JPS58196971A - サンドブラスト用マスクの製造方法 - Google Patents
サンドブラスト用マスクの製造方法Info
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- JPS58196971A JPS58196971A JP57079184A JP7918482A JPS58196971A JP S58196971 A JPS58196971 A JP S58196971A JP 57079184 A JP57079184 A JP 57079184A JP 7918482 A JP7918482 A JP 7918482A JP S58196971 A JPS58196971 A JP S58196971A
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- Japan
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- mask
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
-
- G—PHYSICS
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- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
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- H—ELECTRICITY
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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- H05K3/0073—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ガラス、ろ材、陶ｉｉａ器、木材１合成＊＊
、金属、ＢＬ革等の表向にサンドブラストにより彫刻等
を施Ｔ際に、非彫刻向を保−するために用いるマスクを
液状感光性樹ｊｉ１を用いて製造するｈ法に関−５るも
のである。
、金属、ＢＬ革等の表向にサンドブラストにより彫刻等
を施Ｔ際に、非彫刻向を保−するために用いるマスクを
液状感光性樹ｊｉ１を用いて製造するｈ法に関−５るも
のである。
す／ドプラスト用マスクを液状感光性樹ｊＩＮ１に用（
・−〇装造−号るには、説明−健担体上に、ポリエスデ
Ａ、ホリフ゛ロビレン勢の合成ｍ謝フィルムよりなる保
−フィルムを設け、その上に、＠状感光性４１ｋｌＩＩ
とポリエステル勢り合成ｍ＆フィルムによりなる支持体
をラミネートしたのち、透明−像担体な通して１１ｋｌ
像１ｍ九を朽い、ついで、保繰フィルムな剥離除去して
末無光部を洗い出したのち乾燥するｈ法により竹われる
。
・−〇装造−号るには、説明−健担体上に、ポリエスデ
Ａ、ホリフ゛ロビレン勢の合成ｍ謝フィルムよりなる保
−フィルムを設け、その上に、＠状感光性４１ｋｌＩＩ
とポリエステル勢り合成ｍ＆フィルムによりなる支持体
をラミネートしたのち、透明−像担体な通して１１ｋｌ
像１ｍ九を朽い、ついで、保繰フィルムな剥離除去して
末無光部を洗い出したのち乾燥するｈ法により竹われる
。
こσ）ようにして製造されたサンドブラスト用マスクは
、ガラス、石材等の被ブラスト体に貼りつけて使用する
が、貼りつけの際、接着剤を使用しなく又も艮いように
、マスク表向に粘着性を有し一〇いることが要求され、
液状感光性＃Ｒ脂としても、蛯化状１で表向の粘着性が
大きなものが使用される。
、ガラス、石材等の被ブラスト体に貼りつけて使用する
が、貼りつけの際、接着剤を使用しなく又も艮いように
、マスク表向に粘着性を有し一〇いることが要求され、
