JPS58184117A - 複数ビ−ム走査装置 - Google Patents
複数ビ−ム走査装置Info
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- JPS58184117A JPS58184117A JP57067650A JP6765082A JPS58184117A JP S58184117 A JPS58184117 A JP S58184117A JP 57067650 A JP57067650 A JP 57067650A JP 6765082 A JP6765082 A JP 6765082A JP S58184117 A JPS58184117 A JP S58184117A
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- Japan
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- lens
- deflection
- light
- light source
- optical system
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/12—Scanning systems using multifaceted mirrors
- G02B26/123—Multibeam scanners, e.g. using multiple light sources or beam splitters
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は半一導体レニザーアレーの如龜、アレー状光源
を光゛源部に用いた走査装置に関するもVである0
゛ 従来□、半導体レーザー6党出力t!6を複数個並べ友
所謂半導体し−ザーアV−を使用して、−ゴンミラー、
ガルバ′)″ミラー等の偏向器の偏向反射向上で、各々
の光源部から射出されるビームが拡が9すぎると、#A
向反射面の面積が太きくなり、従って走査手段が大きく
なり、且つ走査スピードを上げられないという電点があ
る。
を光゛源部に用いた走査装置に関するもVである0
゛ 従来□、半導体レーザー6党出力t!6を複数個並べ友
所謂半導体し−ザーアV−を使用して、−ゴンミラー、
ガルバ′)″ミラー等の偏向器の偏向反射向上で、各々
の光源部から射出されるビームが拡が9すぎると、#A
向反射面の面積が太きくなり、従って走査手段が大きく
なり、且つ走査スピードを上げられないという電点があ
る。
こり電点を解消する為に1%開昭56−69610号公
報に於いては、各光源からの光束tコリメートするコリ
メートレンズ管設け、このコリメートレンズの射出瞳の
位置を偏向反射面上においている。この走査装置に於い
て、光S部と漏向器の間に更なる光学部材、例えば偏向
器の回転軸等の倒れを補正する為のアナモフィック光学
部材を配するには、光源部と偏向器との間隔は、光源部
と偏向器の間の距離を長くしようとすると必然的にコリ
メーターレンズの焦点距離を長くする必要があり、そう
するとコリメーターレンズのFす/ノ゛−を暗くするか
、偏向器で・ :′: あるポリゴンミラーの外径管大きくする必要がある。前
者の場合、すなわち、コリメーターレンズOFナンバー
を暗くするとポリゴンミラーの外径は小さくできるが、
光源部から発散する光束に対してコリメート光束の比率
が低下し。
報に於いては、各光源からの光束tコリメートするコリ
メートレンズ管設け、このコリメートレンズの射出瞳の
位置を偏向反射面上においている。この走査装置に於い
て、光S部と漏向器の間に更なる光学部材、例えば偏向
器の回転軸等の倒れを補正する為のアナモフィック光学
部材を配するには、光源部と偏向器との間隔は、光源部
と偏向器の間の距離を長くしようとすると必然的にコリ
メーターレンズの焦点距離を長くする必要があり、そう
するとコリメーターレンズのFす/ノ゛−を暗くするか
、偏向器で・ :′: あるポリゴンミラーの外径管大きくする必要がある。前
者の場合、すなわち、コリメーターレンズOFナンバー
を暗くするとポリゴンミラーの外径は小さくできるが、
光源部から発散する光束に対してコリメート光束の比率
が低下し。
エネルギー利用効率が低下してしまう0後者の場合、す
なわち、ポリゴンの外径を大きくすれば、上記のエネル
