JPS58117886A - ４−置換フエニル酢酸類の製造法 - Google Patents
４−置換フエニル酢酸類の製造法Info
- Publication number
- JPS58117886A JPS58117886A JP56212976A JP21297681A JPS58117886A JP S58117886 A JPS58117886 A JP S58117886A JP 56212976 A JP56212976 A JP 56212976A JP 21297681 A JP21297681 A JP 21297681A JP S58117886 A JPS58117886 A JP S58117886A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substituted phenylacetic
- acid
- anode
- cathode
- electrolyte
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、４−置換フェニル酢酸類の製造法に関する。
更に詳しくは本発明は、一般式％式％（２）
〔式中Ｒ１は水酸基又は低級アルコキシ基を、Ｒ１は水
素原子又は低級アルキル基をそれぞれ示す。
素原子又は低級アルキル基をそれぞれ示す。
で表わされる４−１１換フエニル酢酸類の新規な製造法
に関する。
に関する。
上記一般式（２）で表わさｎる４−置換フェニル酢＃を
類は、反応性に富み生理活性物質の原料として有用であ
り、医薬や貴県の原料として広く使用されている。例え
ば一般式（２）で表わされる４−置換フェニル酢酸類か
ら気管支拡張作用を有する２−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−８−アミノ−１−グロパノールに容易に誘導する
ことができる（***特許公報第２６２１０９０号参照）
。
類は、反応性に富み生理活性物質の原料として有用であ
り、医薬や貴県の原料として広く使用されている。例え
ば一般式（２）で表わされる４−置換フェニル酢酸類か
ら気管支拡張作用を有する２−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−８−アミノ−１−グロパノールに容易に誘導する
ことができる（***特許公報第２６２１０９０号参照）
。
上記一般式（２）で表わされる４−置換フェニル酢酸類
のうち４−ヒドロキシフェニル酢酸の製造法としては、
例えばフェノールからフリーデル・クラフッ反応により
４−ヒドロキシアセトフェノンを生成させ、次いで４−
ヒドロキシアセトフェノンをウイルゲロット反応させて
４−ヒドロキシフェニル酢酸を得る方法（Ｊ、Ｓｃｉ、
Ｉｎｄ、Ｈｅｓ。
のうち４−ヒドロキシフェニル酢酸の製造法としては、
例えばフェノールからフリーデル・クラフッ反応により
４−ヒドロキシアセトフェノンを生成させ、次いで４−
ヒドロキシアセトフェノンをウイルゲロット反応させて
４−ヒドロキシフェニル酢酸を得る方法（Ｊ、Ｓｃｉ、
Ｉｎｄ、Ｈｅｓ。
（Ｎｅｗ Ｄｅｌｈｊ）８ｅｃｔ、Ｂ、、２１，２
８４（１９６２）参照〕、４−ヒドロキシマンデル酸及
びそのエステルや８−ハロゲノ−４−ヒドロキシマンテ
ル酸及びそのエステルを還元して４−ヒドロキシフェニ
ル酢ｒ！！Ｉを得る方法〔特開＠５４−１２５６ｆ３５
号公報、同５４−１４８７４６号公＠等参照〕等が知ら
れている。しかしながら、前者の方法では目的とする４
−ヒドロキシ酢酸がせいぜい８０１！度で得られるに過
ぎ゛ず、工業的な方法としては不充分である。まえ後者
の方法においても、還元反応を高温、高圧下の苛酷な条
件下に行なわねばならず、しかもそのような場合でも目
的化合物が低収率、低純度で得られるに過ぎない。また
上記一般式（２）で表わさｎる４−置換フェニル酢酸類
のうち４−低級アルコキシフェニル酸ｒ！Ｒは、上記で
得られる４−ヒドロキシフェニル酢酸からジメチル硫酸
等のアルキル化剤を用いてアルキル化して製造されてい
るに止まる。
８４（１９６２）参照〕、４−ヒドロキシマンデル酸及
びそのエステルや８−ハロゲノ−４−ヒドロキシマンテ
ル酸及びそのエステルを還元して４−ヒドロキシフェニ
ル酢ｒ！！Ｉを得る方法〔特開＠５４−１２５６ｆ３５
号公報、同５４−１４８７４６号公＠等参照〕等が知ら
れている。しかしながら、前者の方法では目的とする４
−ヒドロキシ酢酸がせいぜい８０１！度で得られるに過
ぎ゛ず、工業的な方法としては不充分である。まえ後者
の方法においても、還元反応を高温、高圧下の苛酷な条
