JPS5214278B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS5214278B2
JPS5214278B2 JP5211175A JP5211175A JPS5214278B2 JP S5214278 B2 JPS5214278 B2 JP S5214278B2 JP 5211175 A JP5211175 A JP 5211175A JP 5211175 A JP5211175 A JP 5211175A JP S5214278 B2 JPS5214278 B2 JP S5214278B2
Authority
JP
Japan
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP5211175A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS50151997A (de
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of JPS50151997A publication Critical patent/JPS50151997A/ja
Publication of JPS5214278B2 publication Critical patent/JPS5214278B2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
    • C08G65/04—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring from cyclic ethers only
    • C08G65/06—Cyclic ethers having no atoms other than carbon and hydrogen outside the ring
    • C08G65/08—Saturated oxiranes
    • C08G65/10—Saturated oxiranes characterised by the catalysts used
    • C08G65/105—Onium compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/66—Arsenic compounds
    • C07F9/68—Arsenic compounds without As—C bonds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/90—Antimony compounds
    • C07F9/902—Compounds without antimony-carbon linkages
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F236/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds
    • C08F236/02—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds the radical having only two carbon-to-carbon double bonds
    • C08F236/04—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds the radical having only two carbon-to-carbon double bonds conjugated
    • C08F236/14—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds the radical having only two carbon-to-carbon double bonds conjugated containing elements other than carbon and hydrogen
    • C08F236/16—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds the radical having only two carbon-to-carbon double bonds conjugated containing elements other than carbon and hydrogen containing halogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/68—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the catalysts used

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Reinforced Plastic Materials (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
JP5211175A 1974-05-02 1975-05-01 Expired JPS5214278B2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US46637474A 1974-05-02 1974-05-02

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS50151997A JPS50151997A (de) 1975-12-06
JPS5214278B2 true JPS5214278B2 (de) 1977-04-20

Family

ID=23851510

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5211175A Expired JPS5214278B2 (de) 1974-05-02 1975-05-01

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JPS5214278B2 (de)
BE (1) BE828670A (de)
DE (3) DE2559833C2 (de)
FR (1) FR2269551B1 (de)
GB (2) GB1516512A (de)

Cited By (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61242615A (ja) * 1985-04-18 1986-10-28 Nippon Air Filter Kk 集塵方法及びその装置
EP0410606A2 (de) 1989-07-12 1991-01-30 Fuji Photo Film Co., Ltd. Polysiloxane und positiv arbeitende Resistmasse
JPH0347573A (ja) * 1989-07-12 1991-02-28 Ishigaki Kiko Kk 微粉体の分級方法並びにその装置
EP0629613A3 (de) * 1993-06-18 1995-06-21 Nippon Kayaku Kk Oniumsalze, Photopolymerizationsinitiator, strahlenhärtbare Mischung, die den Initiator enthält, und gehärtetes Produkt.