液状感光性＃Ｒ脂としても、蛯化状１で表向の粘着性が
大きなものが使用される。
従って、幽＊１ｉｊｔ、彼現像に先立って保瞼フィルム
を剥離除去する際には、硬化した感光性Ｉｌ！重層の粘
着性により、保護フィルムかマスク面に貼りつけられた
状態になっていて株−フィルムのａｌｌ抵抗が太きく、
そのために作業性が悪く、保腰フィルム剥離時に、硬化
した樹脂層か切断されたり。
を剥離除去する際には、硬化した感光性Ｉｌ！重層の粘
着性により、保護フィルムかマスク面に貼りつけられた
状態になっていて株−フィルムのａｌｌ抵抗が太きく、
そのために作業性が悪く、保腰フィルム剥離時に、硬化
した樹脂層か切断されたり。
支持体を剥離したり獲ることが起こり不良品の原因とな
っていた。、％に実開昭５５−８９５５５号公報に記載
されているようなサンドブラスト用保Ｓａを作製すると
ぎりように剥離口」能プよ中間層を設けた支持体を川（
・てのマスクＩＭ造では、保−フィルム剥離時のレリー
フ脱落か非常に）、さな問題であった。
っていた。、％に実開昭５５−８９５５５号公報に記載
されているようなサンドブラスト用保Ｓａを作製すると
ぎりように剥離口」能プよ中間層を設けた支持体を川（
・てのマスクＩＭ造では、保−フィルム剥離時のレリー
フ脱落か非常に）、さな問題であった。
本発明者らは、この問題な暦法−４るために種々検討し
、保護フィルムとして、名成桐脂フィルム上に、該フィ
ルムと剥離しゃ一弓（、かつ未露光部の洗い出し液に溶
解１−る＃を膜を形成したものを用いることにより良好
な結米夛得ることがでさることを見出し、本発明を完成
した。
、保護フィルムとして、名成桐脂フィルム上に、該フィ
ルムと剥離しゃ一弓（、かつ未露光部の洗い出し液に溶
解１−る＃を膜を形成したものを用いることにより良好
な結米夛得ることがでさることを見出し、本発明を完成
した。
即ち、本発明は、透＃ＪＡｉｊＩ像担体上に保−フィル
ム７ＩＪｔ設け、その上に赦状感光性鞠脂と支持体をラ
ミネートしたのち、透明−像担体を通じて幽儂銀光を竹
い、つ（・で、禾嶌′″５を躯を洗い出１ことによって
サンドブラスト用マスクを製造獲る方法において１株−
フィルムとして合ＩＩｔ＊ｍフィルム上に該〕ｊ ／Ｌ
ムと剥離し易く、かつ未露光部の洗い出し液ｅ（−口」
沿な被膜を形成したものを用いるサンドブラスト用マス
クの製造方法である。
ム７ＩＪｔ設け、その上に赦状感光性鞠脂と支持体をラ
ミネートしたのち、透明−像担体を通じて幽儂銀光を竹
い、つ（・で、禾嶌′″５を躯を洗い出１ことによって
サンドブラスト用マスクを製造獲る方法において１株−
フィルムとして合ＩＩｔ＊ｍフィルム上に該〕ｊ ／Ｌ
ムと剥離し易く、かつ未露光部の洗い出し液ｅ（−口」
沿な被膜を形成したものを用いるサンドブラスト用マス
クの製造方法である。
本発明に用いられる合成樹脂フィルムとしてはポリゾロ
ピレンフィルム、ポリエステルフィルム。
ピレンフィルム、ポリエステルフィルム。
ポリエナレンノイルム、ポリスチレンフィルム。
ポリ塩化ビニルフィルム、ポリアミドフィルム。
酢酸セルー−ス糸フィルム、ポリカーボネートフィルム
等の透明で厚み５〜５０μのものが用いられる３、こオ
（より厚いと、合成樹脂フィルム内での光の＊ＬＷｃよ
り一像の貴現性か低下しこれより薄（・と取ＭＬ・性が
患（なる。好ましくは９〜２５μである。
等の透明で厚み５〜５０μのものが用いられる３、こオ
（より厚いと、合成樹脂フィルム内での光の＊ＬＷｃよ
り一像の貴現性か低下しこれより薄（・と取ＭＬ・性が
患（なる。好ましくは９〜２５μである。
また、フィルムの＃本造過性がｌ」・さいと、できるサ
ンドツブラスト用マスクの表向粘着性を減少させる傾向
を示すので、酸素透過量が３０Ｘ１６＠Ｖ２４ ｈ ｒ
／ｌ？／−厚／ｃｓｄ（ｇ（２１Ｃ）以上のものである
