JPS58129387A - 原子炉の1次回路の冷却流体に含まれる可溶性毒の濃度を変更する方法及びそのための装置 - Google Patents

原子炉の1次回路の冷却流体に含まれる可溶性毒の濃度を変更する方法及びそのための装置

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JPS58129387A
JPS58129387A JP58012074A JP1207483A JPS58129387A JP S58129387 A JPS58129387 A JP S58129387A JP 58012074 A JP58012074 A JP 58012074A JP 1207483 A JP1207483 A JP 1207483A JP S58129387 A JPS58129387 A JP S58129387A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 を制御するととに関する。
加圧水1!N子炉の反応度の緩徐な変化は、l次回路の
冷却材中の可溶性毒の濃度を調節するととkよって同腹
される。反応度の変化は、本質的k。
燃料サイクルの間の燃料のバーンアウト、核***生成物
(キセノンその他)の生成による炉心部に対する毒作用
、又は冷却材の温度が低温の状態と高温の状態との関に
おいて変化するととに基づいている。今日使用されてい
る可溶性の毒は、ガドリニウム黴又は嫌う酸である・ 毒を濃縮した溶液を注入すること、又はその逆に冷却材
を希釈することによって、冷却材中の可溶性毒の濃度を
調節することは知られている。後者の操作即ち冷却材の
希釈は、一次回路で再利用する前もしくは排出前に%I
I&瑠を必要とする流出物を大量に生成させる。
再利用又は廃棄に先立ち流出物を処理する必要をなくす
ために1冷却材中の毒の濃度を調節する2に生成する流
出物の容積を減少させることも試みられた。−例として
、仏画特許第1!f9gl、Og号によれば、冷却材中
の可溶性毒の濃度を変更するために、毒を債荷させたイ
オン交換樹脂を使用し、その樹脂の作動温度、即ち冷却
材の作動温度を費えるととkよって、冷却材の通過時に
おいての樹脂の保留能力を変更する。イオン交換樹脂上
の毒のM定は、0−10℃震度の温度で生じ、その解離
は%AO〜90℃程度の温度で生ずる。そのため流出物
は樹脂にストックされ、排出されなくなるので、流出物
を再処理する問題は生じない・しかし、私印特許第1!
9gAOg号に記載された方法には、多量の流出物の生
成に関連した不つごうはないとしても、次のλつの主要
な不つごうが存在している・即ちこの方法によっては、
可溶性毒を徐々に変化させることはできないし、樹脂の
81類によって定まる成る範囲内において毒濃度が調節
されるに過ぎない。
本発明は、これらの不つごうの解消を目的としている@ 本発明の湯度変更方法によれば、処理を要する多量の流
出物が発生することはなく、広汎な毒鎖度範囲について
多量の冷却流体が迅速に処理される◎ 本発明は、この湯度変更方法を実施するための装置も対
象としている。
本発明は、より具体的には、加圧木型厘子炉の1次回路
の冷却流体に含まれる可溶性毒の濃度変更方法を対象と
している。
本発明による湯度変更方法は、7次回路から冷却流体を
散出し、その冷却流体を少くともlっの電気透析モジュ
ールに通し、1次回路に返送することを特徴とする。
本発明の濃度変更方法は、好ましくは可逆的に行われ、
毒の濃度の増大又は減少のために同一の電気透析モジュ
ールが使用され、その作用の反転には単に極性の反転が
必要とされるに過ぎない。
本発明の好ましい実施例によれば、冷却流体の一部分の
みが電気透析モジニールに通され、他の部分は逆浸透装
置の方に向けられる。
本発明の別の好ましい実施例によれば、冷却流体の#炭
がs o o ppm以下の場合又は毒の濃度を/時間
!r Oppm以上の割合で変更すべき場合にのみ電気
透析モジュールと逆浸透装置とを同時に使用し、それ以
外の数値の場合は電気透析モジュールのみを使用する。
可溶性毒が希釈されたほう酸である場合には、はう酸の
