JPH1197778A - レーザ装置 - Google Patents
レーザ装置Info
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- JPH1197778A JPH1197778A JP25572597A JP25572597A JPH1197778A JP H1197778 A JPH1197778 A JP H1197778A JP 25572597 A JP25572597 A JP 25572597A JP 25572597 A JP25572597 A JP 25572597A JP H1197778 A JPH1197778 A JP H1197778A
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- light
- total reflection
- reflection mirror
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Abstract
(57)【要約】
【課題】容易にかつ高精度に光軸を調整することが可能
なレーザ装置を提供すること。 【解決手段】本発明のレーザ装置１１は、レーザ光１６
を出力するレーザ発生部１２、前記レーザ発生部１２か
らのレーザ光１６を反射光１７と光学部品調整用透過光
１８とに分離する全反射ミラー１３、前記全反射ミラー
１３を、レーザ光１６の光軸上の光学部品調整用位置
と、レーザ光１６の光軸から離れたレーザ装置駆動用位
置との間を移動させ、切り替える手段１５、及び前記反
射光１７を吸収するビームダンパ１４を具備することを
特徴とする。
なレーザ装置を提供すること。 【解決手段】本発明のレーザ装置１１は、レーザ光１６
を出力するレーザ発生部１２、前記レーザ発生部１２か
らのレーザ光１６を反射光１７と光学部品調整用透過光
１８とに分離する全反射ミラー１３、前記全反射ミラー
１３を、レーザ光１６の光軸上の光学部品調整用位置
と、レーザ光１６の光軸から離れたレーザ装置駆動用位
置との間を移動させ、切り替える手段１５、及び前記反
射光１７を吸収するビームダンパ１４を具備することを
特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ装置に係
り、特に、光軸の調節を行うための部材を有するレーザ
装置に関する。
り、特に、光軸の調節を行うための部材を有するレーザ
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】レーザ装置から出力されるレーザ光を利
用するためには、通常、レーザ装置の出力部に対して様
々な光学部品を設置し、それらの配置等を調整する必要
がある。しかしながら、レーザ光の強度が数十Ｗ以上に
及ぶ場合、調整が不十分で光学部品に適切にレーザ光が
照射されないと、光学部品を保持するホルダー等にレー
ザ光が照射されて光学部品が破損されるおそれがあっ
た。
用するためには、通常、レーザ装置の出力部に対して様
々な光学部品を設置し、それらの配置等を調整する必要
がある。しかしながら、レーザ光の強度が数十Ｗ以上に
及ぶ場合、調整が不十分で光学部品に適切にレーザ光が
照射されないと、光学部品を保持するホルダー等にレー
ザ光が照射されて光学部品が破損されるおそれがあっ
た。
【０００３】このような問題に対して、従来、図３に示
すレーザ装置が用いられていた。図３において、レーザ
装置３１は、レーザ発生部３２、ガイド光用レーザ発生
部３３、及びガイド光用レーザ発生部から出力されるガ
イド光３４をレーザ装置３１へと導くミラー３５、３６
で構成されている。ガイド光用レーザ発生部３３には、
通常、Ｈｅ−Ｎｅレーザ等が用いられ、このガイド光用
レーザ発生部３３は、レーザ発生部３２から出力される
レーザ光３７に比べて非常に弱い強度のガイド光３４を
出力する。また、ガイド光用レーザ発生部から出力され
るガイド光３４は、レーザ発生部３２から出力されるレ
ーザ光３７と光軸が一致するように、ミラー３５、３６
等により調整されている。
すレーザ装置が用いられていた。図３において、レーザ
装置３１は、レーザ発生部３２、ガイド光用レーザ発生
部３３、及びガイド光用レーザ発生部から出力されるガ
イド光３４をレーザ装置３１へと導くミラー３５、３６
で構成されている。ガイド光用レーザ発生部３３には、