EP0726498A1 (de) 1995-02-10 1996-08-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Fotopolymerisierbare Zusammensetzung
EP1615073A1 (de) 2004-07-06 2006-01-11 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lichtempfindliche Zusammensetzung und diese Zusammensetzung verwendende Bildaufzeichnungsverfahren
EP1662318A1 (de) 1999-03-09 2006-05-31 Fuji Photo Film Co., Ltd. 1,3-dihydro-1-oxo-2H-Indenderivat
EP1701213A2 (de) 2005-03-08 2006-09-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lichtempfindliche Zusammensetzung
EP1707352A1 (de) 2005-03-31 2006-10-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Verfahren zur Herstellung einer Flachdruckplatte
EP1728838A1 (de) 2005-05-31 2006-12-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Tintenzusammensetzung für das Tintenstrahldruckverfahren und Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte damit
EP1955850A2 (de) 2007-02-07 2008-08-13 FUJIFILM Corporation Wartungsvorrichtung für einen Tintenstrahldruckkopf, Tintenstrahlaufzeichnungsvorrichtung und Wartungsverfahren für einen Tintenstrahldruckkopf
EP1955858A1 (de) 2007-02-06 2008-08-13 FUJIFILM Corporation Unterschichtlösung, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren und Tintenstrahlaufzeichnungsvorrichtung
EP1964893A1 (de) 2007-02-26 2008-09-03 FUJIFILM Corporation Tintenzusammensetzung, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren, gedrucktes Material und Tintensatz
EP1975213A1 (de) 2006-07-03 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Tintenzusammensetzung, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren, Druckmaterial und Verfahren zur Herstellung einer Lithographiedruckplatte
EP1975211A1 (de) 2007-03-30 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Tintenzusammensetzung, Bilderzeugungsverfahren und Bildaufzeichnungsmaterial damit
EP1975160A1 (de) 2007-03-30 2008-10-01 Fujifilm Corporation Polymerisierbare Verbindung, Polymer, Tintenzusammensetzung, gedruckte Artikel und Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren
EP1988136A1 (de) 2007-03-01 2008-11-05 FUJIFILM Corporation Tintenzusammensetzung, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren, Drucksachen, Verfahren zur Herstellung einer Flachdruckplatte und Flachdruckplatte
EP2042243A2 (de) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Beschichter und Tintenstrahlaufzeichnungsvorrichtung, die diesen Beschichter einsetzt
EP2042335A2 (de) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren
EP2042572A1 (de) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Tintenzusammensetzung, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren, Druckmaterial und Verfahren zur Herstellung eines geformten Druckmaterials
EP2088176A1 (de) 2008-02-07 2009-08-12 FUJIFILM Corporation Tintenzusammensetzung, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren, gedrucktes Material und geformtes gedrucktes Material
EP2093265A1 (de) 2008-02-25 2009-08-26 FUJIFILM Corporation Tintenstrahltintenzusammensetzung und Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren und damit gedrucktes Material
EP2100925A2 (de) 2008-03-11 2009-09-16 FUJIFILM Corporation Pigmentzusammensetzung, Tintenzusammensetzung, Drucksache, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren und Polyallylamin-Derivat
EP2105478A1 (de) 2008-03-26 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren und Tintenstrahlaufzeichnungssystem
EP2169021A1 (de) 2008-09-25 2010-03-31 Fujifilm Corporation Tintenzusammensetzung, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren und gedrucktes Material
EP2216377A1 (de) 2009-02-09 2010-08-11 FUJIFILM Corporation Tintenzusammensetzung und Tintenaufzeichnungsverfahren
EP2216378A1 (de) 2009-02-05 2010-08-11 Fujifilm Corporation Nichtwässrige Tinte, Bildaufzeichnungsverfahren, Bildaufzeichnungsvorrichtung und aufgezeichneter Artikel
EP2230285A1 (de) 2009-03-19 2010-09-22 Fujifilm Corporation Tintenzusammensetzung, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren, Druckmaterial und Verfahren zur Herstellung eines geformten Druckmaterials
EP2230284A1 (de) 2009-03-17 2010-09-22 Fujifilm Corporation Composition d'encre et procédé d'enregistrement à jet d'encre
EP2236570A2 (de) 2009-03-31 2010-10-06 Fujifilm Corporation Composition d'encre, composition d'encre pour enregistrement à jet d'encre, procédé d'enregistrement à jet d'encre et article imprimé obtenu par le procédé d'enregistrement à jet d'encre
EP2239295A2 (de) 2009-04-06 2010-10-13 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Strahlenhärtbare Silikonzusammensetzung
EP2298841A1 (de) 2009-09-18 2011-03-23 FUJIFILM Corporation Tintenzusammensetzung und Tintenaufzeichnungsverfahren
