光ビ
ームを書き込み時にレジスト上に正確に焦点合わ容する
、いわゆるフォーカスサーボ用の反射光が弱く、したが
って、フォーカスサーボが安定に保てない、さいう問題
（３） がある。例えば、ビットの深さのバラつきがあると、７
８生信号ｃＤ８／Ｎの低下が生じるという欠点が、ｔｙ
ｃ、フォーカスサーボが安定でないと、書込み光スポッ
トのスポット径が変動してビット径、深さが不安定にな
り、再生信号のＳ／Ｎが低下するといり欠点が、そｎ（
′れ導びかれる。
（３）妬明の目的
上記し罠↓うな従来の原盤製造法の欠点にかんがみて％
得られる原盤の深さが一定であり、しかも、高められｍ
反射率を有している、改良さｎ７こ原盤を再現性良く製
造する方法を提供することが望まｎている。本発明の目
的は、このような原盤製造方法２提供することにある。
得られる原盤の深さが一定であり、しかも、高められｍ
反射率を有している、改良さｎ７こ原盤を再現性良く製
造する方法を提供することが望まｎている。本発明の目
的は、このような原盤製造方法２提供することにある。
（４）発明力構成
本発明者らは、このたび、上記目的を、下記の工程：
基板上に１−機物！層を形成し、この層の上方にさらに
金属層を形成すること、 前記金属層り】一部を集束した光と一六に↓り選択的に
除去して情報ビットに対応する孔を形成す（４） ること、 前記孔を通して側出せる前記有機物質層をプラズマエツ
チングにより除去すること、そして残留せる前記金属Ｎ
ＩＩを除去して基板と情報ビットに対応する凹部を有す
る有機物質層きからなる情報媒体複製用原盤を形成する
こと、 を含んでなることを特徴とする情報媒体複製用原盤の製
造方法に↓って達成し得るということを見い出した。
金属層を形成すること、 前記金属層り】一部を集束した光と一六に↓り選択的に
除去して情報ビットに対応する孔を形成す（４） ること、 前記孔を通して側出せる前記有機物質層をプラズマエツ
チングにより除去すること、そして残留せる前記金属Ｎ
ＩＩを除去して基板と情報ビットに対応する凹部を有す
る有機物質層きからなる情報媒体複製用原盤を形成する
こと、 を含んでなることを特徴とする情報媒体複製用原盤の製
造方法に↓って達成し得るということを見い出した。
本発明の方法は、その好ましい１態様に従うと、前記物
質層と前記金属−との中間に例えばカーボン薄膜ＣＤよ
うな安定化層を介在させるのが好ましい、なぜなら、こ
のような、エツチング可能な耐熱性の安定化層を存在さ
せると、その上方に形成させた金属層に孔をあける時に
その熱で有機物質層が変形するの【回避することができ
るからである。
質層と前記金属−との中間に例えばカーボン薄膜ＣＤよ
うな安定化層を介在させるのが好ましい、なぜなら、こ
のような、エツチング可能な耐熱性の安定化層を存在さ
せると、その上方に形成させた金属層に孔をあける時に
その熱で有機物質層が変形するの【回避することができ
るからである。
（５）発明（ＬＪ夾施例
次に、添付の図？！Ｉｌｌを参照しながら本発明を説明
する。
する。
第１図には、原註製造の第１Ｒ階として、基板ｌの上方
に有機物質層２、そして金属層３を形成する工程が示さ
れている。
に有機物質層２、そして金属層３を形成する工程が示さ
れている。
基板ｌとして、例えば、この技術分野において常用され
ているガラス基板のほか、例えばアクリル樹脂ｏ）１つ
なプラスチック基板、金属基板などを使用することがで
きる。この揚台により平滑処理した後の基板ｌの上方に
有機物質層２を形成する。ここで使用する有機物質は、
容易にエツチング可能でありかつ原盤としての条件を満
たす限りにおいて特に限定されるものではない。例えば
、この技術分野において一般的に用いられている、例え
ばＡｚｌａ５０Ｊなどのようなほとんどすべての有機フ
ォトレジストを使用することができる。
ているガラス基板のほか、例えばアクリル樹脂ｏ）１つ
なプラスチック基板、金属基板などを使用することがで
きる。この揚台により平滑処理した後の基板ｌの上方に
有機物質層２を形成する。ここで使用する有機物質は、