ものが好ましい。この点からはボリアＣＪピレンフィル
ム。
ンドツブラスト用マスクの表向粘着性を減少させる傾向
を示すので、酸素透過量が３０Ｘ１６＠Ｖ２４ ｈ ｒ
／ｌ？／−厚／ｃｓｄ（ｇ（２１Ｃ）以上のものである
ものが好ましい。この点からはボリアＣＪピレンフィル
ム。
セルロースエステル系フィルム、ポリカーボネートフィ
ルム、ポリエチレンフィルム、ポリスチレンフィルム勢
が適している。さらに、取扱い性を考慮スるとポリプロ
ピレンフィルムが最も適している。
ルム、ポリエチレンフィルム、ポリスチレンフィルム勢
が適している。さらに、取扱い性を考慮スるとポリプロ
ピレンフィルムが最も適している。
合成樹脂フィルム上に設ける被膜としては、硬化した樹
脂表面に転写させるため、合成樹脂フィルムから剥１ｌ
Ｉｉｉ”Ｊ能であり、又、硬化したｗｍｍ画面転写され
たのち、洗い出し工程で除去するために、洗い出し液に
可溶であるものが用いられる。
脂表面に転写させるため、合成樹脂フィルムから剥１ｌ
Ｉｉｉ”Ｊ能であり、又、硬化したｗｍｍ画面転写され
たのち、洗い出し工程で除去するために、洗い出し液に
可溶であるものが用いられる。
洗い出し液の種類によって使用でさるＩ質は異るが、一
般に液状感光性１ｇ側の場合は、ボ又はアルカリ性水、
あるいは界面活性剤水浴液のような水系の洗い出し液が
用いられるの−Ｃ５こｊＬらに可溶な、ヒドロキシル基
含有セルロースエーテル又ハエステル、カルボキシル基
含有セルロースエーテル又はエステル等のセルロースＵ
尋体部分りン化ポリ酢酸ビニル尋が使用ρ」能である。
般に液状感光性１ｇ側の場合は、ボ又はアルカリ性水、
あるいは界面活性剤水浴液のような水系の洗い出し液が
用いられるの−Ｃ５こｊＬらに可溶な、ヒドロキシル基
含有セルロースエーテル又ハエステル、カルボキシル基
含有セルロースエーテル又はエステル等のセルロースＵ
尋体部分りン化ポリ酢酸ビニル尋が使用ρ」能である。
ヒドロキシ基含有セルロース鋳導体としては、ヒドロキ
シエチルセルロース、ヒドロキシグロビルセルロース、
セルロースヒドロキシ酢練エステル等を例としてあげる
ことができる。、カルボキシル基含有セルロースエーテ
ルとしては、カルホキ／メチルセルロース、カルボキシ
エチルセルロース勇、を、また、カルボキ／ル基含有セ
ルロースニスアルドしては、セルロースと、ジ又はトリ
カルボ／＃等のポリカルボン酸すなわちコノ・り酸、ア
ジピン酸、セパ７ノ酸、フタル酸、イソフタル酸。
シエチルセルロース、ヒドロキシグロビルセルロース、
セルロースヒドロキシ酢練エステル等を例としてあげる
ことができる。、カルボキシル基含有セルロースエーテ
ルとしては、カルホキ／メチルセルロース、カルボキシ
エチルセルロース勇、を、また、カルボキ／ル基含有セ
ルロースニスアルドしては、セルロースと、ジ又はトリ
カルボ／＃等のポリカルボン酸すなわちコノ・り酸、ア
ジピン酸、セパ７ノ酸、フタル酸、イソフタル酸。
テレフタル酸、トリメリント酸等との、あるいはこ１１
らσン一部を酢酸、プロピオン酸、酪酸、安息４１２％
σノ七ノカルボノ酸でおぎかえたものト（１） Ｘステ
ル・５化反応生成物を例とし−Ｃあげることができる。
らσン一部を酢酸、プロピオン酸、酪酸、安息４１２％
σノ七ノカルボノ酸でおぎかえたものト（１） Ｘステ
ル・５化反応生成物を例とし−Ｃあげることができる。
上記以外のものでも抗い出し液に可溶で被展性を有する
ものであ７ｔは使用μ」能である。
ものであ７ｔは使用μ」能である。
また、被膜材のｌ１１本透過性が小さいと露光過程で表
向の硬化が良く遮み、できあがるす／ドブラスト用マス
クの粘着性が低下するので好ましくない。この点からは
酸素透過性の尚いセルロース誘導体が好ましい。
向の硬化が良く遮み、できあがるす／ドブラスト用マス
クの粘着性が低下するので好ましくない。この点からは