EP2311918A1 (de) 2009-09-29 2011-04-20 FUJIFILM Corporation Tintenzusammensetzung und Tintenaufzeichnungsverfahren
EP2644664A1 (de) 2012-03-29 2013-10-02 Fujifilm Corporation Durch aktinische Strahlung härtbare Tintenzusammensetzung, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren, Dekorfolie, Dekorfolienformprodukt, Verfahren zur Herstellung eines In-Mold-Formartikels sowie In-Mold-Formartikel
WO2014136923A1 (ja) 2013-03-07 2014-09-12 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成型印刷物の製造方法
EP2842763A2 (de) 2013-08-30 2015-03-04 Fujifilm Corporation Bilderzeugungsverfahren, Dekorfolie, Dekorfolienformung, Verfahren zur Herstellung eines in einer Form geformten Produktes, in einer Form geformtes Produkt und Tintensatz

Families Citing this family (73)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4256828A (en) * 1975-09-02 1981-03-17 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photocopolymerizable compositions based on epoxy and hydroxyl-containing organic materials
AU517415B2 (en) * 1976-07-09 1981-07-30 General Electric Company Curable polymer composition
US4108747A (en) * 1976-07-14 1978-08-22 General Electric Company Curable compositions and method for curing such compositions
US4090936A (en) 1976-10-28 1978-05-23 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photohardenable compositions
US4101513A (en) * 1977-02-02 1978-07-18 Minnesota Mining And Manufacturing Company Catalyst for condensation of hydrolyzable silanes and storage stable compositions thereof
US4102687A (en) * 1977-02-14 1978-07-25 General Electric Company UV Curable composition of a thermosetting condensation resin and Group VIa onium salt
GB1604954A (en) * 1977-08-05 1981-12-16 Gen Electric Photocurable compositions and method for curing
GB1604953A (en) * 1977-08-05 1981-12-16 Gen Electric Photocurable compositions and method for curing
GB1596000A (en) * 1977-09-14 1981-08-19 Gen Electric Heterocyclic onium salts their preparation and their use for photopolymerisable organic materials
US4246298A (en) * 1979-03-14 1981-01-20 American Can Company Rapid curing of epoxy resin coating compositions by combination of photoinitiation and controlled heat application
US4299938A (en) * 1979-06-19 1981-11-10 Ciba-Geigy Corporation Photopolymerizable and thermally polymerizable compositions
US4319974A (en) 1980-04-21 1982-03-16 General Electric Company UV Curable compositions and substrates treated therewith
US4387216A (en) 1981-05-06 1983-06-07 Ciba-Geigy Corporation Heat-polymerizable compositions comprising epoxide resins, aromatic sulfoxonium salts, and organic oxidants
DE3135636A1 (de) 1981-09-09 1983-03-17 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Haertbare epoxidharze
GB2139369B (en) * 1983-05-06 1987-01-21 Sericol Group Ltd Photosensitive systems showing visible indication of exposure
JPS61190524A (ja) * 1985-01-25 1986-08-25 Asahi Denka Kogyo Kk エネルギ−線硬化性組成物
JPS61261365A (ja) * 1985-05-14 1986-11-19 Nippon Oil Co Ltd 光硬化性被覆組成物
DE3604580A1 (de) * 1986-02-14 1987-08-20 Basf Ag Haertbare mischungen, enthaltend n-sulfonylaminosulfoniumsalze als kationisch wirksame katalysatoren
US4751138A (en) 1986-08-11 1988-06-14 Minnesota Mining And Manufacturing Company Coated abrasive having radiation curable binder
US5399596A (en) * 1988-03-03 1995-03-21 Sanshin Kagaku Kogyo Co., Ltd. Polyfluoride sulfonium compounds and polymerization initiator thereof
US4882201A (en) * 1988-03-21 1989-11-21 General Electric Company Non-toxic aryl onium salts, UV curable coating compositions and food packaging use
US4871786A (en) * 1988-10-03 1989-10-03 Minnesota Mining And Manufacturing Company Organic fluoride sources
US5047568A (en) * 1988-11-18 1991-09-10 International Business Machines Corporation Sulfonium salts and use and preparation thereof
DE3902114A1 (de) * 1989-01-25 1990-08-02 Basf Ag Strahlungsempfindliche, ethylenisch ungesaettigte, copolymerisierbare sulfoniumsalze und verfahren zu deren herstellung
DE3933420C1 (de) * 1989-10-06 1991-03-07 Th. Goldschmidt Ag, 4300 Essen, De
JP2697937B2 (ja) * 1989-12-15 1998-01-19 キヤノン株式会社 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物
KR960000980B1 (ko) * 1990-03-27 1996-01-15 가부시기가이샤 히다찌 세이사꾸쇼 무전해도금용 기재 접착제, 이 접착제를 사용한 프린트 회로판 및 이의 용도
US5108859A (en) * 1990-04-16 1992-04-28 Eastman Kodak Company Photoelectrographic elements and imaging method
DE4027437C1 (en) * 1990-08-30 1991-08-29 Th. Goldschmidt Ag, 4300 Essen, De Cationically curable organo-polysiloxane(s) - used as coating materials for laminar supports or modifying additives for cationically curable cpds.
