JPS58158837A - イオン源 - Google Patents

イオン源

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Publication number
JPS58158837A
JPS58158837A JP4151982A JP4151982A JPS58158837A JP S58158837 A JPS58158837 A JP S58158837A JP 4151982 A JP4151982 A JP 4151982A JP 4151982 A JP4151982 A JP 4151982A JP S58158837 A JPS58158837 A JP S58158837A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
emitter
electrode
negative
filament
pole side
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4151982A
Other languages
English (en)
Inventor
Norimichi Anazawa
穴沢 紀道
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Original Assignee
Jeol Ltd
Nihon Denshi KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jeol Ltd, Nihon Denshi KK filed Critical Jeol Ltd
Priority to JP4151982A priority Critical patent/JPS58158837A/ja
Publication of JPS58158837A publication Critical patent/JPS58158837A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J27/00Ion beam tubes
    • H01J27/02Ion sources; Ion guns
    • H01J27/028Negative ion sources

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、イオン化物質を電子衝撃によって、イオン化
し、イオンビームを発生させるイオン源に関し、更に詳
しくは、負のイオンビームを取り出すことができるイオ
ン源に関する。
エミッタを電子衝撃することによりイオンを励起するタ
イプの従来のイオン源の構成は、第1図で示される。図
において、1はその内部にイオン化物質が充填された容
器、2はその先端部の開口に挿通された状態で容器1に
取付けられたエミッタチップで、上記容器1とチップ2
とがエミッタ3を構成している。4は電子衝撃用の電子
を発生するフィラメント、5は引出し電極、6はフィラ
メント4を通電加熱するためのパワーをトランスTを介
して供給する電源である。又、7はシールド、8は接地
電極、9は高圧電源、10は該高圧電源の両端に接続さ
れた分圧抵抗である。電源1〜ランスTの2次側巻線の
中間端子、シールド7及び引出し電極5には、それぞれ
分圧抵抗10から所定の電位が与えられている。詳しく
)ホペれば、フィラメント4はシールド7より高い電位
にあり、又、シールド7は引出し電極5より高い電位に
ある。尚、エミッタ3.接地電極8は、それぞれ高圧電
源9の正極、負極に接続されている。
このように構成された従来のイオン源において、フィラ
メント4を熱して電子を故山させると、この電子ビーム
eは、図に示す向きに進んでエミッタチップ2を衝撃す
る。ここで、フィラメント4や引出し電極5等の電位は
、エミッタ3の電位より低く設定されているから、エミ
ッタ3を取り囲む電界は、正イオンに対する引出し作用
をする。従って、電子ビームeの衝撃作用により発生し
た正イオンのみが、図に示すようなイオンビームiとな
って取り出される。
この方式のイオン源において、高圧電源9の極性を反転
し−L述のエミッタ3に負の電位をうえて、負イオンを
引出そうとするど、フィラメント4がエミッタ3に対し
て正電位となってしまうため、電子がエミッタ3を衝撃
することができなくなってしまう。このため、従来は、
負イオンビームを発生させることはできないとされてい
た。
しかしながら、イオンの応用においては、正イオンのみ
ならず、負イオンも極めて重要であり、負のイオンビー
ムを取り出するイオン源の開発が持たれていた。
本発明は、このような点に鑑みてなされたもので、内部
のイオン化物質がエミッタチップの表面に流出するよう
に構成されたエミッタと、該エミッタに対向配INされ
、イオンビーム収用し用の第1の開口及び電子ビーム打
込み用の第2の開口が穿設された引出し電極と、フィラ
メント、ウェネルト等からなり前記引出し電極の第2の
開口を通して前記エミッタに電子を衝突させるための電
子銃とを具備し、前記エミッタを前記引出し電極より高
い負の電位に保ち、且つ電子銃をエミッタより高い負の
電位に保つように構成することにより、負のイオンビー
ムを発生させることができるイオン源を実現したもので
ある。
以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第2図は、本発明の一実施例を示す構成図である。第1
図と同一部分には、同一符号を付し、その説明は省略す
る。図において、21は熱電子発生用のフィラメント、
22はウェネルト、23は第2の高圧電源である。該高
圧電源23の正極側は接地され、負極側はウェネルト2
2に接続されている。24はバイアス抵抗で、高圧電源
23の負極側と、トランスTの2次側巻線の中間端子に
接続されている。上記フィラメント21、ウェネルト電