酸素透過性の尚いセルロース誘導体が好ましい。
ヒドロキシル基含有セルロース誘導体や部分ケン化ポリ
酢酸ビニルの場合貯蔵中に吸湿によって変質することが
あるので保管条件に注意を要する。
酢酸ビニルの場合貯蔵中に吸湿によって変質することが
あるので保管条件に注意を要する。
この点からは吸湿性が小さく、輌アルカリ水溶液や鮮血
活性剤水溶液に口」溶なカルボキシル基含有セルロース
［１４体１％にセルロースアセテートフタレート等のセ
ルロースとポリカルボン酸およびモノカルボン酸とのエ
ステルが好ましい。
活性剤水溶液に口」溶なカルボキシル基含有セルロース
［１４体１％にセルロースアセテートフタレート等のセ
ルロースとポリカルボン酸およびモノカルボン酸とのエ
ステルが好ましい。
被膜の厚さは０．１−１０μの間で使用される。
これより厚いと画像の再境性が低トし、これより薄いと
製造上厚みコントロールがむずかしく、又ピンホール等
が発生し一？１くなる５好止しくは、０．２〜５μであ
る。
製造上厚みコントロールがむずかしく、又ピンホール等
が発生し一？１くなる５好止しくは、０．２〜５μであ
る。
合成樹脂フィルムＫかかる扱展を設けるには。
被膜剤を適当な湿剤ケ用いて′＃欲にして＄バーコータ
ー、スピンコーター、グラビアコーター等ヲ利用してコ
ーティングする方法がとられる。
ー、スピンコーター、グラビアコーター等ヲ利用してコ
ーティングする方法がとられる。
本発明に使用される感光性ｌ１ＩＫｉＩは使用する状態
で液状のものである。本発明の方法によれば硬化状態で
表向粘＊ａの大きいレジンを用いてのサンドブラスト川
マスクリ製造工程においても容易に保―フィルムを剥離
することができ、不良品を生じることなく、表向粘着性
の太さいサンドブラスト用マスクを製造することかでさ
る。
で液状のものである。本発明の方法によれば硬化状態で
表向粘＊ａの大きいレジンを用いてのサンドブラスト川
マスクリ製造工程においても容易に保―フィルムを剥離
することができ、不良品を生じることなく、表向粘着性
の太さいサンドブラスト用マスクを製造することかでさ
る。
以ｌ、本発明を実施例により奸しく説明する。
＊側倒１
ヒドロキシノロヒルセルロースをエチルアルコールＷｔ
彪ｐ＃さセ、厚さ２２μリボリプロピレンフイルム上
にバーコーターを用いて１０μの厚さにコーティングし
て保嫂フィルムを得た。
彪ｐ＃さセ、厚さ２２μリボリプロピレンフイルム上
にバーコーターを用いて１０μの厚さにコーティングし
て保嫂フィルムを得た。
得られた保−ノイルム上に厚さ０３■の液状感光性ＩＩ
Ｍｋ（旭化成工業製ＡＳＡ２００）をｌＯ声厚エチＡ−
にルロースｍ ’ｋ 有ｆ°る７５μポリエステルフイ
ルムからなる支持体とともにラミネートし、３０ｃｘｆ
ｌｋれた位−から２ＫＷ超篩圧水銀灯にて３５秒間島光
計、ついで保−フィルムな剥Ｗｌ除去した。
Ｍｋ（旭化成工業製ＡＳＡ２００）をｌＯ声厚エチＡ−
にルロースｍ ’ｋ 有ｆ°る７５μポリエステルフイ
ルムからなる支持体とともにラミネートし、３０ｃｘｆ
ｌｋれた位−から２ＫＷ超篩圧水銀灯にて３５秒間島光
計、ついで保−フィルムな剥Ｗｌ除去した。
保線フ１ルムの剥離除去の際、−２６０μの鹸化樹脂層
に何らの損傷な与えることなく剥離できた。
に何らの損傷な与えることなく剥離できた。
ついで２％界面活性剤（ライオン製うイボン句水浴液に
て、未嫁化掬自と被捩り仇い田しを３分間行ったのち、
乾燥してサンドブラスト用マスクを得た。
て、未嫁化掬自と被捩り仇い田しを３分間行ったのち、
乾燥してサンドブラスト用マスクを得た。
得られたサンドブラスト用マスクを厚さ１ｏ■のガラス
に貼りつけサイホン式サンドプラスターにて研磨材とし
てアランタム１８０＃を、仝気圧カ３５更’ｃｄＧにて
３０秒間研磨した時、マスクがガラスより剥１１ｉｉ−
ｆることはなく十分な接着力を有していた。