ギー利用効率は問題ないが。
なわち、ポリゴンの外径を大きくすれば、上記のエネル
ギー利用効率は問題ないが。
ポリゴンの回転速fを速めることが困−となるにけでな
く、低コスト化が困難となる。
く、低コスト化が困難となる。
本発明の目的は、上述した欠点を改良し、エネルギーの
利用効率が曳く、偏向装置も小型でム連の走査が可能な
複数ビーム走査装置を提供することにある。
利用効率が曳く、偏向装置も小型でム連の走査が可能な
複数ビーム走査装置を提供することにある。
本発明に係る走査装置に於いては、供給される各々O光
束の主光線が平行となる様な複数ビーム供給光源部と、
その光軸が藺紀光源部の各光束の主光線と平行になる様
に設けられた第1結欅光学系と、該第1結儂光学系と偏
向手段との間には前記第1−、侭光学系と共軸−t6A
f@2結像光学系を配する0第1結像光学系は光源部か
らの各々の光束管収束させ、光源部の儂を形成する位置
に設けられており、一方、第2結儂尤学系は少なくとも
偏向走査面と平行な面内に於いては、前記第1@儂光学
系の偏向手段@O焦点位置と、偏向手段Q−N反射向V
近憎位置とt光学的に共役な1係に保つものでするPI
3、本明細書″rFは上記偏向走査面とは、−向反射向
の法−が偏向器のり動に従って、経時的に形成するIf
i′に意味する。
束の主光線が平行となる様な複数ビーム供給光源部と、
その光軸が藺紀光源部の各光束の主光線と平行になる様
に設けられた第1結欅光学系と、該第1結儂光学系と偏
向手段との間には前記第1−、侭光学系と共軸−t6A
f@2結像光学系を配する0第1結像光学系は光源部か
らの各々の光束管収束させ、光源部の儂を形成する位置
に設けられており、一方、第2結儂尤学系は少なくとも
偏向走査面と平行な面内に於いては、前記第1@儂光学
系の偏向手段@O焦点位置と、偏向手段Q−N反射向V
近憎位置とt光学的に共役な1係に保つものでするPI
3、本明細書″rFは上記偏向走査面とは、−向反射向
の法−が偏向器のり動に従って、経時的に形成するIf
i′に意味する。
向、上、−1第2緒書元学糸は少なくとも偏向走査面と
平行な面内に於いてはと、いう意味は、第2結像光学系
は球面光学系であって、光源から偏向手段に至る光軸を
含み偏向走査面と直交する山内(以IF、亨に偏向走査
面と直交する面とどう)に於いても、前記−向反射1f
Iio近傍位置光学的に共在な関係に保ってもへいし、
−或いは直交する方向マはパワー、の異なるアナモフィ
ックな光学系でろって1−向走査自と直交する山内に於
いては、上述した関Sを満たさなくても喪いと言う事で
ある。
平行な面内に於いてはと、いう意味は、第2結像光学系
は球面光学系であって、光源から偏向手段に至る光軸を
含み偏向走査面と直交する山内(以IF、亨に偏向走査
面と直交する面とどう)に於いても、前記−向反射1f
Iio近傍位置光学的に共在な関係に保ってもへいし、
−或いは直交する方向マはパワー、の異なるアナモフィ
ックな光学系でろって1−向走査自と直交する山内に於
いては、上述した関Sを満たさなくても喪いと言う事で
ある。
本発明に係る走査、装置に於いては1.偏向、手段の偏
向反射面の倒れを補正する為に、uA向反射圓上に縁I
JIIを投影する場合は、前記第2結儂光学系はアナモ
フィックな光学系でめる必要がある。この場合、偏向走
f面と直交する面内′に於いては、第1WI4&光学系
からの光束を偏向反射面上に収束出来る様なパワーを第
2結像光学系が′iて′ば良い。このアナモフィックな
第2結謙元学”糸の構成としては1球面光学系とシリ/
トリカル光学系の組み゛合わせ、或いはトーリックレン
ズが一枚で構成出来る。
向反射面の倒れを補正する為に、uA向反射圓上に縁I
JIIを投影する場合は、前記第2結儂光学系はアナモ
フィックな光学系でめる必要がある。この場合、偏向走
f面と直交する面内′に於いては、第1WI4&光学系
からの光束を偏向反射面上に収束出来る様なパワーを第
2結像光学系が′iて′ば良い。このアナモフィックな
第2結謙元学”糸の構成としては1球面光学系とシリ/
トリカル光学系の組み゛合わせ、或いはトーリックレン
ズが一枚で構成出来る。
前記偏向走査面と平行な面内に於いては、第1鮎像光学
系に□よる前記アレー状光源から゛の光束の結像位置と
、第2結儂光学系の焦点位置とt合!にさせておけば、
偏向器の偏向反射面に入射するピ゛−ムは平行光束とな
る;又、第2結像元−学系□の焦点位置が、前記@1結