通常、Ｈｅ−Ｎｅレーザ等が用いられ、このガイド光用
レーザ発生部３３は、レーザ発生部３２から出力される
レーザ光３７に比べて非常に弱い強度のガイド光３４を
出力する。また、ガイド光用レーザ発生部から出力され
るガイド光３４は、レーザ発生部３２から出力されるレ
ーザ光３７と光軸が一致するように、ミラー３５、３６
等により調整されている。
【０００４】このレーザ装置３１によると、レーザ発生
部３２でのレーザ光３７の発生を停止した状態で、ガイ
ド光用レーザ発生部３３からガイド光３４を出力するこ
とにより、光学部品の配置等を安全に調整することがで
きる。
部３２でのレーザ光３７の発生を停止した状態で、ガイ
ド光用レーザ発生部３３からガイド光３４を出力するこ
とにより、光学部品の配置等を安全に調整することがで
きる。
【０００５】しかしながら、このようなレーザ装置３１
では、ゲイン長の長いレーザ光、特に縦励起のガスレー
ザ光が用いられた場合、ガイド光３４とレーザ発生部３
２から出力されるレーザ光３７との間で光軸を合わせる
こと、すなわち予備調整を行う必要があり、かつこの予
備調整は非常に困難である。
では、ゲイン長の長いレーザ光、特に縦励起のガスレー
ザ光が用いられた場合、ガイド光３４とレーザ発生部３
２から出力されるレーザ光３７との間で光軸を合わせる
こと、すなわち予備調整を行う必要があり、かつこの予
備調整は非常に困難である。
【０００６】また、レーザ発生部３２から出力されるレ
ーザ光３７の種類によっては、レーザ光３７が通過する
ガラス部品において、透過部と非透過部との間で温度勾
配が生じ易く、熱レンズ効果を生じる場合がある。この
ような場合、レーザ発生部３２を停止した状態で調節し
たガイド光３４の光軸は、レーザ発生部３２から出力さ
れるレーザ光３７の光軸とは一致しない。したがって、
従来のレーザ装置３１では高精度に光軸の調整を行うこ
とができない。
ーザ光３７の種類によっては、レーザ光３７が通過する
ガラス部品において、透過部と非透過部との間で温度勾
配が生じ易く、熱レンズ効果を生じる場合がある。この
ような場合、レーザ発生部３２を停止した状態で調節し
たガイド光３４の光軸は、レーザ発生部３２から出力さ
れるレーザ光３７の光軸とは一致しない。したがって、
従来のレーザ装置３１では高精度に光軸の調整を行うこ
とができない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題を
解決するためになされたものであり、容易にかつ高精度
に光軸を調整することが可能なレーザ装置を提供するこ
とを目的とする。
解決するためになされたものであり、容易にかつ高精度
に光軸を調整することが可能なレーザ装置を提供するこ
とを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、レーザ光を出
力するレーザ発生部、前記レーザ発生部からのレーザ光
を反射光と光学部品調整用透過光とに分離する全反射ミ
ラー、前記全反射ミラーを、レーザ光の光軸上の光学部
品調整用位置と、レーザ光の光軸から離れたレーザ装置
駆動用位置との間を移動させ、切り替える手段、及び前
記反射光を吸収するビームダンパを具備することを特徴
とするレーザ装置を提供する。
力するレーザ発生部、前記レーザ発生部からのレーザ光
を反射光と光学部品調整用透過光とに分離する全反射ミ
ラー、前記全反射ミラーを、レーザ光の光軸上の光学部
品調整用位置と、レーザ光の光軸から離れたレーザ装置
駆動用位置との間を移動させ、切り替える手段、及び前
記反射光を吸収するビームダンパを具備することを特徴
とするレーザ装置を提供する。
【０００９】本発明は、上記レーザ装置において、前記
全反射ミラーが、前記レーザ光の一部を散乱させること
なく透過させることを特徴とする。本発明は、上記レー
ザ装置において、前記透過光の強度が、前記レーザ発生
部から出力されるレーザ光の強度の１０％以下であるこ
とを特徴とする。
全反射ミラーが、前記レーザ光の一部を散乱させること
なく透過させることを特徴とする。本発明は、上記レー
ザ装置において、前記透過光の強度が、前記レーザ発生
部から出力されるレーザ光の強度の１０％以下であるこ
とを特徴とする。
【００１０】本発明は、上記レーザ装置において、前記
全反射ミラーが、前記レーザ光を反射する面の裏面に、
前記透過光を散乱させることなく、強度を低減するコー