に貼りつけサイホン式サンドプラスターにて研磨材とし
てアランタム１８０＃を、仝気圧カ３５更’ｃｄＧにて
３０秒間研磨した時、マスクがガラスより剥１１ｉｉ−
ｆることはなく十分な接着力を有していた。
比較として、被膜なじ保−フィルムを用いてＩＷＪ様に
サンドブラスト用マスク？製造し、た時、保―フィルム
剥離除去の除−２６０μυ）鹸化側＆層は、支持体より
＠離脱路した。
サンドブラスト用マスク？製造し、た時、保―フィルム
剥離除去の除−２６０μυ）鹸化側＆層は、支持体より
＠離脱路した。
実施例２
ヒドロキシプロビルセルロース。セルロースアセテート
、セルロースアセデートブナし一トを各々溶液とし、実
施例１と同様に厚さ２２μσノボリフロピレンフイルム
上にコーチ１ング（て保鰻フィルムとした。。
、セルロースアセデートブナし一トを各々溶液とし、実
施例１と同様に厚さ２２μσノボリフロピレンフイルム
上にコーチ１ング（て保鰻フィルムとした。。
得らオ（た保饅ノイルムを用いて実施例１と同様にサン
ドブラスト用マスクを製造した。
ドブラスト用マスクを製造した。
この製造−１橙中におＶＴる株−フィルムのｉ［注ふ）
よび！１！！造し、たマスクをガラスに貼りつけ実施例
１と同様に一リントプラスタによりプラストした時り耐
ブラスト性は表−ムの如くであった。
よび！１！！造し、たマスクをガラスに貼りつけ実施例
１と同様に一リントプラスタによりプラストした時り耐
ブラスト性は表−ムの如くであった。
表 −１
に
Ｎ
１゜
■
実施例３
種々の合成樹脂フィルムを用いる他は実施例１と同様に
して柚々の保−フィルムを得た。
して柚々の保−フィルムを得た。
得られた保躾フィルムを用いて夾ｍ例１と一禄にして、
サンドブラスト用マスクｔｔａ造した。
サンドブラスト用マスクｔｔａ造した。
製造中における保線フィルムリ剥＃１社および擬造した
マスクをガラスに貼りつけ、実施例１と同様にしてサン
ドブラストした時の耐プラスト性は表−２の如くであっ
た。
マスクをガラスに貼りつけ、実施例１と同様にしてサン
ドブラストした時の耐プラスト性は表−２の如くであっ
た。
表−２
特許出龜人 旭化成工業株式会社
手続補正書（自発）
昭和５７年６月ｌ１日
特−斤長官島田春樹殿
１、 Ｉｆ’ｌの表示 昭和５７年特許願第 ７
９１８４ 号２ 発明の名称 サンドブラスト用マスクの製造方法 ａ 抽Ｉトベすると 事件との関係 特許出願人 大阪府大阪市北区堂島兵１丁目２番６号（ｏｏａ）
旭化成工業株式会社 、□４ 補正のズ・ｊ象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 ｉ 補正の内容 （１） 出願明細書第９頁第８行の「アランタム１８
０＃」ヲ、「アランダム１８０＃：Ｊに訂正する。
９１８４ 号２ 発明の名称 サンドブラスト用マスクの製造方法 ａ 抽Ｉトベすると 事件との関係 特許出願人 大阪府大阪市北区堂島兵１丁目２番６号（ｏｏａ）
旭化成工業株式会社 、□４ 補正のズ・ｊ象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 ｉ 補正の内容 （１） 出願明細書第９頁第８行の「アランタム１８
０＃」ヲ、「アランダム１８０＃：Ｊに訂正する。
（２）同第９頁第１８行の［セルロースアセテート７’
＋”−Ｎを、ｒセルロースアセテートブチレート」に訂
正する。
＋”−Ｎを、ｒセルロースアセテートブチレート」に訂
正する。
以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 透明画像担体上に保線フィルムを設け、その上に
液状感光性樹脂と支持体をラミネートしたのち、透明ｉ
ｊＩ像担体を通してｌＩｉＩＩｇ１篇元を行い、ついで
未皇光部を洗い出１ことによってサンドブラスト用マス
クを製造イる方法において、保繰フィルムとして合成１