DE4027438C1 (en) * 1990-08-30 1991-08-29 Th. Goldschmidt Ag, 4300 Essen, De Cationically curable organo-polysiloxane cpd. prodn. - by reacting di:hydro:propane with an organo-polysiloxane in presence of catalyst at elevated temp.
EP0503774B1 (de) * 1991-02-16 1997-05-14 Canon Kabushiki Kaisha Optisches Aufzeichnungsmedium
US5166126A (en) * 1992-02-19 1992-11-24 Eastman Kodak Company Color filter array element with protective overcoat layer and method of forming same
US5166125A (en) * 1992-02-19 1992-11-24 Eastman Kodak Company Method of forming color filter array element with patternable overcoat layer
US5466845A (en) * 1992-06-12 1995-11-14 Wacker-Chemie Gmbh Sulfonium salts and process for their preparation
GB9309275D0 (en) * 1993-05-05 1993-06-16 Smith & Nephew Orthopaedic material
EP0927726B1 (de) 1996-09-19 2004-11-10 Nippon Soda Co., Ltd. Photokatalytische zusammensetzung
JPH1087963A (ja) * 1996-09-20 1998-04-07 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 樹脂組成物および繊維質材料成形型
JP3786480B2 (ja) * 1996-10-14 2006-06-14 Ｊｓｒ株式会社 光硬化性樹脂組成物
JP3626302B2 (ja) * 1996-12-10 2005-03-09 Ｊｓｒ株式会社 光硬化性樹脂組成物
JP3765896B2 (ja) 1996-12-13 2006-04-12 Ｊｓｒ株式会社 光学的立体造形用光硬化性樹脂組成物
FR2794126B1 (fr) * 1999-05-26 2003-07-18 Gemplus Card Int Nouvelle composition adhesive et conductrice, procede de connexion, procede de constitution de composants electriques ou electroniques, utilisation de cette composition, element conducteur
JP2003073481A (ja) 2001-09-06 2003-03-12 Brother Ind Ltd 活性エネルギー線硬化型組成物、それを含有するインク及びそのインクを使用するプリンタ
JP2003105077A (ja) 2001-09-28 2003-04-09 Brother Ind Ltd 活性エネルギー線硬化型組成物、それを含有するインク及びそのインクを使用するプリンタ
JP4701231B2 (ja) * 2002-02-13 2011-06-15 富士フイルム株式会社 電子線、ｅｕｖ又はｘ線用ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
CN1854133B (zh) 2002-03-04 2010-11-10 和光纯药工业株式会社 含杂环碘鎓盐
EP1348727A3 (de) 2002-03-29 2003-12-03 Brother Kogyo Kabushiki Kaisha Bildempfangsschichtzusammensetzung und Schutzschichtzusammensetzung für Tintenstrahlaufzeichnungsmedien
JP4533639B2 (ja) * 2003-07-22 2010-09-01 富士フイルム株式会社 感刺激性組成物、化合物及び該感刺激性組成物を用いたパターン形成方法
JP2007254454A (ja) * 2006-02-23 2007-10-04 Fujifilm Corp スルホニウム塩、硬化性組成物、インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び、平版印刷版
TW200838967A (en) 2007-02-02 2008-10-01 Jsr Corp Composition for radiation-curable adhesive, composite, and method for producing the composite
JP5208573B2 (ja) 2008-05-06 2013-06-12 サンアプロ株式会社 スルホニウム塩、光酸発生剤、光硬化性組成物及びこの硬化体
US8617787B2 (en) 2009-02-20 2013-12-31 San-Apro, Ltd. Sulfonium salt, photo-acid generator, and photosensitive resin composition
CN102576812B (zh) 2009-10-01 2016-03-16 日立化成株式会社 有机电子用材料、有机电子元件、有机电致发光元件以及使用其的显示元件、照明装置、显示装置