儂光学系によるアレー状光源からの光束の結像位置より
光源−に存する場合は、第2結像光学系の□作用はフィ
ールドレンズとしての役割か゛増し、偏向器の偏向反射
面に入射するビームは発散光束となる。
系に□よる前記アレー状光源から゛の光束の結像位置と
、第2結儂光学系の焦点位置とt合!にさせておけば、
偏向器の偏向反射面に入射するピ゛−ムは平行光束とな
る;又、第2結像元−学系□の焦点位置が、前記@1結
儂光学系によるアレー状光源からの光束の結像位置より
光源−に存する場合は、第2結像光学系の□作用はフィ
ールドレンズとしての役割か゛増し、偏向器の偏向反射
面に入射するビームは発散光束となる。
鎚って、偏向1#O゛偏向反射面に入射するビームの形
状ri、前者on合が線状の平行光束、後者O場合が線
状の発散光束となる。以下、図面を用い−C本発明を詳
述するが、以下に用いる実施例では偏向器の@れな補正
する為K112細儂光学系として球面レンズとシリンド
リカルレンズより構成されるものを示すが1本発明に係
る構成の必mS材としては、球面レンズのみで良いので
あってシリンドリカルレンズは省いても良い0 第1図(AXB)は本発明に係る走査装置の一実施例を
示す図で、(A)は走査装置全体の平面図を。
状ri、前者on合が線状の平行光束、後者O場合が線
状の発散光束となる。以下、図面を用い−C本発明を詳
述するが、以下に用いる実施例では偏向器の@れな補正
する為K112細儂光学系として球面レンズとシリンド
リカルレンズより構成されるものを示すが1本発明に係
る構成の必mS材としては、球面レンズのみで良いので
あってシリンドリカルレンズは省いても良い0 第1図(AXB)は本発明に係る走査装置の一実施例を
示す図で、(A)は走査装置全体の平面図を。
β)は光源部から偏向器の間の光学系の正面図を示すも
のである。第11四(6)に於いて、1は複数i!io
発光部1a、lbf:有する半導体レーザーアレー、2
は前記半導体レーザーからの光束の主光線とその元軸4
が平行に、1な9る様に設けら′1 れた球面の第1結像レンズ、3は□球面レンズ3aとそ
の母線が偏向走査面と平行で、且つ光軸4と直交する様
に設けられたシリンドリカルレンズ3bより成る第2結
像レンズ、5Fi偏向手段としてのポリゴンミラー、6
はトーリック率レンズ、7#i被走査画である0 第11四に騎いて、半導体アレーレーザー光線lの発光
部1a、lbより出射され九光束は。
のである。第11四(6)に於いて、1は複数i!io
発光部1a、lbf:有する半導体レーザーアレー、2
は前記半導体レーザーからの光束の主光線とその元軸4
が平行に、1な9る様に設けら′1 れた球面の第1結像レンズ、3は□球面レンズ3aとそ
の母線が偏向走査面と平行で、且つ光軸4と直交する様
に設けられたシリンドリカルレンズ3bより成る第2結
像レンズ、5Fi偏向手段としてのポリゴンミラー、6
はトーリック率レンズ、7#i被走査画である0 第11四に騎いて、半導体アレーレーザー光線lの発光
部1a、lbより出射され九光束は。
第IM*し/ズ2にて集光され第2結儂レンズ3の近傍
Kflilする0ま喪1点線で示す各々の主光1i m
、、 m@は第11il像V7ズ2の焦点Fを通過する
。従って、こOFなる位置で双方の光束の主光線は重な
り合い、空間的に双方の光束か占める拡が9が最も小さ
くなる。菖2結儂レンズ、%に球面レンズ3mの近傍に
集光され九光5!l[は、球面レンズ31のフィールド
レンズトシての作用によりその光路の向きが変えられ、
ポリゴンミラ−50偏向反射画5mに向う。前記第1績
儂レンズの焦点rなる位置と偏向反射面の近傍位置F′
とは1港t#A(5)に示す偏向走査面1! と平行な市内に於いては、纂2緒像レンズ3(実質的に
は球面レンズ系3mであるが)K関して光学的に共役な
関係になっている。従って。
Kflilする0ま喪1点線で示す各々の主光1i m
、、 m@は第11il像V7ズ2の焦点Fを通過する
。従って、こOFなる位置で双方の光束の主光線は重な
り合い、空間的に双方の光束か占める拡が9が最も小さ
くなる。菖2結儂レンズ、%に球面レンズ3mの近傍に
集光され九光5!l[は、球面レンズ31のフィールド
レンズトシての作用によりその光路の向きが変えられ、
ポリゴンミラ−50偏向反射画5mに向う。前記第1績
儂レンズの焦点rなる位置と偏向反射面の近傍位置F′