解離を促進するための添加物を1次回路の出口において
冷却流体に添加する。
本発明は、上述した方法を実施するための―度変更装置
も対象としている0 本発明の好ましい実施例による濃度変更装置は、/次回
路について閉回路をなしている第1の回路と、/次回路
の流出物のりデーパ−について閉回路をなしている第コ
の回路とのaつの回路を有し、これらの回路は少くとも
7つの共通の電気透析モジュールをどちらも通過してい
る0 これらの電気透析モジュールは互に縦続又は並列に取付
けることができる。
本発明の別の実施例による濃度変更装置は、/次回路に
ついて閉回路をなし少くとも1つの逆浸透装置を備えて
いる回路を、上記一つの回路の捻かに備えている。
流出物のりデーパーに発して水と可溶性毒とを別々に流
出物から分離する少くとも1つの逆浸透モジュールに通
されリゾ−バーにストックされる/次回路の流出物のた
めの処理回路によって、―賓変更装置を完全化すると特
に有利である。
この流出物処理回路は、電気透析モジニールの代りに1
逆浸透装蓋を備えていてもよい。
可溶の毒がi5酸である場合に、本発明による濃度変更
装置は、/次回路の出口におい【冷却流体中に添加物を
注入する手段と、/次回路の方に返送される冷却流体か
ら骸添加物を除去する手段とを更に備えている◎ 添加物注入手段は、添加物がイオン化されているかいな
いかに従って、陽イオン掬脂床又はゼオライトにより構
成することができる。
除去手段は、陽イオン集脂床、ゼオライト又は限外を過
モジニー、IIKより構成することができる。
次に、添付図面を参照して本発明の好ましい実施例を一
層詳細に説明する。
図面に示した本発明の一実施例による濃度変更装置は、
電気透析モジュールと、逆浸透装置とを有し、図示した
本発明による装置の冷却流体中には、塩基性物質が注入
された11kKs−1つの陽イオン樹脂層によって取除
かれる。また図示した本発明による濃度変更装置は、図
示したように、逆浸透により流出物を処理する回路によ
って完全にされる。
一層正確には、図示した装置は、原子炉の/次回路1の
冷却流体中に含まれる可溶性毒の鎖度を変更する装置で
あり、冷却流体は、はう素を一〇00〜/ 00 pp
rn (/ 00万部当り2000〜700部)含む希
釈されたfi5Wkによって形成される・冷却流体は、
7次回路lのループの低温の分路を熱交換器3の高温側
の入口に連結している配管2を介して、/次回路1から
取出される。
熱交換器3の出力側は膨張弁4を介し第コの熱交換器5
に連結してあり、熱交換器5には、30〜tO℃以下の
温度の冷却流体も供給され−る。熱交換器3と膨張器4
とは、壁部6によって表わした気密容器の内部に配設し
てあり、その他の装置部分はその外部にある。必要に応
じて弁7により上記囲いを毒の濃度変更回路から遮断す
ることができる。熱交換器5を通過した後の冷却流体は
、−過器8によって一過される。
/次回路Iにおいて予め測定した嫌う素濃度が適正なら
ば、弁lOは閉止、弁10′  は開放して、回路11
.脱塩装置12及び容積管理用のりデーパ−13に冷却
流体を流入させる。リゾ−バー13は、調節弁16を有
する配管15により熱交換器3の低温側人口に、装入f
ンデ14を介し連結されている。リザーバー13は、複
数の1次−ンデの漏れ制御式のシールに配管17により
連結されている・ 冷却流体の可溶性毒の鎖度が不適正ならば、弁10/ 
 は閉止、弁10は開放して、濃度変更回路に冷却流体
を流入させる。
弁18を開放すると、陽イオン(例えばNH4”)Kて
初期飽和された陽イオン樹脂床19に冷却流体を通過さ
せ、塩基含有量が高くなったイオンを樹脂床19から取
出すことができる。そのため流体が電り透析モジュール
20.21に流入する前に、流体に含まれるほう酸の解
離を助けることができるので、モジエール20,21の
効率が改善される。
流体の温度は、電気透析ユニツ)20.21に流体が流
入する前に1熱交排器22(又は熱−ンデ)Kよって、
30〜SO℃の温度まで更に下げられる。
モジュール20,21は同じもので、膜によりそれぞれ
隔室に区画されている。これらの膜には、薄形で、機械