容易にエツチング可能でありかつ原盤としての条件を満
たす限りにおいて特に限定されるものではない。例えば
、この技術分野において一般的に用いられている、例え
ばＡｚｌａ５０Ｊなどのようなほとんどすべての有機フ
ォトレジストを使用することができる。
フォトレジストを使用する楊曾、そわ、を溶かした溶液
からスピンコード法によｐ−２を形成することができる
。さらに、より一定な膜厚を得ようとする揚台には、蒸
着法又は気相成長法によりこの層２を形成するＱ〕が好
ましｂｏかかる目的に適当な有機物質としては、例えば
、銅フタ四シアニン、鉛フタロシアニンなどの工うな金
属フタロシアニン、スチレン、ポリメチルメタクリレー
ト、ソＱ）他をあげることができる。有機物質層２の膜
厚は、一般に一４００〜＋４０ＯＡであるＱ〕が好まし
い、有機物質層２の上方に金属層３を形成する。有用な
金属としては、例えば、Ｔｅ、 Ｂｉ、 Ｓｅｅ Ａｓ
などのような金属もしくはそ（７）＆金又はＡノ、 Ａ
ｕ。
からスピンコード法によｐ−２を形成することができる
。さらに、より一定な膜厚を得ようとする揚台には、蒸
着法又は気相成長法によりこの層２を形成するＱ〕が好
ましｂｏかかる目的に適当な有機物質としては、例えば
、銅フタ四シアニン、鉛フタロシアニンなどの工うな金
属フタロシアニン、スチレン、ポリメチルメタクリレー
ト、ソＱ）他をあげることができる。有機物質層２の膜
厚は、一般に一４００〜＋４０ＯＡであるＱ〕が好まし
い、有機物質層２の上方に金属層３を形成する。有用な
金属としては、例えば、Ｔｅ、 Ｂｉ、 Ｓｅｅ Ａｓ
などのような金属もしくはそ（７）＆金又はＡノ、 Ａ
ｕ。
Ｃｒ ＊ Ｔ ｉ 、Ｓ ｎ 、Ｐ ｂなどの工うな金
属もしくはそり）台金をあげることができる。このよう
な金属を、例えば真空蒸着法などのような常用の薄膜形
成技術に従って、有機物質層２の上方に核種する。金属
層３の膜厚は、一般に、１００ＡＧり前後であるのが好
ましい。
属もしくはそり）台金をあげることができる。このよう
な金属を、例えば真空蒸着法などのような常用の薄膜形
成技術に従って、有機物質層２の上方に核種する。金属
層３の膜厚は、一般に、１００ＡＧり前後であるのが好
ましい。
本発明に従うと、図示さしていないけれども、有機物質
層２と金属層３との中間に安定化層、例させることがで
きる。例えば、カーボンの非晶質膜を介在させる場合、
蒸着によ九１れを形成司能である。
層２と金属層３との中間に安定化層、例させることがで
きる。例えば、カーボンの非晶質膜を介在させる場合、
蒸着によ九１れを形成司能である。
第２図には、金属層３の一部を集束した光ビー（７）
ム、例えばレーザ光により選択的に除去して情報ビット
に対応する孔ａを形成する工程が示されている。孔ａの
まわりの金属層３の盛り上がりは、レーザ光で孔をあけ
る際に蒸発した金属が周囲に付着している状態を示して
いる。孔あけに際して。
に対応する孔ａを形成する工程が示されている。孔ａの
まわりの金属層３の盛り上がりは、レーザ光で孔をあけ
る際に蒸発した金属が周囲に付着している状態を示して
いる。孔あけに際して。
４５０〜１８００ ｒｐｍで基板ｌを回転させながら、
例工ばＡｒ レーザビームの↓うなレーザ光を所定の
位置に照射する。レーザ光の光強度は、記録すべき情報
に従って変調することができる。
例工ばＡｒ レーザビームの↓うなレーザ光を所定の
位置に照射する。レーザ光の光強度は、記録すべき情報
に従って変調することができる。
次に、孔ａを通して躇出せる有機物質層２をプラズマエ
ツチング暑こ工Ｉ７除去すると、第３図に図示する通ｐ
となる。プラズマエツチングは、常法に従って、例えば
平行平板製のプラズマエツチング装置を使用して、例え
ば０□、ＣＦ’４などのガスを導入して行なうことがで
きる。
ツチング暑こ工Ｉ７除去すると、第３図に図示する通ｐ
となる。プラズマエツチングは、常法に従って、例えば
平行平板製のプラズマエツチング装置を使用して、例え
ば０□、ＣＦ’４などのガスを導入して行なうことがで
きる。