とは1港t#A(5)に示す偏向走査面1! と平行な市内に於いては、纂2緒像レンズ3(実質的に
は球面レンズ系3mであるが)K関して光学的に共役な
関係になっている。従って。
実質的には、偏向反射面5a上には、@2結1歇し/ズ
3により−〔第1鮎儂Vンズ20鳩点Fでの源が形成さ
れており、−内反射面5a上でのビームの拡がりは小さ
くなり、ポリゴンの偏向反射而も小さく出来、装置O小
型化が計れる上にポリゴンを^速で回転出来る為走査効
率も同上する。第2結像レンズ3會構成する負Oシリン
ドリカルレンズ5は、第1回置に示す嫌な鏡面走f面と
平行な面内ではパワーを有しないので、走査ビームには
影響を与えない。
3により−〔第1鮎儂Vンズ20鳩点Fでの源が形成さ
れており、−内反射面5a上でのビームの拡がりは小さ
くなり、ポリゴンの偏向反射而も小さく出来、装置O小
型化が計れる上にポリゴンを^速で回転出来る為走査効
率も同上する。第2結像レンズ3會構成する負Oシリン
ドリカルレンズ5は、第1回置に示す嫌な鏡面走f面と
平行な面内ではパワーを有しないので、走査ビームには
影響を与えない。
ポリゴンミラー5に入射するビームは発散光束であるの
で、ポリゴンミラー5と被走査面との間に配されるレン
ズ糸6#′i単し/ズであっても、平坦な被走査向を良
好な結儂スポットで走査することが出来る。この理由は
、レンズ糸6のペッツバール和を積極的に生かす為でめ
9゜この詳細な技術に関しては、待關昭54−8754
0号公報に述べられているので仁こでFi説明を省く。
で、ポリゴンミラー5と被走査面との間に配されるレン
ズ糸6#′i単し/ズであっても、平坦な被走査向を良
好な結儂スポットで走査することが出来る。この理由は
、レンズ糸6のペッツバール和を積極的に生かす為でめ
9゜この詳細な技術に関しては、待關昭54−8754
0号公報に述べられているので仁こでFi説明を省く。
又、M像レンズ6は偏向走査面と直交する山内に於いて
は、ポリゴンの偏向反射面5aと被走査向7とを光学的
に共役な位置間係に保つために、この面内に於いてもパ
ワーを持つ必要かめる0し/ズ糸藝は直交する双方の山
内でパワーを持つ必要が69.且つそれぞれのパワーt
i異なる為にトーリックレンズの形状を取る。
は、ポリゴンの偏向反射面5aと被走査向7とを光学的
に共役な位置間係に保つために、この面内に於いてもパ
ワーを持つ必要かめる0し/ズ糸藝は直交する双方の山
内でパワーを持つ必要が69.且つそれぞれのパワーt
i異なる為にトーリックレンズの形状を取る。
又、偏向走査面内に於いて、シ/グルトーリックレンズ
6の歪曲収差を偏向器の回動特性に合わせてやれば、一
定の速度で被走査面を走査する。
6の歪曲収差を偏向器の回動特性に合わせてやれば、一
定の速度で被走査面を走査する。
ことが出来る。従ってS発散状態で元ビームが入射すれ
ば、偏向器と被走査+kDl!IK配されるレンズ系を
一枚のトーリックレンズで形成することにより、平坦な
被走査面を等速で走査し、且つ偏向the)1%4れを
補正することも出来る0w41図@に示す如く、偏向走
査面と垂直な山内に!にいては1発光部、からの光束は
上述した如く第1結像レンズ系2により集光された後、
負の7リンドリカルレ/ズ3bにより発散光束となって
球−レンズ3a41C入射する。前記シリンドリカル凹
レンズ3bは球面レンズ3aに入射する光束があたかも
前記第1WI轍し/ズ系2の焦点位置)゛から発せられ
たかの如<glmmしンズ糸2からの光束を屈折させる
。上述した如く実質的に球面レンズ31によって、第1
結像レンズ系の焦点位置Fとポリゴン2ラー5の偏向反
射thi5 aの近傍位置F′とは光学的に共役な関係
に保たれているので、ポリゴンミラーの偏向反射面5a
上にはS偉が形成される。
ば、偏向器と被走査+kDl!IK配されるレンズ系を
一枚のトーリックレンズで形成することにより、平坦な
被走査面を等速で走査し、且つ偏向the)1%4れを
補正することも出来る0w41図@に示す如く、偏向走
査面と垂直な山内に!にいては1発光部、からの光束は
上述した如く第1結像レンズ系2により集光された後、
負の7リンドリカルレ/ズ3bにより発散光束となって
球−レンズ3a41C入射する。前記シリンドリカル凹
レンズ3bは球面レンズ3aに入射する光束があたかも
前記第1WI轍し/ズ系2の焦点位置)゛から発せられ
たかの如<glmmしンズ糸2からの光束を屈折させる