件下に行なわねばならず、しかもそのような場合でも目
的化合物が低収率、低純度で得られるに過ぎない。また
上記一般式（２）で表わさｎる４−置換フェニル酢酸類
のうち４−低級アルコキシフェニル酸ｒ！Ｒは、上記で
得られる４−ヒドロキシフェニル酢酸からジメチル硫酸
等のアルキル化剤を用いてアルキル化して製造されてい
るに止まる。
本発明者らは一般式（２）で表わさｎる４−ｆｉｌｌ換
７エ二ル酢酸類を工業的に有利に製造する方法を開発す
べく鋭意研究を重ねた結果、ついに本発明を完成するに
至つ九。
７エ二ル酢酸類を工業的に有利に製造する方法を開発す
べく鋭意研究を重ねた結果、ついに本発明を完成するに
至つ九。
即ち本発明は、一般式
〔式中Ｒ１は水酸基又は低級アルコキシ基を、Ｒ１は水
嵩原子又は低級アルキル基をそれぞれ示す。〕 で表わされる４−１１換フ工ニル酢酸誘導体を電解還元
して一般式 ％式％（２） 〔式中Ｒ１及びＲ１は前記に同じ。〕 で表わされる４−置換フェニル酢酸類を得ることを特徴
とする４−置換フェニル酢酸類の製造法に係る。
嵩原子又は低級アルキル基をそれぞれ示す。〕 で表わされる４−１１換フ工ニル酢酸誘導体を電解還元
して一般式 ％式％（２） 〔式中Ｒ１及びＲ１は前記に同じ。〕 で表わされる４−置換フェニル酢酸類を得ることを特徴
とする４−置換フェニル酢酸類の製造法に係る。
本発明の方法によれば、簡便な操作且つ緩和な反応条件
下で目的とする４−置換フェニル酢ａＩＩａＩｔ高収率
、高純度で製造し得る０ 本発明の電解還元は１通常中央に隔１１１１１１に設け
た陽極室及び陰極室よりなる電解槽中にて行なわれる。
下で目的とする４−置換フェニル酢ａＩＩａＩｔ高収率
、高純度で製造し得る０ 本発明の電解還元は１通常中央に隔１１１１１１に設け
た陽極室及び陰極室よりなる電解槽中にて行なわれる。
隔膜としては、カチオン交換膜の他アスベスト、セラミ
ック等も使用可能であるが、カチオン交換膜が好適であ
る。また陽極室は通常硫酸溶液及び陽極より構成されて
おり、陽極室は通常一般式（１）で表わされる４−置換
フェニル酢酸誘導体、有機溶媒、電解質及び陰極より構
成されている。
ック等も使用可能であるが、カチオン交換膜が好適であ
る。また陽極室は通常硫酸溶液及び陽極より構成されて
おり、陽極室は通常一般式（１）で表わされる４−置換
フェニル酢酸誘導体、有機溶媒、電解質及び陰極より構
成されている。
陽極室における４Ａ酸溶液の濃度としては特に制限され
ず広い範囲内から適宜選択できるが、通常１〜２０１、
好ましくは５〜１０チの硫酸水溶液又はアルコール溶液
を使用するのがよい。陽極としては硫酸溶液により溶解
されないものである限り公知のものをいずれも使用でき
、例えば鉛、鉛合金、白金、ニッケル、ニッケル合金、
亜鉛、亜鉛合金、カドミウム等を挙げることができる。
ず広い範囲内から適宜選択できるが、通常１〜２０１、
好ましくは５〜１０チの硫酸水溶液又はアルコール溶液
を使用するのがよい。陽極としては硫酸溶液により溶解
されないものである限り公知のものをいずれも使用でき
、例えば鉛、鉛合金、白金、ニッケル、ニッケル合金、
亜鉛、亜鉛合金、カドミウム等を挙げることができる。
これらのうちでも鉛や白金を使用するのが好ましい。
陰極室における有機溶媒としては例えばメタノール、エ
タノール、プロパツール等の低級１４１肪族アルコール
、アセトニトリル等のニトリル類、テトラヒドロフラン
、ジオキサン等の環状エーテル等を挙げることができる
。斯かる有機溶媒の使用量としては特に制限されず広範
囲から適宜選択使用できるが、通常原料化合Ｗｔモル当
り有機溶媒を６〜２０１程度、好ましくは６〜１０１用
いるのがよい。また電解質としては通常の第４級アンモ
ニウム塩をいずれも使用でき、具体的にはテトラメチル
アンモニウムトシレート、テトラメチルアンモニウムク
ロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、テト
ラエチルアンモニウムトシレート、テトラエチルアンモ
ニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムブロマイ
ド、テトラブチルアンモニウムトシレート、テトラブチ
ルアンモニウムクロライド等を例示できる。これらのう
ちでテトラメチルアンモニウムトシレート、テトラメチ
ルアンモニウムクロライド及びテトラメチルアンモニウ
ムブロマイドが好適である。斯かる電解質の使用量とし
ては％に限定がなく広い範囲内から適宜選択ざルるが、
通常原料化１：ｔ＝１モル当り電解質を１００〜８００