ティングを具備することを特徴とする。
全反射ミラーが、前記レーザ光を反射する面の裏面に、
前記透過光を散乱させることなく、強度を低減するコー
ティングを具備することを特徴とする。
【００１１】本発明は、上記レーザ装置において、前記
全反射ミラーを透過することで屈折作用によりずれたビ
ーム位置を補正するための光学素子を具備することを特
徴とする。
全反射ミラーを透過することで屈折作用によりずれたビ
ーム位置を補正するための光学素子を具備することを特
徴とする。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明のレーザ装置につい
て、図面を参照しながらより詳細に説明する。図１に、
本発明のレーザ装置の概略を示す。この図で、レーザ装
置１１は、レーザ発生部１２、ミラー保持部１５に保持
された全反射ミラー１３、及びビームダンパ１４で構成
されている。
て、図面を参照しながらより詳細に説明する。図１に、
本発明のレーザ装置の概略を示す。この図で、レーザ装
置１１は、レーザ発生部１２、ミラー保持部１５に保持
された全反射ミラー１３、及びビームダンパ１４で構成
されている。
【００１３】これらレーザ発生部１２、全反射ミラー１
３、及びビームダンパ１４は、通常、定盤上に設置され
る。全反射ミラー１３は可動であって、光学部品等の調
整の際には、レーザ発生部１２から出力されるレーザ光
１６の光軸上に配置され、実際に使用する際には、レー
ザ光１６の光軸から離れて配置される。ビームダンパ１
４は、位置を固定されていてもよく、可動であってもよ
い。
３、及びビームダンパ１４は、通常、定盤上に設置され
る。全反射ミラー１３は可動であって、光学部品等の調
整の際には、レーザ発生部１２から出力されるレーザ光
１６の光軸上に配置され、実際に使用する際には、レー
ザ光１６の光軸から離れて配置される。ビームダンパ１
４は、位置を固定されていてもよく、可動であってもよ
い。
【００１４】全反射ミラー１３は、反射面がレーザ光１
６の光軸に対して０°より大きく９０°未満、好ましく
は、４５°以下の角度をなすように配置される。また、
ビームダンパ１４は、全反射ミラー１３で反射されたレ
ーザ光１６、すなわち反射光１７の光軸上に配置され
る。したがって、反射光１７はビームダンパ１４に吸収
される。
６の光軸に対して０°より大きく９０°未満、好ましく
は、４５°以下の角度をなすように配置される。また、
ビームダンパ１４は、全反射ミラー１３で反射されたレ
ーザ光１６、すなわち反射光１７の光軸上に配置され
る。したがって、反射光１７はビームダンパ１４に吸収
される。
【００１５】レーザ発生部１２から出力されるレーザ光
１６に特に制限はないが、銅蒸気レーザ、金蒸気レー
ザ、及び色素レーザ等の可視光領域のレーザ光であるこ
とが好ましい。レーザ光１６が可視光領域のレーザ光で
ある場合、光学部品の配置等の調整を容易に行うことが
できる。
１６に特に制限はないが、銅蒸気レーザ、金蒸気レー
ザ、及び色素レーザ等の可視光領域のレーザ光であるこ
とが好ましい。レーザ光１６が可視光領域のレーザ光で
ある場合、光学部品の配置等の調整を容易に行うことが
できる。
【００１６】全反射ミラー１３は、僅かではあるが光透
過性を有している。したがって、レーザ発生部１２から
出力されるレーザ光１６は、全反射ミラー１３により、
反射光１７と強度の弱い透過光１８とに分離される。
過性を有している。したがって、レーザ発生部１２から
出力されるレーザ光１６は、全反射ミラー１３により、
反射光１７と強度の弱い透過光１８とに分離される。
【００１７】この透過光１８は、レーザ光１６の光軸に
対して、様々な光学部品の配置等を調整するのに用いら
れる。したがって、本発明のレーザ装置１１によると、
光学部品の配置等の調整に調整用のガイド光を出力する
ガイド光用レーザ発生装置を用いる必要がなく、ガイド
光の光軸と実際に使用するレーザ光１６の光軸とを一致
させるための予備調整の必要がない。また、ガイド光を
用いずに、実際に使用するレーザ光１６の強度を低減し
て光学部品の配置等の調整が行われるため、熱レンズ効
果の有無による光軸のズレの問題も生じない。したがっ
て、容易にかつ高精度に光軸を調整することが可能とな
る。
対して、様々な光学部品の配置等を調整するのに用いら
れる。したがって、本発明のレーザ装置１１によると、