。上述した如く実質的に球面レンズ31によって、第1
結像レンズ系の焦点位置Fとポリゴン2ラー5の偏向反
射thi5 aの近傍位置F′とは光学的に共役な関係
に保たれているので、ポリゴンミラーの偏向反射面5a
上にはS偉が形成される。
#p、2図(8)の)は本発明に係る走査装置の他O実
lA143を示す図で、第2図囚は偏向走査面と平行な
平面内、第2図03)は偏向走査面と直交する面内に於
ける光路を示している。冑、第2図^但)は光源部と偏
向器と0間の光学系のみを示している。第2装置に於い
て、半導体レー□ザーアレ−1の発光部1a、lbから
の各光束は第1結偉光学系2により1面Q上に結像すゐ
。第2結像光学系3D’llち、実質的には球面レンズ
系3aであるが)の一方の焦点位置は該9面上に合致さ
せてあり、従って、第2結−光学°系3を通過した光束
は平行ビームとなって偏向器の偏向反射面5aに向う。
lA143を示す図で、第2図囚は偏向走査面と平行な
平面内、第2図03)は偏向走査面と直交する面内に於
ける光路を示している。冑、第2図^但)は光源部と偏
向器と0間の光学系のみを示している。第2装置に於い
て、半導体レー□ザーアレ−1の発光部1a、lbから
の各光束は第1結偉光学系2により1面Q上に結像すゐ
。第2結像光学系3D’llち、実質的には球面レンズ
系3aであるが)の一方の焦点位置は該9面上に合致さ
せてあり、従って、第2結−光学°系3を通過した光束
は平行ビームとなって偏向器の偏向反射面5aに向う。
又、第11W′(イ)で示した如く、第2図(5)で示
される光学系も第1結像レンズ糸20焦点の位gFと、
偏向反射向5a(D極く近四の位置F′とは、第2結儂
レンズ系3に関して光学的に共役な位置となる様に設定
されている。
される光学系も第1結像レンズ糸20焦点の位gFと、
偏向反射向5a(D極く近四の位置F′とは、第2結儂
レンズ系3に関して光学的に共役な位置となる様に設定
されている。
故に上述しえ如く、偏向反射#J5a上に於ける光束の
拡がりを小さく出来、小さな偏向器で良い。
拡がりを小さく出来、小さな偏向器で良い。
シリンドリカル凸レンズ3Cは偏向走査面と平行な園内
に於いてはパワーを有しない為、走査用のビームに対し
ては何等屈折作用管及ぼさない。然しなから、第2図(
B)K示す如く偏向走査面と直交する面内に於いては集
光作F@を有し、シリンドリカル凸レンズ3Cを通過し
て球面レンズ31に入射する光束があたかも第1結嶽光
字糸2の焦点Fから発せられたかの如く、光束t−屈折
させる。球面レンズ3ari、第1iiI像レンズ20
焦点位置Ft偏向反射面5aとをほぼ::、・1 光学的に共役な位置関係に保つので、偏向走査lと直交
する面内に於いては、偏向反射面上で光束は集束する。
に於いてはパワーを有しない為、走査用のビームに対し
ては何等屈折作用管及ぼさない。然しなから、第2図(
B)K示す如く偏向走査面と直交する面内に於いては集
光作F@を有し、シリンドリカル凸レンズ3Cを通過し
て球面レンズ31に入射する光束があたかも第1結嶽光
字糸2の焦点Fから発せられたかの如く、光束t−屈折
させる。球面レンズ3ari、第1iiI像レンズ20
焦点位置Ft偏向反射面5aとをほぼ::、・1 光学的に共役な位置関係に保つので、偏向走査lと直交
する面内に於いては、偏向反射面上で光束は集束する。
第2図(A)(6)では示していないが、偏向器と被走
査面との間に配される走査用の結像レンズは。
査面との間に配される走査用の結像レンズは。
偏向走査面内に於いては偏向器で偏向される平行ビーム
を被走−面上に結像させ諷屈折カを。
を被走−面上に結像させ諷屈折カを。
偏向走査面と直交する面内に於いては、−内反射面の近
傍位置F′と被走査面とを光学的1に共役とする屈折力
i有す為ナナミライック結像レンズである。そし−(、
@向走査面内に於けるアナモフィック結像レンズの歪曲
収差を偏向器め回動特性に始らして持たせ゛ることによ
り、被走査面上でビームスポットを等速+走査すること
が出来る。 ゛ 第3図(A)(B)は5本発明に係る老香装置をレーザ
ー・ビーム・プリンターに一用した概′略図を示すもの
で、第31囚は偏向if面と千行履山内の図、第3図の
)′M偏向走査−と直交する面内に於ける展開図である
。変調さ八た屍ビームを発する半導体アレーレーザーl
l、該アレーレーザーから発せられるi々の光ビームの
主光線とほば手行な光軸14を有すふ第1結像レンズ系