Ｐ程度、好ましくは２００〜２５０Ｆ使用するのがよい
。また陰極としては鉛、亜鉛等が好適である。
タノール、プロパツール等の低級１４１肪族アルコール
、アセトニトリル等のニトリル類、テトラヒドロフラン
、ジオキサン等の環状エーテル等を挙げることができる
。斯かる有機溶媒の使用量としては特に制限されず広範
囲から適宜選択使用できるが、通常原料化合Ｗｔモル当
り有機溶媒を６〜２０１程度、好ましくは６〜１０１用
いるのがよい。また電解質としては通常の第４級アンモ
ニウム塩をいずれも使用でき、具体的にはテトラメチル
アンモニウムトシレート、テトラメチルアンモニウムク
ロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、テト
ラエチルアンモニウムトシレート、テトラエチルアンモ
ニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムブロマイ
ド、テトラブチルアンモニウムトシレート、テトラブチ
ルアンモニウムクロライド等を例示できる。これらのう
ちでテトラメチルアンモニウムトシレート、テトラメチ
ルアンモニウムクロライド及びテトラメチルアンモニウ
ムブロマイドが好適である。斯かる電解質の使用量とし
ては％に限定がなく広い範囲内から適宜選択ざルるが、
通常原料化１：ｔ＝１モル当り電解質を１００〜８００
Ｐ程度、好ましくは２００〜２５０Ｆ使用するのがよい
。また陰極としては鉛、亜鉛等が好適である。
本発明の電解還元において、電解方法としては定電圧法
及び定電ｔＩＬ法のいずｎでもＩ’Ｊ’ ｔ４目である
が、定成流法によるのが好ましい。定Ｉｔ流法を採用す
る場合、電流密度としては゛通常ｌ−ｔｏＱｍＡ／−根
皮、好ましくは８０〜６０ｍＡ／−である。電解反応に
必要な通罐敏としては、１ｔｓ槽の形状、電極の種類、
基質濃度、基質反応性等によＩＪ−ｙしないが、通常約
５〜６モル／Ｆ程度の遁気瀘を通電すればよい。該電解
還元は通常Ｏ〜６０゛ｃ、好ましくは８０〜５０℃にて
行なゎ几る。
及び定電ｔＩＬ法のいずｎでもＩ’Ｊ’ ｔ４目である
が、定成流法によるのが好ましい。定Ｉｔ流法を採用す
る場合、電流密度としては゛通常ｌ−ｔｏＱｍＡ／−根
皮、好ましくは８０〜６０ｍＡ／−である。電解反応に
必要な通罐敏としては、１ｔｓ槽の形状、電極の種類、
基質濃度、基質反応性等によＩＪ−ｙしないが、通常約
５〜６モル／Ｆ程度の遁気瀘を通電すればよい。該電解
還元は通常Ｏ〜６０゛ｃ、好ましくは８０〜５０℃にて
行なゎ几る。
以ｔ゛に実施例會挙げる。
実施例１
４−ヒドロキシマンデル酸０．５Ｆ及びテトラメチルア
ンモニウムトシレート０．７５Ｆｋメタノール２０１１
９に溶解し、この溶液ｔ−隔膜〔カチオン交換膜、セレ
ミオンＣＭＶ、旭硝子製〕で隔てられた電解槽の陽極室
へ入れ、陽極室には１０慢硫酸メタノール溶液２０ｄを
入扛る。陰極材料として亜鉛、陽極材料として白金を用
いて５０℃で定電流電＄（８０ｍＡ／７） を行ない
、４５Ｆ／ｍｏ１ 通電し反応を行なった。反応終了
後陰極液のメタノールを留去し、水６ｄを加え、１０７
の酢酸エチルで６回抽出を行ない、抽出液を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥する。溶媒を留去した後、残渣をシリ
カゲルカラムで分離・精製すると４−ヒドロキシフェニ
ル酢酸０．４０Ｆを得る。
ンモニウムトシレート０．７５Ｆｋメタノール２０１１
９に溶解し、この溶液ｔ−隔膜〔カチオン交換膜、セレ
ミオンＣＭＶ、旭硝子製〕で隔てられた電解槽の陽極室
へ入れ、陽極室には１０慢硫酸メタノール溶液２０ｄを
入扛る。陰極材料として亜鉛、陽極材料として白金を用
いて５０℃で定電流電＄（８０ｍＡ／７） を行ない
、４５Ｆ／ｍｏ１ 通電し反応を行なった。反応終了
後陰極液のメタノールを留去し、水６ｄを加え、１０７
の酢酸エチルで６回抽出を行ない、抽出液を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥する。溶媒を留去した後、残渣をシリ
カゲルカラムで分離・精製すると４−ヒドロキシフェニ
ル酢酸０．４０Ｆを得る。
得られた化合物のＮＭＲデーター（溶媒ＣＤＣＩ、）を
以下に示す。
以下に示す。
ｆｆ（ｐｐｍ）−８，５０（８，２Ｈ）−６，６０〜７
．１８（ｍ、４Ｈ） −５，２６（Ｓ、ＩＨ） 実施例２ ４−ヒドロキシマンデル酸の代りに４−ヒドロキシマン
デル酸メチル０．５Ｐを用いる以外は実施例１と同様の
操作を行ない、４−ヒドロキシフェニル酢酸メチル０．
４１Ｐｆ！ｒ得る。