光学部品の配置等の調整に調整用のガイド光を出力する
ガイド光用レーザ発生装置を用いる必要がなく、ガイド
光の光軸と実際に使用するレーザ光１６の光軸とを一致
させるための予備調整の必要がない。また、ガイド光を
用いずに、実際に使用するレーザ光１６の強度を低減し
て光学部品の配置等の調整が行われるため、熱レンズ効
果の有無による光軸のズレの問題も生じない。したがっ
て、容易にかつ高精度に光軸を調整することが可能とな
る。
【００１８】より高精度な光軸の調整を行うために、ビ
ーム位置補正用光学素子１９を設けて透過光１８の光軸
を補正することが好ましい。上述の全反射ミラー１３は
ある程度の厚さを有しているため、レーザ光１６は全反
射ミラー１３への入射時及び出射時に屈折して、透過光
１８として出射される。その結果、レーザ光１６と透過
光１８とで、光軸のずれを生ずる。なお、このとき、レ
ーザ光１６と透過光１８とで進行方向にずれを生じるこ
とはない。
ーム位置補正用光学素子１９を設けて透過光１８の光軸
を補正することが好ましい。上述の全反射ミラー１３は
ある程度の厚さを有しているため、レーザ光１６は全反
射ミラー１３への入射時及び出射時に屈折して、透過光
１８として出射される。その結果、レーザ光１６と透過
光１８とで、光軸のずれを生ずる。なお、このとき、レ
ーザ光１６と透過光１８とで進行方向にずれを生じるこ
とはない。
【００１９】それに対し、ビーム位置補正用光学素子１
９を設けることにより、このようなレーザ光１６と透過
光１８とでの光軸のずれが補正されるため、より高精度
に光軸を調整することができる。
９を設けることにより、このようなレーザ光１６と透過
光１８とでの光軸のずれが補正されるため、より高精度
に光軸を調整することができる。
【００２０】ビーム位置補正用光学素子１９は、透過光
１８の光軸をレーザ光１６の光軸と一致させることがで
きるものであれば特に制限はない。例えば、ビーム位置
補正用光学素子１９を、全反射ミラー１３と同じ材質、
厚さで構成することができる。このようなビーム位置補
正用光学素子１９を用いた場合、その主面が、レーザ光
１６の光軸に垂直な平面に関して、全反射ミラー１３の
主面と対称となるように配置することにより、透過光１
８の光軸をレーザ光１６の光軸に容易にかつ正確に一致
させることができる。
１８の光軸をレーザ光１６の光軸と一致させることがで
きるものであれば特に制限はない。例えば、ビーム位置
補正用光学素子１９を、全反射ミラー１３と同じ材質、
厚さで構成することができる。このようなビーム位置補
正用光学素子１９を用いた場合、その主面が、レーザ光
１６の光軸に垂直な平面に関して、全反射ミラー１３の
主面と対称となるように配置することにより、透過光１
８の光軸をレーザ光１６の光軸に容易にかつ正確に一致
させることができる。
【００２１】このように、本発明のレーザ装置１１によ
ると、強度を低減されたレーザ光１６、すなわち透過光
１８を用いることにより光軸の調整が行われる。したが
って、透過光１８の強度は、上記調整を安全にかつ高精
度に行える程度に低減される必要がある。透過光１８の
強度は、レーザ光１６の強度により異なるが、一般に、
レーザ光１６の強度の１０％以下であることが好まし
く、透過光の強度が人体に害を及ぼさない程度に設定す
ることが最も好ましい。
ると、強度を低減されたレーザ光１６、すなわち透過光
１８を用いることにより光軸の調整が行われる。したが
って、透過光１８の強度は、上記調整を安全にかつ高精
度に行える程度に低減される必要がある。透過光１８の
強度は、レーザ光１６の強度により異なるが、一般に、
レーザ光１６の強度の１０％以下であることが好まし
く、透過光の強度が人体に害を及ぼさない程度に設定す
ることが最も好ましい。
【００２２】透過光１８の強度は、全反射ミラー１３の
鏡面での反射率を制御することにより調節することがで
きる。上記調整を行うのに適した透過光１８の強度を得
るためには、全反射ミラー１３の反射率を９９．５％〜
９９．９％程度とすることが好ましい。
鏡面での反射率を制御することにより調節することがで
きる。上記調整を行うのに適した透過光１８の強度を得
るためには、全反射ミラー１３の反射率を９９．５％〜
９９．９％程度とすることが好ましい。
【００２３】透過光１８の強度は、この方法の他に、全
反射ミラー１３の反射面の裏面にコーティングを施し