最後に、第４図に図示する通り、有機物質層２上に残留
せる金属層３を除去する。この除去工程は、エツチング
ｖｋの有機物質層２をおかさないように注意を払う必要
がある１通常、例えば希硝酸などの弱酸溶液に浸漬して
残音金属層３を除去す（８） るのが好ましい。必要に応じて、プラズマエツチングを
利用することもできる。金属層の除去が完了すると、基
板ｌと情報ピントに対応する凹部すを有する有機物質層
２とからなる情報媒体複製用原盤が得られる。
せる金属層３を除去する。この除去工程は、エツチング
ｖｋの有機物質層２をおかさないように注意を払う必要
がある１通常、例えば希硝酸などの弱酸溶液に浸漬して
残音金属層３を除去す（８） るのが好ましい。必要に応じて、プラズマエツチングを
利用することもできる。金属層の除去が完了すると、基
板ｌと情報ピントに対応する凹部すを有する有機物質層
２とからなる情報媒体複製用原盤が得られる。
次に、笑施例をあげて本発明ｔ−説明する。
例１；
外径３５６■、内径２０■及び肉厚６１ｍ （／−）研
摩し友ガラス円板（基板）上にＡＺ１３５０Ｊなる商品
名で市販されている７オトレジスｔ・ｔａｔＵｌ［５０
０〜１４００Ａでスピンコードした。このレジスト膜の
上に、テルル（Ｔｅ） ’Ｅ膜厚１００Ａで真空蒸着し
た。蒸着完了後、基板を１８００ ｒｐｍで回転させな
がら、Ａｒレーザビームをφ０．８ｍ＋に集束してこれ
に照射した。照射部のＴｅ膜が溶解して情報ビットに対
応する孔が出来た。この場合のレーザ光の出力は、円板
の中心から１５０＋ｕの位置で、はぼ８ｍＷ以上あれば
十分であった。孔あけ完了後、平行平板型のプラズマエ
ツチング装置内に基板を［１！、先に形成したＴｅ膜の
孔（窓）を通してレジスト膜をエツチングした。導入ガ
スは０□、真空度は５０ ｍ Ｔｏｒｒ であった。露
出せるレジスト膜をエツチングにｊり除去した後、基板
を希硝酸溶液に浸漬して残留せるＴｅＩＩＫを溶解除去
した。形成された、情報ビットに対応する凹部の深さは
一定であった。さらに、本例の場合、Ｔｅ膜の表面の反
射率が３０−であるので１反射光を利用して対物レンズ
の位置袖正？行なうこと、いわゆるフォーカスサーボが
容易であっ１ｃ。
摩し友ガラス円板（基板）上にＡＺ１３５０Ｊなる商品
名で市販されている７オトレジスｔ・ｔａｔＵｌ［５０
０〜１４００Ａでスピンコードした。このレジスト膜の
上に、テルル（Ｔｅ） ’Ｅ膜厚１００Ａで真空蒸着し
た。蒸着完了後、基板を１８００ ｒｐｍで回転させな
がら、Ａｒレーザビームをφ０．８ｍ＋に集束してこれ
に照射した。照射部のＴｅ膜が溶解して情報ビットに対
応する孔が出来た。この場合のレーザ光の出力は、円板
の中心から１５０＋ｕの位置で、はぼ８ｍＷ以上あれば
十分であった。孔あけ完了後、平行平板型のプラズマエ
ツチング装置内に基板を［１！、先に形成したＴｅ膜の
孔（窓）を通してレジスト膜をエツチングした。導入ガ
スは０□、真空度は５０ ｍ Ｔｏｒｒ であった。露
出せるレジスト膜をエツチングにｊり除去した後、基板
を希硝酸溶液に浸漬して残留せるＴｅＩＩＫを溶解除去
した。形成された、情報ビットに対応する凹部の深さは
一定であった。さらに、本例の場合、Ｔｅ膜の表面の反
射率が３０−であるので１反射光を利用して対物レンズ
の位置袖正？行なうこと、いわゆるフォーカスサーボが
容易であっ１ｃ。
例ｊ２：
前記例１に記載の手法を繰り返し罠、但し２本例の場＆
１フォトレジストＡＺ１３５０Ｊに代えて銅フタロシア
ニンを使用し、”また、真空蒸着に↓り形成させたこの
鋼フタロシアニン膜とＴｅ膜との中間にカーボンＱ）非
晶質膜を膜厚１０〜５０Ａで蒸着した。カーボン薄膜の
除去は、０□によるプラズマエツチングによって実施し
た。本例０Ｊ場合も、前記例１と同様、均一な深さを有
する四部が得られた。さらに、カーボン薄膜を介在させ
た罠め、鋼フタロシアニン膜の加熱による表面変形を回
避することができた。
１フォトレジストＡＺ１３５０Ｊに代えて銅フタロシア
ニンを使用し、”また、真空蒸着に↓り形成させたこの