．１８（ｍ、４Ｈ） −５，２６（Ｓ、ＩＨ） 実施例２ ４−ヒドロキシマンデル酸の代りに４−ヒドロキシマン
デル酸メチル０．５Ｐを用いる以外は実施例１と同様の
操作を行ない、４−ヒドロキシフェニル酢酸メチル０．
４１Ｐｆ！ｒ得る。
得られた化合物のＮＭＲデーター（溶媒ＣＤＣｌ、）を
以下に示す。
以下に示す。
ａｃｐｐｍ）−８，５４（８，２Ｈ）
−８，６８（Ｓ、８Ｈ）
−６，６０〜７．２０（ｍ、４Ｈ）
−７，８０（Ｓ、ＬＨ）
実施例８
４−ヒドロキシマンデル酸の代りに４−メトキシマンデ
ル酸メチル０．５Ｆを用いて実施例１と同様な操作を８
０℃の温度で行ない、４−メトキシフェニル酢鐵メチル
０．４８ｊｌｋｎる。
ル酸メチル０．５Ｆを用いて実施例１と同様な操作を８
０℃の温度で行ない、４−メトキシフェニル酢鐵メチル
０．４８ｊｌｋｎる。
以下にＮＭＩ（データー（ｍ媒ＣＤＣｌｓ）ヲ示す。
’７（１）ｍ）−８，５０（ｇ、２Ｈ）−８，６０（Ｓ
、 ８Ｊ −８，７５（８，８）１） ＝６．７０〜７．２５（ｍ、４Ｈ） 実施例４ 硫酸メタノール溶液の代りに硫酸水溶液、白金の代りに
鉛、亜鉛の代りに鉛、テトラメチルアンモニウムドシレ
ー） ０．７５ ｆの代りにテトラメチルアンモニウム
クロライドを用い、実施例１と同様の操作を行ない、４
−ヒドロキシフェニル酢酸０、８８ Ｐを得る。
、 ８Ｊ −８，７５（８，８）１） ＝６．７０〜７．２５（ｍ、４Ｈ） 実施例４ 硫酸メタノール溶液の代りに硫酸水溶液、白金の代りに
鉛、亜鉛の代りに鉛、テトラメチルアンモニウムドシレ
ー） ０．７５ ｆの代りにテトラメチルアンモニウム
クロライドを用い、実施例１と同様の操作を行ない、４
−ヒドロキシフェニル酢酸０、８８ Ｐを得る。
得らｎる化合物のＮＭＲデータは実施例１のそれと一致
する。
する。
実施例６
陰極液のメタノールの代りにアセトニトリル、テトラメ
チルアンモニウムトシレート０．７５９の代りにテトラ
メチルアンモニウムプロマイ）”０．４５Ｆを用い、実
施例１と同様の操作全行ない、４−ヒドロキシフェニル
酢酸０．８７ｊＦｔｎる。
チルアンモニウムトシレート０．７５９の代りにテトラ
メチルアンモニウムプロマイ）”０．４５Ｆを用い、実
施例１と同様の操作全行ない、４−ヒドロキシフェニル
酢酸０．８７ｊＦｔｎる。
得られる化合物のＮＭＩ（データは実施例１のそれと一
致する。
致する。
（以 上）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ■ 一般式 〔式中Ｒ１は水酸基又は低級アルコキシ基ｔ、Ｒ２は水
素原子又は低級アルキル基をそれぞれ示す。ンで表わさ
れる４−置換フェニル酢酸−導体を電解還元して 一般式 〔式中Ｒ１及びＲ２は前記に同じ。〕 で表わされる４−ｆｉｔ換フェニル酢酸類を得ることを
特徴とする４−置換フェニル酢酸類の製造法。 ■ 陰極室が一般式（１）で表わされる４−置換フェニ
ル酢＃鍔導体、有機溶媒、電解質及び陰極より構成され
且つ陽極室が硫＃溶液及び陽極より構成される隔膜式電
解槽を用いて電解還元を行なう特許請求の範囲第１項記
載の方法。 ■ 陽極として鉛又は白金を、陰極として亜鉛又は鉛を
用いる特許請求の範囲第１項又はｔｓ２項記載の方法。 ■ 隔膜がカチオン交換膜である特許請求の範囲第１項
乃至＠８項のいずれかに記載の方法。 ■ 電解質がテトラメチルアンモニウムトシレート、テ
トラメチルアンモニウムクロライド又はテトラメチルア
ンモニウムブロマイドである特許請求の範囲第１項乃至
第４項のいずｎかに記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56212976A JPS58117886A (ja) | 1981-12-29 | 1981-12-29 | ４−置換フエニル酢酸類の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56212976A JPS58117886A (ja) | 1981-12-29 | 1981-12-29 | ４−置換フエニル酢酸類の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58117886A true JPS58117886A (ja) | 1983-07-13 |
| JPH0116916B2 JPH0116916B2 (ja) | 1989-03-28 |
Family
ID=16631407