て、鏡面を透過したレーザ光１６の一部をさらに反射或
いは吸収させることにより調節することができる。この
コーティングとして、金属コーティング及び誘電体コー
ティング等を挙げることができる。透過光１８の強度
は、コーティングに用いる材料及びコーティング厚によ
り制御することができる。コーティングにより減少する
透過光１８の強度は、用いる材料及び厚さにより異なる
が、コーティングを設けない場合に比べて１％〜１０％
程度に低減することができる。
反射ミラー１３の反射面の裏面にコーティングを施し
て、鏡面を透過したレーザ光１６の一部をさらに反射或
いは吸収させることにより調節することができる。この
コーティングとして、金属コーティング及び誘電体コー
ティング等を挙げることができる。透過光１８の強度
は、コーティングに用いる材料及びコーティング厚によ
り制御することができる。コーティングにより減少する
透過光１８の強度は、用いる材料及び厚さにより異なる
が、コーティングを設けない場合に比べて１％〜１０％
程度に低減することができる。
【００２４】なお、コーティングは、透過光１８を散乱
させないことが好ましい。また、全反射ミラー１３の反
射面の裏面は、レーザ光に対し非散乱性であることが好
ましい。通常用いられる全反射ミラーは、反射面の裏面
がすりガラス状に処理されており、透過光が散乱するよ
うに加工されている。しかしながら、本発明のレーザ装
置１１においては、透過光１８を用いて上記調整を行う
ため、透過光１８が散乱された場合、上記調整が困難に
なる。
させないことが好ましい。また、全反射ミラー１３の反
射面の裏面は、レーザ光に対し非散乱性であることが好
ましい。通常用いられる全反射ミラーは、反射面の裏面
がすりガラス状に処理されており、透過光が散乱するよ
うに加工されている。しかしながら、本発明のレーザ装
置１１においては、透過光１８を用いて上記調整を行う
ため、透過光１８が散乱された場合、上記調整が困難に
なる。
【００２５】このように、全反射ミラー１３には強力な
レーザ光１６が照射され、その僅かな一部が透過光１８
として全反射ミラー１３を透過し、残りの大部分は反射
光１７として反射される。すなわち、反射光１７はレー
ザ光１６とほぼ等しい強度を有しており、そのため、レ
ーザ装置１１を損傷するおそれがあり、かつ危険であ
る。
レーザ光１６が照射され、その僅かな一部が透過光１８
として全反射ミラー１３を透過し、残りの大部分は反射
光１７として反射される。すなわち、反射光１７はレー
ザ光１６とほぼ等しい強度を有しており、そのため、レ
ーザ装置１１を損傷するおそれがあり、かつ危険であ
る。
【００２６】本発明のレーザ装置１１には、上述のよう
に、反射光１７を吸収するためにビームダンパ１４が設
けられている。一般に、殆どのレーザ装置には、安全上
の理由から、任意に開閉させることが可能であり、それ
によりレーザ装置外部へのレーザ光の出力を制御するビ
ーム遮蔽装置、すなわちシャッタが設けられている。本
発明のレーザ装置１１のビームダンパ１４には、レーザ
発生装置から出力されるレーザ光を吸収するためにシャ
ッタ内壁に設けられた受光部（ビームダンパ）を用いる
ことができる。
に、反射光１７を吸収するためにビームダンパ１４が設
けられている。一般に、殆どのレーザ装置には、安全上
の理由から、任意に開閉させることが可能であり、それ
によりレーザ装置外部へのレーザ光の出力を制御するビ
ーム遮蔽装置、すなわちシャッタが設けられている。本
発明のレーザ装置１１のビームダンパ１４には、レーザ
発生装置から出力されるレーザ光を吸収するためにシャ
ッタ内壁に設けられた受光部（ビームダンパ）を用いる
ことができる。
【００２７】図２に、本発明のレーザ装置１１で用いら
れるビームダンパの断面図を示す。この図で、ビームダ
ンパ１４の反射光１７を受光する面は、反射光１７の吸
収効率を高めるために、中央部２１が円錐状に、かつ外
周部２２は円筒状に形成されている。また、ビームダン
パ１４の反射光１７を受光する面の裏面側には、反射光
１７を吸収することによる過剰な温度の上昇を防止する
ために、冷却水を流すための流路２３が設けられてい
る。
れるビームダンパの断面図を示す。この図で、ビームダ
ンパ１４の反射光１７を受光する面は、反射光１７の吸
収効率を高めるために、中央部２１が円錐状に、かつ外
周部２２は円筒状に形成されている。また、ビームダン