WO2011132702A1 (ja) 2010-04-22 2011-10-27 日立化成工業株式会社 有機エレクトロニクス材料、重合開始剤及び熱重合開始剤、インク組成物、有機薄膜及びその製造方法、有機エレクトロニクス素子、有機エレクトロルミネセンス素子、照明装置、表示素子、並びに表示装置
JP5622564B2 (ja) 2010-06-30 2014-11-12 富士フイルム株式会社 感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子
WO2013172407A1 (ja) 2012-05-18 2013-11-21 シーメット株式会社 光学的立体造形用樹脂組成物
KR101959107B1 (ko) 2012-10-18 2019-03-15 산아프로 가부시키가이샤 술포늄염, 광산 발생제, 경화성 조성물 및 레지스트 조성물
US9465288B2 (en) 2012-12-07 2016-10-11 Dsp Gokyo Food & Chemical Co., Ltd. Sulfonium salt compound, method for producing the same, and photoacid generator
EP2966942A4 (de) 2013-03-08 2016-12-07 Hitachi Chemical Co Ltd Behandlungslösung mit ionischer verbindung, organisches elektronisches element und verfahren zur herstellung eines organischen elektronischen elements
EP3018182A4 (de) 2013-07-05 2016-12-07 San-Apro Ltd Fotosäuregenerator und harzzusammensetzung für fotolithografie
KR102290265B1 (ko) 2013-11-25 2021-08-13 후지필름 와코 준야쿠 가부시키가이샤 산 및 라디칼 발생제, 그리고 산 및 라디칼 발생 방법
TWI623519B (zh) * 2014-02-19 2018-05-11 日本化藥股份有限公司 新穎化合物、含有該化合物之光酸產生劑及含有該光酸產生劑之感光性樹脂組合物
JP6195413B2 (ja) 2014-03-05 2017-09-13 信越化学工業株式会社 放射線硬化性シリコーン組成物
TWI673258B (zh) 2014-09-26 2019-10-01 日商東京應化工業股份有限公司 硫鎓鹽、光酸產生劑、及感光性組成物
US10450266B2 (en) 2014-11-07 2019-10-22 San-Apro Limited Sulfonate compound, photoacid generator, and resin composition for photolithography
JP6708382B2 (ja) 2015-09-03 2020-06-10 サンアプロ株式会社 硬化性組成物及びそれを用いた硬化体
KR102272225B1 (ko) 2016-06-09 2021-07-01 산아프로 가부시키가이샤 술포늄염, 광산 발생제, 경화성 조성물 및 레지스트 조성물
US10683266B2 (en) 2016-06-29 2020-06-16 San Apro Ltd. Sulfonium salt, photoacid generator, photocurable composition, and cured product thereof
KR102321241B1 (ko) 2016-07-28 2021-11-02 산아프로 가부시키가이샤 술포늄염, 열 또는 광산 발생제, 열 또는 광 경화성 조성물 및 그 경화체
JP6591699B2 (ja) 2016-12-12 2019-10-16 サンアプロ株式会社 光酸発生剤及びフォトリソグラフィー用樹脂組成物
CN111788181B (zh) 2018-05-25 2023-01-17 三亚普罗股份有限公司 锍盐、光酸产生剂、固化性组合物和抗蚀剂组合物
JP7116669B2 (ja) 2018-11-22 2022-08-10 サンアプロ株式会社 光酸発生剤及びフォトリソグラフィー用樹脂組成物
JP7444791B2 (ja) * 2019-01-10 2024-03-06 サンアプロ株式会社 スルホニウム塩、光酸発生剤、硬化性組成物およびレジスト組成物
KR20220154085A (ko) 2020-03-17 2022-11-21 산아프로 가부시키가이샤 술포늄염, 광산 발생제, 경화성 조성물 및 레지스트 조성물

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3412046A (en) 1965-07-01 1968-11-19 Dexter Corp Catalyzed polyepoxide-anhydride resin systems

Cited By (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61242615A (ja) * 1985-04-18 1986-10-28 Nippon Air Filter Kk 集塵方法及びその装置
EP0410606A2 (de) 1989-07-12 1991-01-30 Fuji Photo Film Co., Ltd. Polysiloxane und positiv arbeitende Resistmasse
JPH0347573A (ja) * 1989-07-12 1991-02-28 Ishigaki Kiko Kk 微粉体の分級方法並びにその装置
EP0629613A3 (de) * 1993-06-18 1995-06-21 Nippon Kayaku Kk Oniumsalze, Photopolymerizationsinitiator, strahlenhärtbare Mischung, die den Initiator enthält, und gehärtetes Produkt.