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56212976A Granted JPS58117886A (ja) | 1981-12-29 | 1981-12-29 | ４−置換フエニル酢酸類の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58117886A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101979714A (zh) * | 2010-11-22 | 2011-02-23 | 天津市职业大学 | 一种对羟基苯乙酸的电解合成方法 |
-
1981
- 1981-12-29 JP JP56212976A patent/JPS58117886A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101979714A (zh) * | 2010-11-22 | 2011-02-23 | 天津市职业大学 | 一种对羟基苯乙酸的电解合成方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0116916B2 (ja) | 1989-03-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4284825A (en) | 4-Substituted benzaldehyde-dialkylacetal | |
| JPH09286774A (ja) | ２−アルキルメルカプト−４−（トリフルオルメチル） 安息香酸エステル及びこれの製造方法 | |
| US4340544A (en) | Process for producing 2-(2'-methyl-1'-propenyl)-4-methyltetrahydropyran | |
| US4820389A (en) | Novel benzaldehyde dialkyl acetals and preparation and use thereof | |
| JPS58117886A (ja) | ４−置換フエニル酢酸類の製造法 | |
| JPS62999B2 (ja) | ||
| US4441970A (en) | Electrochemical preparation of 2,5-dialkoxy-2,5-dihydrofurans | |
| US5208384A (en) | 2-methylbenzaldehyde dialkyl acetals | |
| US4475992A (en) | Cyclohexadiene derivatives and process for preparing the same | |
| US5021131A (en) | Optically pure 1,4-diols | |
| JPS58117887A (ja) | パラ置換ベンジルアルコ−ルの製造法 | |
| JPS60187689A (ja) | ３−エキソメチレンセフアム誘導体の製造法 | |
| JPS60234987A (ja) | ｍ−ハイドロオキシベンジルアルコ−ルの製造方法 | |
| EP0312604B1 (en) | 1-(2-(4-hydroxybenzoyl)ethanoyl)-2-piperidone, process for its preparation, and alcoholic fermentation accelerator containing it as effective ingredient | |
| JPH02179890A (ja) | ジヒドロキシジオンの製造方法 | |
| JP2598010B2 (ja) | エポキシケトンの開裂方法 | |
| JPS6112886A (ja) | フタルアルデヒドアセタールの製法 | |
| US3396093A (en) | Electrochemical synthesis of ketones | |
| JP5121346B2 (ja) | 光学活性プロリンエステル誘導体およびｎ−ホルミル光学活性プロリン誘導体の製造方法 | |
| JPS6039183A (ja) | テレフタルアルデヒドの製造方法 | |
| JPS5811516B2 (ja) | アルケンジオ−ルジエステルの製造方法 | |
| JPS59152389A (ja) | スルフエンイミン誘導体の製造法 | |
| JPH0526877B2 (ja) | ||
| JPH0314011B2 (ja) | ||
| JP2599746B2 (ja) | エポキシケトンの開裂法 |