的耐力のよいものを好ましくは使用する(−例として膜
の厚さは/wr以下、面積は/iとする)。これらの膜
は交互に陽イオン透過性及び陰イオン透過性とする。陽
イオン透過膜は陽イオンのみ通過させ、陰イオン透過膜
は陰イオンのみ通過させる。そのため隔室は交互に陰イ
オンと陽イオンとを収納するようになる。即ち隔室は交
互に可溶性毒を少くまた多く含有することKなる。ここ
で述べたような場合には、毒はほう酸により形成され、
それは嫌ぼ全体として、陰イオン802− と陽イオン
−とに解離している。毒は解離したガドリニウム塩によ
り形成されていてもよいO 冷却流体を電気透析モジエール20.21に供給する回
路は、モジュール20.21を通るところで、ハウ素含
量を高くすべき場合には陰イオン隔室の数と同数、はう
素含量を低くすべき場合には陽イオン隔室の数と同数の
、複数の分路に分かれる(はう素含量を高くすることか
ら低くすることに移行する場合には、電気透析モジュー
ルの極性を逆にして、即ち陰イオン隔室を陽イオン隔意
としてその移行を行わせる。逆の場合も同様である)。
冷却流体回路が一例として陰イオン隔室を通ると、別の
回路23は、陽イオン隔室を同時に通る。
この別の回路23は、7次流出液のりデーi4−24に
ついて閉回路になっているoIJザー/4−24には、
/次回路1のノセージ、ドレン、弁の漏れその他に起因
する1次流出物がストックされる(これらの流出物は図
において符号51により示され、リゾ−パー24に至る
配管は符号52により示される)。回路23は、各々の
電気透析モジュール20.21に入るところで、冷却流
体回路の分路と同数の分路に分かれる。回路23を通る
流出物の循環は、−ンプ25によって確実に行われる。
冷却流体は、電気透析モジュール20.21を通過した
後に、陽イオン樹脂床19から取出されたイオンを固定
させるための、第コの陽イオン樹脂床19’  の方に
向けられる。その場合に冷却流体は、/次回路1を戻り
回路として利用する。
図かられかるように、床19.19− を互に逆にし【
、電気透析モジュール20.21への往路と復路におい
て冷却流体が床19.19’  をそれぞれ通るようK
なっている。実際に1作動開始後の敗る期間までは、イ
オンがそれから取出される床は、末だ十分な量のイオン
を含有せず、イオンが固定された床はそれ以上のイオン
を固定させることはできない。反転を行うべき時期を定
めるにハ、/譬ルスカウンター26に!って、モジュー
ル20.21に供給される冷却流体の量を総計する。
カウンター26が成る量の総計をした時に自動的に反転
を行わせる。
冷却流体のはう素含賓量が十分に高< (!;00pp
m以上)なり、この濃度の変化が非常に大きくはない(
7時間に!rOprwn以下)場合には、電気透析モジ
ュール20.21のみを使用する・しかし、ハウ素濃度
がj 00 ppm以下であったり、濃度変化が/時間
soprsmより大きかったりした場合には、電気透析
モジニー#20.21のみでは不十分なことがわかって
いる。実際に、この条件の下では、は5g濃度の変化は
可能であるが、長時間を要する。燃料寿命サイクルの終
了時、はう嵩量が減少した時、連鎖的な作動期間(高温
で稼動を停止させ、炉心部のキセノン毒作用が最大にな
っている状態での再始動など)において、濃度変化が大
きい場合には、そうした条件が成立する。
この条件の下では、電気透析モジュール20.21のみ
を使用せずに、それに他の手段を付加する。図示した例
では、この付加手段は、逆浸透装置27である。逆浸透
装置27の作動開始は弁28によって制御される。弁2
8の開閉は嫌う素濃度の関数として自動的に制御し得る
。逆浸透装置f27は既知のものとしてよいが、中空線
維状の芳香族−リアオド形の膜を備えていることが望ま
しい・冷却流体はこれらの#によって2つの溶液即ち逆
浸透装置27から配管29により排出されるほう素濃度
の非常に低い溶液と、配管30により排出されるはう素
濃度の非常に高い溶液とく分かれる。
冷却流体のほう素濃度を減少させたい場合には、3方向
弁31を開放し、配管29により排出される流体を1次