EP0726498A1 (de) 1995-02-10 1996-08-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Fotopolymerisierbare Zusammensetzung
EP1662318A1 (de) 1999-03-09 2006-05-31 Fuji Photo Film Co., Ltd. 1,3-dihydro-1-oxo-2H-Indenderivat
EP1615073A1 (de) 2004-07-06 2006-01-11 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lichtempfindliche Zusammensetzung und diese Zusammensetzung verwendende Bildaufzeichnungsverfahren
EP1701213A2 (de) 2005-03-08 2006-09-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lichtempfindliche Zusammensetzung
EP1707352A1 (de) 2005-03-31 2006-10-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Verfahren zur Herstellung einer Flachdruckplatte
EP1728838A1 (de) 2005-05-31 2006-12-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Tintenzusammensetzung für das Tintenstrahldruckverfahren und Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte damit
EP1975213A1 (de) 2006-07-03 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Tintenzusammensetzung, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren, Druckmaterial und Verfahren zur Herstellung einer Lithographiedruckplatte
EP1955858A1 (de) 2007-02-06 2008-08-13 FUJIFILM Corporation Unterschichtlösung, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren und Tintenstrahlaufzeichnungsvorrichtung
EP1955850A2 (de) 2007-02-07 2008-08-13 FUJIFILM Corporation Wartungsvorrichtung für einen Tintenstrahldruckkopf, Tintenstrahlaufzeichnungsvorrichtung und Wartungsverfahren für einen Tintenstrahldruckkopf
EP1964893A1 (de) 2007-02-26 2008-09-03 FUJIFILM Corporation Tintenzusammensetzung, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren, gedrucktes Material und Tintensatz
EP1988136A1 (de) 2007-03-01 2008-11-05 FUJIFILM Corporation Tintenzusammensetzung, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren, Drucksachen, Verfahren zur Herstellung einer Flachdruckplatte und Flachdruckplatte
EP1975211A1 (de) 2007-03-30 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Tintenzusammensetzung, Bilderzeugungsverfahren und Bildaufzeichnungsmaterial damit
EP1975160A1 (de) 2007-03-30 2008-10-01 Fujifilm Corporation Polymerisierbare Verbindung, Polymer, Tintenzusammensetzung, gedruckte Artikel und Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren
EP2042335A2 (de) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren
EP2042243A2 (de) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Beschichter und Tintenstrahlaufzeichnungsvorrichtung, die diesen Beschichter einsetzt
EP2042572A1 (de) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Tintenzusammensetzung, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren, Druckmaterial und Verfahren zur Herstellung eines geformten Druckmaterials
EP2088176A1 (de) 2008-02-07 2009-08-12 FUJIFILM Corporation Tintenzusammensetzung, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren, gedrucktes Material und geformtes gedrucktes Material
EP2093265A1 (de) 2008-02-25 2009-08-26 FUJIFILM Corporation Tintenstrahltintenzusammensetzung und Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren und damit gedrucktes Material
