JPS5817444A - フオトレジスト現像装置 - Google Patents

フオトレジスト現像装置

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Publication number
JPS5817444A
JPS5817444A JP11507481A JP11507481A JPS5817444A JP S5817444 A JPS5817444 A JP S5817444A JP 11507481 A JP11507481 A JP 11507481A JP 11507481 A JP11507481 A JP 11507481A JP S5817444 A JPS5817444 A JP S5817444A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
developer
nozzle
wafer
speed
flow
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11507481A
Other languages
English (en)
Inventor
Tomio Nakazawa
中沢　富夫
Kazuya Kadota
和也 門田
Susumu Nanko
進 南光
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP11507481A priority Critical patent/JPS5817444A/ja
Publication of JPS5817444A publication Critical patent/JPS5817444A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/3021—Imagewise removal using liquid means from a wafer supported on a rotating chuck

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はフォトレジスト現像装置に関するものである。
ｉ米の７オトレジスト現像装置では、りｚ　”　１に現
像液２等を供給するのに、第１図（ａ）に示すようなパ
イグ状のノズル３や、同図（ｂ）に示すようなスグレー
ノズル４が使われている。しかし、これらの従来方式に
よると、供給時に、現像液等とクエへ表面との相対速度
が大きくなり、液の流れが生じる。
そのため、従来は現像液等の供給が不均一になり、フォ
トレジストの寸法精度が低下したり、あるいはパターン
エツジの切れが悪くなったりする等の問題が発生してし
まう。
特に、ポジ型レジストの現像においては、現像中に、静
かに現像液を供給する必要があり、従来のノズルでは十
分な３Ｊ！儂が行なえない。
本発明の目的は％フォトレジストの現像において、り２
ハ！ＩｒｊｊＪと現像液等との相対速度を少なくするノ
ズルを提供することにより、良好なレジストパターン、
均一な現像を得るととくある。
この目的を達成するため、本発明によるフォトレジスト
現像装置は、現像液等をつ２ハ上に供給するノズルがク
エハに対して向きｗｍｌｋで＃、あるいは回転可能であ
ることを特徴とするものである。
以下１本発明を図面に示す一実施例にしたがってさらに
説明する。
第２図は本発明によるフォトレジスト現像装置の一実施
例を示す概略的斜視図である。
本実Ｊｌ＆１例の７オトレジスト現儂装置は、現像時に
ウェハｌを保持し、必要に応じ【所定の回転速度で回転
するウェハチャック５と、該つ茎ハチャック５上のウェ
ハｌの上に現像液２等を供給する回転可能なノズル６を
有し、該ノズル６はウェハｌの回転に応じて同一方向に
回転し、ウェハｌの表面と現像液２の相対速度を小さく
するようになっている。
前記ノズル６の複数個の勇健供給部には、現像液２の流
出速度を調整する流速！１ｌｉｌ！１弁７が設けられ、
またその先端側には、ノズル６の向きをウェハｌの回転
に応じて調整し、＃Ｌ偉液液２流出方向を変えることの
できるノズル向き調整装置８が設けられている。
次に１本実施例の作用について説明する。まず、ウェハ
チャック５上に支持されたウェハｌの上にノズル６から
現像液２を供給するが、ウエノ１チャック５およびその
上のり２ハｌは最初は低速で、次いで高速で回転される
。ウニＩＳｌの回転に応じてノズル６も同一方向に回転
させられ１両者の相対速度が小さぐなるようにされる。
このことを第３図について説明すると、同図の符号９は
ウェハ１上の任意の点におけるウェハｌの回転速度、ｌ
Ｏはノズル６の回転によるノズル先端の回転速度、１１
は流速調整弁７で調整可能なｊｊｌ像液２の流出速度、
１２はウニ凸表面と現像液２との相対速度金それぞれベ
クトル表示したものである。この図から明らかなよ５に
、ウェハｌの回転速度９に対して、ノズル６０回転速度
１０および現像液２の流出速度１１を調整することによ
ってベクトルの大きさを変えると共に、ノズル向館調整
装置８によりノズル６の向きを調整して現像液２の流出
方向を変えることによってベクトルの向鎗な変えれば、
ウニ凸表面と現像液２との相対速度を小さくすることが
できる。その結果。
現像中における現像液の流れが少くなり、均一なレジス
トパターンが得られる。
なお、クエハＩ！面上における現像液およびレジストの
均一性を高めるため、ノズル６を複数個設けてもよい。
また、ノズル６またはつ！ハｌはいずれか一方が静止し
ていてもよい。
以上説明したよ５Ｋ、本発明によれば、フォトレジスト
の現像において、パターンエツジの切れを良くシ、かつ
均一な現像が得られるので５寸法精度を向上させること
ができる。
【図面の簡単な説明】
第１図（ａ）と（ｂ）は従来の回転現像方式の概略図。 第２図は本発明の一実施例によるフォトレジスト現像装
置の概略構成図、第３図は現像時の現像液等の速度ベク
トル図でアル。 ｌ・・・ウェハ、２・・・ａｍ液、５・・・ウェハチャ
ック、６・・・／Ｘル、７・・・流速調整弁、８・・・
ノズル向１１１１整装置。 第　　１　　図 第　　２　　図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、　ウェハチャック上に支持されたり２ハの表面に現
    像液等を供給するノズルを有するフォトレジスト現像装
    置に−Ｍいて、ノズルが回転可能であることを特徴とす
    るフォトレジスト現像装置。 ２、ウェハチャック上に支持されたウーハの表面に現像
    液等を供給するノズルを有するフォトレジスト現像装置
    において、ノズルの向きが調整可能であることを特徴と
    するフォトレジスト現像装置。
JP11507481A 1981-07-24 1981-07-24 フオトレジスト現像装置 Pending JPS5817444A (ja)

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