１脂フイルム上に、鋏フィルムと剥離しＪＰす＜、；Ｏ
一つ木嬉九邸の洗い出し液に一０３ｉｌ！な被膜を形成
したものを用いることを特徴とするサンドブラスト用マ
スクσノ製造方法 ２− 合ａ’！Ｍｌｌｊｉフィルム上にカルボキシル
基含有セルロースエステルの被Ｊｉｌｌ ヲｔｌｋ ｖ
ｒ タ＆ Ｍフィルムを用いることを％黴と１°る％奸
錆求Ｑり範囲第１項記載のサンドブラスト用マスクの製
造方法
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57079184A JPS58196971A (ja) | 1982-05-13 | 1982-05-13 | サンドブラスト用マスクの製造方法 |
| US06/493,909 US4456680A (en) | 1982-05-13 | 1983-05-12 | Process for preparing a mask for sandblasting |
| JP21347283A JPS60104938A (ja) | 1982-05-13 | 1983-11-14 | 固体表面加工用マスク転写材 |
| US06/601,825 US4587186A (en) | 1982-05-13 | 1984-04-19 | Mask element for selective sandblasting and a method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57079184A JPS58196971A (ja) | 1982-05-13 | 1982-05-13 | サンドブラスト用マスクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58196971A true JPS58196971A (ja) | 1983-11-16 |
| JPH0260468B2 JPH0260468B2 (ja) | 1990-12-17 |
Family
ID=13682886
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57079184A Granted JPS58196971A (ja) | 1982-05-13 | 1982-05-13 | サンドブラスト用マスクの製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4456680A (ja) |
| JP (1) | JPS58196971A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0269754A (ja) * | 1988-09-06 | 1990-03-08 | Aisero Kagaku Kk | 彫食刻マスク用感光性積層フイルム |
| WO1992007303A1 (en) * | 1990-10-22 | 1992-04-30 | Aicello Chemical Co., Ltd. | Method of engraving with image mask and photosensitive laminate film for said image mask |
| US5347766A (en) * | 1991-07-18 | 1994-09-20 | Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. | Method for polishing surface of transparent substrate layer of color filter unit |
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