EP2100925A2 (de) 2008-03-11 2009-09-16 FUJIFILM Corporation Pigmentzusammensetzung, Tintenzusammensetzung, Drucksache, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren und Polyallylamin-Derivat
EP2105478A1 (de) 2008-03-26 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren und Tintenstrahlaufzeichnungssystem
EP2169021A1 (de) 2008-09-25 2010-03-31 Fujifilm Corporation Tintenzusammensetzung, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren und gedrucktes Material
EP2216378A1 (de) 2009-02-05 2010-08-11 Fujifilm Corporation Nichtwässrige Tinte, Bildaufzeichnungsverfahren, Bildaufzeichnungsvorrichtung und aufgezeichneter Artikel
EP2216377A1 (de) 2009-02-09 2010-08-11 FUJIFILM Corporation Tintenzusammensetzung und Tintenaufzeichnungsverfahren
EP2230284A1 (de) 2009-03-17 2010-09-22 Fujifilm Corporation Composition d'encre et procédé d'enregistrement à jet d'encre
EP2230285A1 (de) 2009-03-19 2010-09-22 Fujifilm Corporation Tintenzusammensetzung, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren, Druckmaterial und Verfahren zur Herstellung eines geformten Druckmaterials
EP2236570A2 (de) 2009-03-31 2010-10-06 Fujifilm Corporation Composition d'encre, composition d'encre pour enregistrement à jet d'encre, procédé d'enregistrement à jet d'encre et article imprimé obtenu par le procédé d'enregistrement à jet d'encre
EP2239295A2 (de) 2009-04-06 2010-10-13 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Strahlenhärtbare Silikonzusammensetzung
EP2298841A1 (de) 2009-09-18 2011-03-23 FUJIFILM Corporation Tintenzusammensetzung und Tintenaufzeichnungsverfahren
EP2311918A1 (de) 2009-09-29 2011-04-20 FUJIFILM Corporation Tintenzusammensetzung und Tintenaufzeichnungsverfahren
EP2644664A1 (de) 2012-03-29 2013-10-02 Fujifilm Corporation Durch aktinische Strahlung härtbare Tintenzusammensetzung, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren, Dekorfolie, Dekorfolienformprodukt, Verfahren zur Herstellung eines In-Mold-Formartikels sowie In-Mold-Formartikel
WO2014136923A1 (ja) 2013-03-07 2014-09-12 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成型印刷物の製造方法
EP2842763A2 (de) 2013-08-30 2015-03-04 Fujifilm Corporation Bilderzeugungsverfahren, Dekorfolie, Dekorfolienformung, Verfahren zur Herstellung eines in einer Form geformten Produktes, in einer Form geformtes Produkt und Tintensatz

Also Published As

Publication number Publication date
DE2518652A1 (de) 1975-11-06
BE828670A (fr) 1975-09-01
GB1516511A (en) 1978-07-05
DE2559718C2 (de) 1983-08-04
FR2269551A1 (de) 1975-11-28
DE2518652C2 (de) 1983-05-11
GB1516512A (en) 1978-07-05
JPS50151997A (de) 1975-12-06
FR2269551B1 (de) 1978-09-01
DE2559718A1 (de) 1977-08-18
DE2559833C2 (de) 1983-12-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS5214278B2 (de)
FR2269553A1 (de)
FR2269020A1 (de)
FR2294072B1 (de)
FR2283426B3 (de)
FR2284151B1 (de)
FR2267826A2 (de)
FR2284265B1 (de)
JPS50113584A (de)
JPS50108523A (de)
JPS50103263A (de)
JPS50109764U (de)
JPS50110436U (de)
JPS50112180U (de)
JPS50119548A (de)
JPS50123038U (de)
DK33574A (de)
BR5408676U (de)
CH571414A5 (de)
CH435974A4 (de)
CH572860A5 (de)
CH572415A5 (de)
CH572116A5 (de)
CH571903A5 (de)
CH573583A5 (de)