回路1に戻るように床19−(又は床19)の方に向け
る。この場合には3方向弁32を開放し、配管30によ
って排出される流体を流出液のりデーパ−24の方に向
ける。
冷却流体のほう素含量を増大させたい場合には、その反
対に、配管29の流体をリゾ−I4−24に向け、配管
30の流体を床19#  又は19に向けるO 上述した一度変更装雪には多くの利点がある・第7に、
可溶性毒の広い濃度範囲内において多量の冷却流体を迅
速に連続的に処理できる。同一の装置を毒の濃度の増大
にも減少にも使用できる。
濃度変更装置の作動開始とその停止並びに反転は、自動
的に、きわめ【迅速に行わせることができる。
電気透析モ//ニール20.21は、流出物の容積を増
大させず、流出物のりデーパ−24について閉回路をな
している回路23中の流体な一縮又は希釈する効果のみ
を有するため、冷却流体の処理によって多量の流出液が
形成されることはない。
しかし逆浸透装置27を同時に使用した場合には、流出
物の容積は増大する・そのためリゾ−パー24中の流出
−を処理するための処理回路33が用いられる。逆浸透
装置2フ(用いられている場合)Kより発生する流出物
と、符号51により示される/次回路1の流出物とが、
処理回路33によって処理される。
処理回路33は、リゾ−パー24からの配管34を有し
、リゾ−パー24からの流出物は一ンデ35によって取
出される。配管34は流出物な脱塩装置36に、次いで
除染脱ガスモジュール37に送り込み、量後にリゾ−パ
ー38に送りこみ、流出物は、処理操作を開始するに十
分な容積となるまで、リゾ−パー38中にストックされ
る。
処理は縦続取付けされた2つの逆浸透装置1i39.4
0によって行われ、これらの逆浸透装置39.40の与
圧と流体の循環とは、4ンf41.42によって確実に
行われる。流出物は逆浸透装置39.40によって、樟
が濃縮された溶液(リゾ−パー43にストックされる)
と水(リゾ−パー44にストックされる)とに分離され
る。逆浸透装置40からの、毒が歯輪された溶液は(好
ましくはり000ppml!度の)一定の高いレベルに
濃縮された液のみがリゾ−パー43に流入し得るよ5に
、リゾ−パー38KF!循環される。
流出物の処理回路33からは、電気透析モジエール20
,21のアンモニア分を再−節するための回路45が深
田している。回路45は、電気透析モジュール20.2
1において不可避的に発生−lアンモニアの漏れ(この
アンモニアは流出液のりデーパ−24の方に#出される
)を補充する働きをしている。回路45は、脱ガス螢の
、即ちモジュール37の出口からの流出物を聖人れる。
モジエール37は、流出物中に溶解している他のガス例
えば水素或いはキセノンからアンモニアヲ分離する働き
をしている・回路45は、圧縮機、46と、圧力の下に
ある流出ガスを減少させるリザーバー47(アンモニア
を液化させる)と、リゾ−パー47において得られた凝
縮液を取出すための膨張器48とを備えている。この凝
縮液はりデーパ−49に向けられる。リゾ−パー49は
、アンモニアを溶解させるための水供給部53を備えて
いる。アンモニアは必要な時Klンデ50により電気透
析モジニール20.21に注入される。
本発明は上述した実施例にはもちろん限定されず、細部
の構造の変更又は均郷物による置換について相違するの
みの全ての変形を包含する。
例として、w@透析モジュールの数は制限的ではなく、
所望の濃度の変化及び関連した可溶毒KLK依存する。
また電気透析モジュール20.21は、縦続に配設する
だけでなく、並列罠配設してもよい。
はう酸の解離を促進する添加物がイオン化されない場合
には、陽イオン樹脂床19.19’  の代りにゼオラ
イトを用いてもよい。(陽イオン樹脂床はイオン化され
た添加物についてのみ使用される)。
床19.19’  の代りに限外P遺装置を用いてもよ
い。この場合に供給される添加物は、−例としてア建ン
型の、粒径の大きな塩基性化合物により形成されている
。電気透析モジュール20.21から返流される冷却流
体は、塩基性化合物を再保留する限外を過モジュールを
通過する。
流出物処理回路33において、逆浸透モジュール39.