鋼フタロシアニン膜とＴｅ膜との中間にカーボンＱ）非
晶質膜を膜厚１０〜５０Ａで蒸着した。カーボン薄膜の
除去は、０□によるプラズマエツチングによって実施し
た。本例０Ｊ場合も、前記例１と同様、均一な深さを有
する四部が得られた。さらに、カーボン薄膜を介在させ
た罠め、鋼フタロシアニン膜の加熱による表面変形を回
避することができた。
（６） 発明の効果
本発明に従うと、情報ビットに対応する凹凸を有しかつ
その四部の深さが一定である原盤を再現性よく製造する
ことができる。さらに、本発明に従うと、有機物質層が
特に感光性を有する必要がないため、昼光下における原
盤の製造が可能である。また、有機物質の選択範囲やそ
の適用（膜形成方法）の範囲も広範囲である。このこと
は、膜厚の制御が容易であり、均一性の高い［を得るこ
とができることを意味している。しＩＣがって、凹凸の
高さを一定にし、バラツキを小さくすることができる罠
め、高品質の原盤を製造することができる。
その四部の深さが一定である原盤を再現性よく製造する
ことができる。さらに、本発明に従うと、有機物質層が
特に感光性を有する必要がないため、昼光下における原
盤の製造が可能である。また、有機物質の選択範囲やそ
の適用（膜形成方法）の範囲も広範囲である。このこと
は、膜厚の制御が容易であり、均一性の高い［を得るこ
とができることを意味している。しＩＣがって、凹凸の
高さを一定にし、バラツキを小さくすることができる罠
め、高品質の原盤を製造することができる。
図面は、本発明に従い原盤を製造する工程を順を追って
示して断面図である一第１図には、有機物質層及び金属
層の形成段階が； 第２図には、金属層の孔あけ段階が； 、第３因には、令°機物質層のエツチング段階が：（１
１） そして、第４図に袖、金属層の除去段階が；それぞれ略
示的に示されている。 図中（／、３１は基板、２ｉＩＮ機物質層、３は金属層
、そしてａ及びｂＶｉ情報ビット対応部である。 特許出願人 富士通株式会社 特許出願代理人 弁理士 育 木 朗 弁理士 西 舘 和 之 弁理士 内 １）室 男 弁理士 山 口 昭 之 （１２） 区 区 裔 畦 区 区 （’Ｎ”） ４眼
坏
示して断面図である一第１図には、有機物質層及び金属
層の形成段階が； 第２図には、金属層の孔あけ段階が； 、第３因には、令°機物質層のエツチング段階が：（１
１） そして、第４図に袖、金属層の除去段階が；それぞれ略
示的に示されている。 図中（／、３１は基板、２ｉＩＮ機物質層、３は金属層
、そしてａ及びｂＶｉ情報ビット対応部である。 特許出願人 富士通株式会社 特許出願代理人 弁理士 育 木 朗 弁理士 西 舘 和 之 弁理士 内 １）室 男 弁理士 山 口 昭 之 （１２） 区 区 裔 畦 区 区 （’Ｎ”） ４眼
坏
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、情報媒体複製用原盤を製造するための方法であって
、下記の工程： 基板上に有機物質層を形成し、この層の上方にさらに金
属層を形成すること。 前記金属１−の一部２集束しｌｃ元ビームＩこ工９選択
的に阪去して情報ビットに対応する孔を形成すること２ 繭記孔を通して露出せる的記有機物質層をプラズマエツ
チングにエフ除去すりこと、そして残留せる＠記釡属１
−を除去して基板と情報ビットに対応する凹部を庸する
有機物質層とからなる情報媒体複製用原盤？形成するこ
と、 を含んでなることを特徴とする情報媒体複製用原盤の製
造方法。 ２、前記有機物質層と前記金属層との中間に安定化層２
升任させ・５、特許請求の範囲第１項番Ｃ記載の製造方
法。 ３、前記安定化層がカーボン薄膜である。特許請求の範
