JPH1197778A - レーザ装置 - Google Patents
レーザ装置Info
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- JPH1197778A JPH1197778A JP25572597A JP25572597A JPH1197778A JP H1197778 A JPH1197778 A JP H1197778A JP 25572597 A JP25572597 A JP 25572597A JP 25572597 A JP25572597 A JP 25572597A JP H1197778 A JPH1197778 A JP H1197778A
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- laser
- light
- total reflection
- reflection mirror
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Abstract
(57)【要約】
【課題】容易にかつ高精度に光軸を調整することが可能
なレーザ装置を提供すること。 【解決手段】本発明のレーザ装置11は、レーザ光16
を出力するレーザ発生部12、前記レーザ発生部12か
らのレーザ光16を反射光17と光学部品調整用透過光
18とに分離する全反射ミラー13、前記全反射ミラー
13を、レーザ光16の光軸上の光学部品調整用位置
と、レーザ光16の光軸から離れたレーザ装置駆動用位
置との間を移動させ、切り替える手段15、及び前記反
射光17を吸収するビームダンパ14を具備することを
特徴とする。
なレーザ装置を提供すること。 【解決手段】本発明のレーザ装置11は、レーザ光16
を出力するレーザ発生部12、前記レーザ発生部12か
らのレーザ光16を反射光17と光学部品調整用透過光
18とに分離する全反射ミラー13、前記全反射ミラー
13を、レーザ光16の光軸上の光学部品調整用位置
と、レーザ光16の光軸から離れたレーザ装置駆動用位
置との間を移動させ、切り替える手段15、及び前記反
射光17を吸収するビームダンパ14を具備することを
特徴とする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ装置に係
り、特に、光軸の調節を行うための部材を有するレーザ
装置に関する。
り、特に、光軸の調節を行うための部材を有するレーザ
装置に関する。
【0002】
【従来の技術】レーザ装置から出力されるレーザ光を利
用するためには、通常、レーザ装置の出力部に対して様
々な光学部品を設置し、それらの配置等を調整する必要
がある。しかしながら、レーザ光の強度が数十W以上に
及ぶ場合、調整が不十分で光学部品に適切にレーザ光が
照射されないと、光学部品を保持するホルダー等にレー
ザ光が照射されて光学部品が破損されるおそれがあっ
た。
用するためには、通常、レーザ装置の出力部に対して様
々な光学部品を設置し、それらの配置等を調整する必要
がある。しかしながら、レーザ光の強度が数十W以上に
及ぶ場合、調整が不十分で光学部品に適切にレーザ光が
照射されないと、光学部品を保持するホルダー等にレー
ザ光が照射されて光学部品が破損されるおそれがあっ
た。
【0003】このような問題に対して、従来、図3に示
すレーザ装置が用いられていた。図3において、レーザ
装置31は、レーザ発生部32、ガイド光用レーザ発生
部33、及びガイド光用レーザ発生部から出力されるガ
イド光34をレーザ装置31へと導くミラー35、36
で構成されている。ガイド光用レーザ発生部33には、
通常、He−Neレーザ等が用いられ、このガイド光用
レーザ発生部33は、レーザ発生部32から出力される
レーザ光37に比べて非常に弱い強度のガイド光34を
出力する。また、ガイド光用レーザ発生部から出力され
るガイド光34は、レーザ発生部32から出力されるレ
ーザ光37と光軸が一致するように、ミラー35、36
等により調整されている。
すレーザ装置が用いられていた。図3において、レーザ
装置31は、レーザ発生部32、ガイド光用レーザ発生
部33、及びガイド光用レーザ発生部から出力されるガ
イド光34をレーザ装置31へと導くミラー35、36
で構成されている。ガイド光用レーザ発生部33には、
通常、He−Neレーザ等が用いられ、このガイド光用
レーザ発生部33は、レーザ発生部32から出力される
レーザ光37に比べて非常に弱い強度のガイド光34を
出力する。また、ガイド光用レーザ発生部から出力され
るガイド光34は、レーザ発生部32から出力されるレ
ーザ光37と光軸が一致するように、ミラー35、36
等により調整されている。
【0004】このレーザ装置31によると、レーザ発生
部32でのレーザ光37の発生を停止した状態で、ガイ
ド光用レーザ発生部33からガイド光34を出力するこ
とにより、光学部品の配置等を安全に調整することがで
きる。
部32でのレーザ光37の発生を停止した状態で、ガイ
ド光用レーザ発生部33からガイド光34を出力するこ
とにより、光学部品の配置等を安全に調整することがで
きる。
【0005】しかしながら、このようなレーザ装置31