400代りに電気透析モジュールを使用してもよい。そ
の場合には図においてモジュール39.40の代りに1
縦続又は並列に7個以上の電気透析モジュールを取付け
るだけでよい。
【図面の簡単な説明】
図は本発明の好ましい実施例による可溶性毒の濃度変更
値雪を示す略記列間である。 符号の説明 l・・・・・・/次回路、 20,21・・・・・・電
気透析毫ジュール、  23・・・・・・回i+L  
24・・曲りデーパ−〇

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 l)原子炉の1次回路の冷却流体に含まれる可溶性毒の
    濃度を変更する濃度変更方法であって、/次回路1から
    冷却流体を取出し、その冷却流体を少くとも1つの電気
    透析モジュール20又は21に通し、1次回路IK返送
    することを特徴とする可溶性毒の濃度変更方法。 コ)毒の濃度の増大又は減少のために同一の電気透析モ
    ジエール20又は21を使用し、その作用の反転には極
    性の反転のみで足りるよ5にすることを特徴とする特許
    請求の範囲第1項記載の一度変更方法。 3)冷却流体の一部分のみを電気透析モジュール20又
    は21に通し、他の部分は少くとも7つの逆浸透装置2
    7の方に向けることを特徴とする特許請求の範囲第1項
    又は第一項記載の濃度変更方法。 リ 冷却流体の濃度が!r 00 ppm以下の場合又
    は毒の一度を1時間30p−以上の割合で変更すべき場
    合にのみ電気透析4ジユール2o又は21と逆浸透装置
    27とを同時に使用し、それ以外の数値の場合には電気
    透析モジュール20゜21のみを使用することを特徴と
    する特許請求の範囲第3項記載の一度変更方法。 S)可溶性毒が希釈された#t5酸である場合、嫌う酸
    の鱗離を促進するための添加物を/次回路の出口におい
    て冷却流体に添加することを特徴とする特許請求の範囲
    第1ないし第ダ項のいずれか7項記載の濃度変更方法。 6)特許請求の範囲第1項もしくは第一項のいずれかに
    記載の濃度変更方法を実施するための一度変更装置であ
    って、1次回路1について閉回路をなし【いる第1の回
    路と、/次回路1の流出物のりデーパ−24[ついて閉
    回路をなしている第一の回路23との一つの回路を有し
    、これらの回路が少くとも7つの共通の電気透析モジュ
    ール20又は21をどちらも通過している濃度変更装置
    。 7)上記2つの回路が縦続に取付けた共通の複数の電気
    透析モジュール20.21をどちらも通過していること
    を特徴とする特許請求の範囲第6項記載の濃度変更装置
    。 ざ)上記一つの回路が並列に取付けた共通の複数の電気
    透析モジュール20.21をどちらも通過していること
    を特徴とする特許請求の範囲第6項記載の濃度変更装置
    。 ?)4I許請求の範囲第3ないし第7項のいずれかKよ
    る一つの回路のはかに、/次回路IKついて閉回路を形
    成し少くとも7つの逆浸透装置27を備えている回路を
    更に有することを特徴とする特許請求の範囲第3項又は
    第弘項記載の一度変更装置。 /の/次回路流出物のりデーパ−24に発して水と可溶
    性毒とを別々Kl!i出物から分離する少くとも7つの
    逆浸透モジュール39又は40に通されリゾ−パー43
    .44にストックされる/次回路流出物のための処理回
    路33を更に有することを特徴とする特許請求の範囲第
    6ないし第9項のいずれか7項記載の一度変更装置。 //) ff出物のりデーパ−24に発して水と可溶性
    毒とを別々に流出物から分離する少くとも1つの電気透
    析モジュールに通されリゾ−パー43.44にストック
    される1次回路流出物の処lJ回路を更に有することを
    411gIkとする特許請求の範囲第6ないし第!項の
    いずれか7項記載の濃度変更装置・ /2、特許請求の範囲第3項記載の濃度変更方法を実施
    するための特許請求の範囲第6ないし第1/項のいずれ
    か7項記載の一度変更装置であって、/次回路IK添加
    物を注入する手段と、l次回路1の方に返送される冷却
    流体から該添加物を除去する手段とを有することを%書
    とする繊度変更装置。 /3)注入手段を陽イオン樹脂床19又は19’により
    形成したことを特徴とする特許請求の範囲第1.2項記
    載の一度変更装置。 /4I)注入手段をゼオライトにより形成したことを特
    徴とする特許請求の範囲第1コ項記載の濃度変更装置。 7.1)除去手段を陽イオン樹脂床19又は19’によ
    り形成したことを特徴とする特許請求の範囲第7−項又
    は第13項記載の一度変更装置。 /6)除去手段をゼオライトにより形成したことを特徴
    とする特許請求の範囲第1コ項又は第11項記載の濃度
    変更装置。 /り)除去手段を限外−過モジュールにより形成したこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第12項記載の濃度変更
    装置。
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