囲第２項に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10614782A JPS58224450A (ja) | 1982-06-22 | 1982-06-22 | 情報媒体複製用原盤の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10614782A JPS58224450A (ja) | 1982-06-22 | 1982-06-22 | 情報媒体複製用原盤の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58224450A true JPS58224450A (ja) | 1983-12-26 |
Family
ID=14426233
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10614782A Pending JPS58224450A (ja) | 1982-06-22 | 1982-06-22 | 情報媒体複製用原盤の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58224450A (ja) |
-
1982
- 1982-06-22 JP JP10614782A patent/JPS58224450A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4723903A (en) | Stamper for replicating high-density data recording disks | |
| US20050167867A1 (en) | Method and apparatus for making a stamper for patterning CDs and DVDs | |
| JPS6126952A (ja) | 情報記録担体の製造法 | |
| EP0478714A1 (en) | Master for optical element replication | |
| JPH1097738A (ja) | 光情報記録媒体の製造方法および製造装置 | |
| JPH09106584A (ja) | 光ディスク用記録原盤の製造方法 | |
| JP2008512808A (ja) | 高密度凹凸構造のレプリケーション | |
| US20060290018A1 (en) | Process for produicng stamper for direct mastering, and stamper produced by such process and optical disc | |
| JPS58224450A (ja) | 情報媒体複製用原盤の製造方法 | |
| JPH10241213A (ja) | 光ディスク用スタンパーの製造方法 | |
| JPH11120626A (ja) | 光ディスク作製用マスタディスクの製造方法 | |
| JP3227742B2 (ja) | スタンパの製造方法及び光記録媒体の製造方法 | |
| JP3136759B2 (ja) | スタンパ、その製造方法、及び光記録媒体 | |
| JPH10241214A (ja) | 光ディスク用スタンパーの製造方法 | |
| JPH10312585A (ja) | 光学記録媒体作製用スタンパ、スタンパ用原盤、および光学記録媒体の製造方法 | |
| JP2002015474A (ja) | 光ディスク原盤及び光ディスク基板の作製方法 | |
| JP2000348393A (ja) | 光ディスク用スタンパ及びその製造方法 | |
| JPS5940342A (ja) | 情報記録媒体の製造方法 | |
| JP3235620B2 (ja) | スタンパの製造方法 | |
| JPH07320307A (ja) | 光記録媒体 | |
| JPH01235044A (ja) | 光ディスク基板およびその製造方法 | |
| JPH09274744A (ja) | 金属原盤製造方法 | |
| JPH0660440A (ja) | 光ディスク用スタンパの製造方法 | |
| JPH06302015A (ja) | 光ディスク原盤製造装置 | |
| JPH0250330A (ja) | 光ディスク用スタンパの製造方法 |