2、球面レンズ13aと正のシリンドリカルレンズ13
bより成る第2結像光学系130[成、配置は第2図(
A) (B) K示すものと同じでめるので、□ここで
は説f!Aを省く015は等速回転のポリゴンミラーで
偏向反射面15a近傍で、点線で示す各発光部からの主
光線(lla、1lb)が交わっている。偏向反射面1
5aで偏向された光束は、ポリゴンミラー15i14に
凹面を向けたメニスカスレンズ14s及び)−リックレ
ンズ17より成る走査用結像レンズにより回転する電子
写真の感光ドラム18上の所定の位置に結1象する。走
査用結像レンズ(16,17)は。
傍位置F′と被走査面とを光学的1に共役とする屈折力
i有す為ナナミライック結像レンズである。そし−(、
@向走査面内に於けるアナモフィック結像レンズの歪曲
収差を偏向器め回動特性に始らして持たせ゛ることによ
り、被走査面上でビームスポットを等速+走査すること
が出来る。 ゛ 第3図(A)(B)は5本発明に係る老香装置をレーザ
ー・ビーム・プリンターに一用した概′略図を示すもの
で、第31囚は偏向if面と千行履山内の図、第3図の
)′M偏向走査−と直交する面内に於ける展開図である
。変調さ八た屍ビームを発する半導体アレーレーザーl
l、該アレーレーザーから発せられるi々の光ビームの
主光線とほば手行な光軸14を有すふ第1結像レンズ系
2、球面レンズ13aと正のシリンドリカルレンズ13
bより成る第2結像光学系130[成、配置は第2図(
A) (B) K示すものと同じでめるので、□ここで
は説f!Aを省く015は等速回転のポリゴンミラーで
偏向反射面15a近傍で、点線で示す各発光部からの主
光線(lla、1lb)が交わっている。偏向反射面1
5aで偏向された光束は、ポリゴンミラー15i14に
凹面を向けたメニスカスレンズ14s及び)−リックレ
ンズ17より成る走査用結像レンズにより回転する電子
写真の感光ドラム18上の所定の位置に結1象する。走
査用結像レンズ(16,17)は。
−向走査面内ではf−−の結像特性、いわゆるI−−レ
ンズとしての機能をも有しており、ポリゴンミラーで偏
向され九九ビームは感光ドラム18上を等速で移動する
。一方、偏向走査面と直交する山内では、光源llから
の光ビームrよ偏向反射面15a′上に結像されており
、偏向反射面ISaと感光ドラム1Bは走査用結(象レ
ンズ(l“6,17)に対して光学的に共役な位置にあ
るので、偏向反射ifi 15 aが同郷かの原囚によ
り填い−Cも、常に感元ドシム18上O所炬の位置に元
ビームtW1啄さぜる01−1感元ドラムのffdi2
f1には、電子写其會形成するプロセスに必安な櫨々の
部材が配されているが、これ尋Oノ゛ロセス及び配置さ
nている部材1ユ公知で66ので、ここでは省いである
。
ンズとしての機能をも有しており、ポリゴンミラーで偏
向され九九ビームは感光ドラム18上を等速で移動する
。一方、偏向走査面と直交する山内では、光源llから
の光ビームrよ偏向反射面15a′上に結像されており
、偏向反射面ISaと感光ドラム1Bは走査用結(象レ
ンズ(l“6,17)に対して光学的に共役な位置にあ
るので、偏向反射ifi 15 aが同郷かの原囚によ
り填い−Cも、常に感元ドシム18上O所炬の位置に元
ビームtW1啄さぜる01−1感元ドラムのffdi2
f1には、電子写其會形成するプロセスに必安な櫨々の
部材が配されているが、これ尋Oノ゛ロセス及び配置さ
nている部材1ユ公知で66ので、ここでは省いである
。
向、第l−1第21V(示す如く、m12鮎寥元字糸3
に#I成するシリ/トリカルレンズ3b。
に#I成するシリ/トリカルレンズ3b。
3ciユ、偏向走査面と直交する方向e)屈折力が正と
負V場合がめる。このことはアナモノイック九字部材t
ath−置と関係がめ9、凱l顛像し/ズ糸による発光
moiIB葎位置よりも光源部−に配され7tJJ!合
が負の屈折力、同じく一陶器一に配されfc場合が正の
屈折力1に持つ。
負V場合がめる。このことはアナモノイック九字部材t
ath−置と関係がめ9、凱l顛像し/ズ糸による発光
moiIB葎位置よりも光源部−に配され7tJJ!合
が負の屈折力、同じく一陶器一に配されfc場合が正の
屈折力1に持つ。
又、不発qtic係る走査装置では、糾2鮎置レンズ系
の焦点距*t−賀化さぜゐことVこL9.光11 源と一同器との間V距離を1出−こ調整することがuJ