パ１４の反射光１７を受光する面の裏面側には、反射光
１７を吸収することによる過剰な温度の上昇を防止する
ために、冷却水を流すための流路２３が設けられてい
る。
【００２８】ビームダンパ１４は、通常、レーザ光を吸
収する処理を施された金属で構成される。ビームダンパ
１４は反射光１７を効率良く吸収するものであれば、そ
の形状に特に制限はないが、図２に示すビームダンパ１
４を用いた場合に、特に高い効率で反射光１７を吸収さ
せることができる。
収する処理を施された金属で構成される。ビームダンパ
１４は反射光１７を効率良く吸収するものであれば、そ
の形状に特に制限はないが、図２に示すビームダンパ１
４を用いた場合に、特に高い効率で反射光１７を吸収さ
せることができる。
【００２９】すなわち、ビームダンパ１４をこのような
形状とした場合、ビームダンパ１４の中央部２１に照射
された反射光１７は、一部は被照射面で吸収され、残り
は反射されて外壁２２へと照射される。この外壁２２で
も同様に一部が吸収され、残りは反射されて中央部２１
へと照射される。このように、中央部２１及び外壁２２
での吸収・反射を繰返すことにより、反射光１７はほぼ
完全にビームダンパ１４に吸収されるのである。
形状とした場合、ビームダンパ１４の中央部２１に照射
された反射光１７は、一部は被照射面で吸収され、残り
は反射されて外壁２２へと照射される。この外壁２２で
も同様に一部が吸収され、残りは反射されて中央部２１
へと照射される。このように、中央部２１及び外壁２２
での吸収・反射を繰返すことにより、反射光１７はほぼ
完全にビームダンパ１４に吸収されるのである。
【００３０】また、図２に示すビームダンパ１４では、
過剰な温度上昇を防止するために、冷却水を流すための
流路２３が設けられているが、温度上昇を防止すること
ができるのであれば他の冷却手段を用いてもよい。ま
た、反射光１７の強度によっては冷却手段を設けなくて
もよい。
過剰な温度上昇を防止するために、冷却水を流すための
流路２３が設けられているが、温度上昇を防止すること
ができるのであれば他の冷却手段を用いてもよい。ま
た、反射光１７の強度によっては冷却手段を設けなくて
もよい。
【００３１】以上説明したように、本発明のレーザ装置
１１には、反射光１７を吸収するビームダンパ１４が設
けられている。したがって、反射光１７によりレーザ装
置１１を構成する部材が損傷されるおそれがない。
１１には、反射光１７を吸収するビームダンパ１４が設
けられている。したがって、反射光１７によりレーザ装
置１１を構成する部材が損傷されるおそれがない。
【００３２】
【発明の効果】以上示したように、本発明のレーザ装置
は、レーザ発生部からのレーザ光を反射光と光学部品調
整用透過光とに分離する全反射ミラーと、全反射ミラー
を、レーザ光の光軸上の光学部品調整用位置と、レーザ
光の光軸から離れたレーザ装置駆動用位置との間を移動
させ、切り替える手段と、反射光を吸収するビームダン
パとが設けられているため、実際に使用するレーザ光の
一部、すなわち光学部品調整用透過光を用いて光学部品
の配置等の調整に用いることが可能となり、容易にかつ
高精度に光軸を調整することができる。
は、レーザ発生部からのレーザ光を反射光と光学部品調
整用透過光とに分離する全反射ミラーと、全反射ミラー
を、レーザ光の光軸上の光学部品調整用位置と、レーザ
光の光軸から離れたレーザ装置駆動用位置との間を移動
させ、切り替える手段と、反射光を吸収するビームダン
パとが設けられているため、実際に使用するレーザ光の
一部、すなわち光学部品調整用透過光を用いて光学部品
の配置等の調整に用いることが可能となり、容易にかつ
高精度に光軸を調整することができる。
【図１】本発明の実施形態に係るレーザ装置の概略を示
す図。
す図。
【図２】本発明の実施形態に係るレーザ装置に用いられ
るビームダンパの断面図。
るビームダンパの断面図。
【図３】従来のレーザ装置の概略を示す図。
１１…レーザ装置 １２…レーザ発生部 １３…全反射ミラー １４…ビームダンパ １５…ミラー保持部 １６…レーザ光 １７…反射光 １８…透過光 １９…ビーム位置補正用光学素子 ２１…中央部 ２２…外周部 ２３…流路 ３１…レーザ装置 ３２…レーザ発生部 ３３…ガイド光用レーザ発生部 ３４…ガイド光 ３５、３６…ミラー ３７…レーザ光
Claims (5)