極22、電#i6及びトランスTによって、電子銃が構
成される。尚、第1の高圧電源9は、第1図に示す場合
と極性が反転している。即ち、正極側が接地され負極側
がエミッタ3に接続されている。このように構成された
イオン源の各部の電位及び動作を次に説明する。
先ず、エミッタ3と引出し電極5及び電子銃(特にフィ
ラメント21)との闇の電位の関係について説明する。
エミッタ3に印加されている負電位を■1とし、分圧抵
抗10によって与えられる引出し電極5の負電位をV2
とすると、第2図から明らかなように、V2は■1に対
して高い負の値に保たれている。又、電子銃のフィラメ
ント21には、高圧電源23がらバイアス抵抗24を介
して負電位が与えられており、この電位をv3とすると
、この電位v3は、エミッタ3の電位V1よりも低い負
の値に保たれている。即ち、各電位の関係を式で示すと
次式のようになる。
lV3 l>lVt I>lV2 l−・−・(1>こ
の(1)式で示される関係が保たれている状態で、エミ
ッタ内で溶解したイオン化物質20は、容11とエミッ
タチップ2間に設けられたわずかの!l1lIIを通っ
て、チップ2の表面に流出してくる。ところで、前記し
たように、電子銃のフィラメント21の電位v3は、引
出し電極5の電位v2よりも低い負の値に保たれている
ので、フィラメント21で発生した電子は、引出し電極
5の第2の開口56を通って、エミッタ3に達する。エ
ミッタ3の電位v1は、引出し電極5の電位v2よりも
低い負の値に保たれているので、電子はエミッタ3に達
するときにポテンシャルをさか上ることになり減速する
しかしながら、(1)式で示したような1V31>1V
tlの関係が維持されている限り、最終的にはエミッタ
3に衝突する。このときの、電子の衝撃エネルギーは、
1Vsl  lVt1に対応したものとなる。この電子
衝撃によって、エミッタチップ2まで流出してきたイオ
ン化物質は蒸発してイオン化する。これにより生じた負
イオンは、IVI  l>lV21の関係が維持されて
いるので引出し電極5に引かれて加速されてイオンビー
ムi′となり、引出し電極5の第1の開口5aを通過後
、接地電極8を通過する時のエネルギーは、1Vrlに
対応したものとなる。
以上、詳細に説明したように、本発明によれば、負のイ
オンビームを取り出せるイオン源を実現することができ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のイオン源の構成を示す説明図、第2図は
本発明の一実施例を示す構成図である。 1・・・容器      2・・・エミッタチップ3・
・・エミッタ 4.21・・・フィラメント 5・・・引出し電極   6・・・電源7・・・シール
ド    8・・・接地電極9.23・・・高圧電源 10・・・分圧抵抗   20・・・イオン化物質22
・・・ウェネルト  24・・・バイアス抵抗T・・・
電源トランス 特許出願人  日本電子株式会社 代 理 人  弁理士 井島藤治 革1図 第2図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 内部のイオン化物質がエミッタチップの表面に流出する
    ように構成されたエミッタと、該エミッタに対向配置さ
    れ、イオンビーム取出し用の第1の開口及び電子ビーム
    打込み用の第2の開口が穿設された引出し電極と、フィ
    ラメント、ウェネルト等からなり前記引出し電極の第2
    の開口を通して前記エミッタに電子を衝突させるための
    電子銃とを具備し、前記エミッタを前記引出し電極より
    高い負の電位に保も、且つ電子銃をエミッタより高い負
    の電位に保つようにしたことを特徴とするイオン源。
JP4151982A 1982-03-16 1982-03-16 イオン源 Pending JPS58158837A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4151982A JPS58158837A (ja) 1982-03-16 1982-03-16 イオン源

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JP4151982A JPS58158837A (ja) 1982-03-16 1982-03-16 イオン源

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JPS58158837A true JPS58158837A (ja) 1983-09-21

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ID=12610622

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JP4151982A Pending JPS58158837A (ja) 1982-03-16 1982-03-16 イオン源

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009168233A (ja) * 2008-01-21 2009-07-30 Kayaba Ind Co Ltd フロントフォーク
JP2009275832A (ja) * 2008-05-15 2009-11-26 Kayaba Ind Co Ltd フロントフォーク

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5364089A (en) * 1976-11-19 1978-06-08 Hitachi Ltd Solid ion source

Patent Citations (1)

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