−ヒでめる0 以上、不発明に係る走査装置では1元源と偏向−0間に
正の屈灯刀を持つ二つの鮎−系を配するだけで、光61
sからの複数のビームの主光1ml!を偏向器の偏向反
射面の近傍で交叉させることが出来るし、各々の結像系
の焦点距離を変化構成である為に、偏向器の倒れを防止
する為に。
の焦点距*t−賀化さぜゐことVこL9.光11 源と一同器との間V距離を1出−こ調整することがuJ
−ヒでめる0 以上、不発明に係る走査装置では1元源と偏向−0間に
正の屈灯刀を持つ二つの鮎−系を配するだけで、光61
sからの複数のビームの主光1ml!を偏向器の偏向反
射面の近傍で交叉させることが出来るし、各々の結像系
の焦点距離を変化構成である為に、偏向器の倒れを防止
する為に。
−陶器の偏向反射面上に線像を形成しても、各々の光束
の線像の中心位置はほぼ合致させることが出来るので、
複数ビームを使用しても被走査面上での各々のビームス
ポットは、良好なフォーカス状態で結像される。
の線像の中心位置はほぼ合致させることが出来るので、
複数ビームを使用しても被走査面上での各々のビームス
ポットは、良好なフォーカス状態で結像される。
第1図囚、(B)は本発明に係る複数ビーム走査装置の
一実施例を示す図、第2図因、@は本発明に保る複数ビ
ーム走査装置の他の実施例を示す図。 妃3装置、β)は本発明に係る複数ビーム走査装置tレ
ーザービームプ゛′1:′″リンター適用した図を示す
図。 l・・・半導体レーザーアレー、la、lb・・・発y
t、部、2・・・第1結像レンズ系、3・・・第2結像
レンズ系s3m・・・球面レンズ、3b・・・シリ/ト
リカル凹レンズ、3c・・・シリンドリカル凸レンズ。 4・・・光軸、5・・・ポリゴンミラー、5a・・・−
向反射向。 出願人 キャノン株式会社 1′・砧
一実施例を示す図、第2図因、@は本発明に保る複数ビ
ーム走査装置の他の実施例を示す図。 妃3装置、β)は本発明に係る複数ビーム走査装置tレ
ーザービームプ゛′1:′″リンター適用した図を示す
図。 l・・・半導体レーザーアレー、la、lb・・・発y
t、部、2・・・第1結像レンズ系、3・・・第2結像
レンズ系s3m・・・球面レンズ、3b・・・シリ/ト
リカル凹レンズ、3c・・・シリンドリカル凸レンズ。 4・・・光軸、5・・・ポリゴンミラー、5a・・・−
向反射向。 出願人 キャノン株式会社 1′・砧
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)各々独立したmaO光ビームを供給する光源部を
備え、これ等複数O光ビームで被走査面上を走査する装
置に於いて、前記光源部からの各光束の主光線とその光
−がほぼ平行となる様に配され、且つ前記光源部からの
光束を集光して光源部の像を形成、、する第1#f像光
学系と、該第1結像光学系と参上偏向手段との間に配さ
れ、偏向手段の偏向走査面と大行な通、内に於いては、
第1結像享学系の偏向手段1IIo焦点位置と偏向手段
の偏向反射面との位置をほぼ光学的に共役な関、jlk
に保つ為O鯖2結像光、学系と1を有する事を特徴とす
る複数ビーム走査装置0 1 (2)前記第2結像光学系はアナ毫フィックな光学系で
ろ9、光源部と偏向手段との間の光軸、を含み、且つ偏
向器の偏向走査向と直交する山内に於iては、偏向器の
偏向反射面上に光ビニムを集束させる事を特徴とする特
許1illXOa曲第1項記載の複数ビーム走査装置。 (8) *紀第2結像光i系線、球面し/ズ系とシリ
ンドリカルVンλ系より成4%許請求の範囲第2−記載
の複数ビーム走査装置。 (匍 wi紀第2結像光学系は、一枚のトーリックレン
ズより成る轡許−求の範囲@2項記絨の複数ビーム走査
装置0 □
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57067650A JPS58184117A (ja) | 1982-04-22 | 1982-04-22 | 複数ビ−ム走査装置 |
DE19833314402 DE3314402A1 (de) | 1982-04-22 | 1983-04-21 | Vorrichtung zum abtasten einer vielzahl von strahlen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57067650A JPS58184117A (ja) | 1982-04-22 | 1982-04-22 | 複数ビ−ム走査装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58184117A true JPS58184117A (ja) | 1983-10-27 |