- 【請求項１】 レーザ光を出力するレーザ発生部、 前記レーザ発生部からのレーザ光を反射光と光学部品調
整用透過光とに分離する全反射ミラー、 前記全反射ミラーを、レーザ光の光軸上の光学部品調整
用位置と、レーザ光の光軸から離れたレーザ装置駆動用
位置との間を移動させ、切り替える手段、及び前記反射
光を吸収するビームダンパを具備することを特徴とする
レーザ装置。 - 【請求項２】 前記全反射ミラーが、前記レーザ光の一
部を散乱させることなく透過させることを特徴とする請
求項１に記載のレーザ装置。 - 【請求項３】 前記透過光の強度が、前記レーザ発生部
から出力されるレーザ光の強度の１０％以下であること
を特徴とする請求項１または２に記載のレーザ装置。 - 【請求項４】 前記全反射ミラーが、前記レーザ光を反
射する面の裏面に、前記透過光を散乱させることなく、
強度を低減するコーティングを具備することを特徴とす
る請求項１〜３のいずれか１項に記載のレーザ装置。 - 【請求項５】 前記全反射ミラーを透過することで屈折
作用によりずれたビーム位置を補正するための光学素子
を具備することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１
項に記載のレーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25572597A JPH1197778A (ja) | 1997-09-19 | 1997-09-19 | レーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25572597A JPH1197778A (ja) | 1997-09-19 | 1997-09-19 | レーザ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1197778A true JPH1197778A (ja) | 1999-04-09 |
Family
ID=17282779
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25572597A Pending JPH1197778A (ja) | 1997-09-19 | 1997-09-19 | レーザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1197778A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002243934A (ja) * | 2001-02-21 | 2002-08-28 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射型ホログラムカラーフィルターの製造方法 |
| JP2008287215A (ja) * | 2007-04-18 | 2008-11-27 | Seiko Epson Corp | 光源装置、照明装置、モニタ装置及びプロジェクタ |
| US8052308B2 (en) | 2007-04-18 | 2011-11-08 | Seiko Epson Corporation | Light source having wavelength converter and wavelength separating member for reflecting converted light |
| JP2014187225A (ja) * | 2013-03-25 | 2014-10-02 | Ricoh Co Ltd | レーザ発振装置及びレーザ加工機 |
-
1997
- 1997-09-19 JP JP25572597A patent/JPH1197778A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US8052308B2 (en) | 2007-04-18 | 2011-11-08 | Seiko Epson Corporation | Light source having wavelength converter and wavelength separating member for reflecting converted light |
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