JPS6411926B2 JPS6411926B2 (ja) | 1989-02-27 |
Family
ID=13351104
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57067650A Granted JPS58184117A (ja) | 1982-04-22 | 1982-04-22 | 複数ビ−ム走査装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58184117A (ja) |
DE (1) | DE3314402A1 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63208021A (ja) * | 1987-02-25 | 1988-08-29 | Ricoh Co Ltd | レ−ザ−ダイオ−ドアレイを用いる光走査光学系 |
JPH01211718A (ja) * | 1988-02-19 | 1989-08-24 | Japan Imeejingu Syst:Kk | 光走査装置 |
US4932734A (en) * | 1987-12-11 | 1990-06-12 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanning system using a laser diode array |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2524567B2 (ja) * | 1991-08-03 | 1996-08-14 | キヤノン株式会社 | 複数ビ―ム走査光学装置 |
JP3536962B2 (ja) * | 1997-05-09 | 2004-06-14 | 日立プリンティングソリューションズ株式会社 | ビーム走査装置および画像形成装置 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6011325B2 (ja) * | 1977-01-21 | 1985-03-25 | キヤノン株式会社 | 走査装置 |
US4474422A (en) * | 1979-11-13 | 1984-10-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical scanning apparatus having an array of light sources |
-
1982
- 1982-04-22 JP JP57067650A patent/JPS58184117A/ja active Granted
-
1983
- 1983-04-21 DE DE19833314402 patent/DE3314402A1/de not_active Ceased
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63208021A (ja) * | 1987-02-25 | 1988-08-29 | Ricoh Co Ltd | レ−ザ−ダイオ−ドアレイを用いる光走査光学系 |
US4932734A (en) * | 1987-12-11 | 1990-06-12 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanning system using a laser diode array |
JPH01211718A (ja) * | 1988-02-19 | 1989-08-24 | Japan Imeejingu Syst:Kk | 光走査装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3314402A1 (de) | 1983-10-27 |
JPS6411926B2 (ja) | 1989-02-27 |
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