では、ゲイン長の長いレーザ光、特に縦励起のガスレー
ザ光が用いられた場合、ガイド光34とレーザ発生部3
2から出力されるレーザ光37との間で光軸を合わせる
こと、すなわち予備調整を行う必要があり、かつこの予
備調整は非常に困難である。
では、ゲイン長の長いレーザ光、特に縦励起のガスレー
ザ光が用いられた場合、ガイド光34とレーザ発生部3
2から出力されるレーザ光37との間で光軸を合わせる
こと、すなわち予備調整を行う必要があり、かつこの予
備調整は非常に困難である。
【0006】また、レーザ発生部32から出力されるレ
ーザ光37の種類によっては、レーザ光37が通過する
ガラス部品において、透過部と非透過部との間で温度勾
配が生じ易く、熱レンズ効果を生じる場合がある。この
ような場合、レーザ発生部32を停止した状態で調節し
たガイド光34の光軸は、レーザ発生部32から出力さ
れるレーザ光37の光軸とは一致しない。したがって、
従来のレーザ装置31では高精度に光軸の調整を行うこ
とができない。
ーザ光37の種類によっては、レーザ光37が通過する
ガラス部品において、透過部と非透過部との間で温度勾
配が生じ易く、熱レンズ効果を生じる場合がある。この
ような場合、レーザ発生部32を停止した状態で調節し
たガイド光34の光軸は、レーザ発生部32から出力さ
れるレーザ光37の光軸とは一致しない。したがって、
従来のレーザ装置31では高精度に光軸の調整を行うこ
とができない。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題を
解決するためになされたものであり、容易にかつ高精度
に光軸を調整することが可能なレーザ装置を提供するこ
とを目的とする。
解決するためになされたものであり、容易にかつ高精度
に光軸を調整することが可能なレーザ装置を提供するこ
とを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、レーザ光を出
力するレーザ発生部、前記レーザ発生部からのレーザ光
を反射光と光学部品調整用透過光とに分離する全反射ミ
ラー、前記全反射ミラーを、レーザ光の光軸上の光学部
品調整用位置と、レーザ光の光軸から離れたレーザ装置
駆動用位置との間を移動させ、切り替える手段、及び前
記反射光を吸収するビームダンパを具備することを特徴
とするレーザ装置を提供する。
力するレーザ発生部、前記レーザ発生部からのレーザ光
を反射光と光学部品調整用透過光とに分離する全反射ミ
ラー、前記全反射ミラーを、レーザ光の光軸上の光学部
品調整用位置と、レーザ光の光軸から離れたレーザ装置
駆動用位置との間を移動させ、切り替える手段、及び前
記反射光を吸収するビームダンパを具備することを特徴
とするレーザ装置を提供する。
【0009】本発明は、上記レーザ装置において、前記
全反射ミラーが、前記レーザ光の一部を散乱させること
なく透過させることを特徴とする。本発明は、上記レー
ザ装置において、前記透過光の強度が、前記レーザ発生
部から出力されるレーザ光の強度の10%以下であるこ
とを特徴とする。
全反射ミラーが、前記レーザ光の一部を散乱させること
なく透過させることを特徴とする。本発明は、上記レー
ザ装置において、前記透過光の強度が、前記レーザ発生
部から出力されるレーザ光の強度の10%以下であるこ
とを特徴とする。
【0010】本発明は、上記レーザ装置において、前記
全反射ミラーが、前記レーザ光を反射する面の裏面に、
前記透過光を散乱させることなく、強度を低減するコー
ティングを具備することを特徴とする。
全反射ミラーが、前記レーザ光を反射する面の裏面に、
前記透過光を散乱させることなく、強度を低減するコー
ティングを具備することを特徴とする。
【0011】本発明は、上記レーザ装置において、前記
全反射ミラーを透過することで屈折作用によりずれたビ
ーム位置を補正するための光学素子を具備することを特
徴とする。
全反射ミラーを透過することで屈折作用によりずれたビ
ーム位置を補正するための光学素子を具備することを特
徴とする。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明のレーザ装置につい
て、図面を参照しながらより詳細に説明する。図1に、
本発明のレーザ装置の概略を示す。この図で、レーザ装
置11は、レーザ発生部12、ミラー保持部15に保持
された全反射ミラー13、及びビームダンパ14で構成
されている。
て、図面を参照しながらより詳細に説明する。図1に、
本発明のレーザ装置の概略を示す。この図で、レーザ装
置11は、レーザ発生部12、ミラー保持部15に保持
された全反射ミラー13、及びビームダンパ14で構成
されている。
【0013】これらレーザ発生部12、全反射ミラー1
3、及びビームダンパ14は、通常、定盤上に設置され
る。全反射ミラー13は可動であって、光学部品等の調
整の際には、レーザ発生部12から出力されるレーザ光
16の光軸上に配置され、実際に使用する際には、レー
ザ光16の光軸から離れて配置される。ビームダンパ1
4は、位置を固定されていてもよく、可動であってもよ
い。
3、及びビームダンパ14は、通常、定盤上に設置され
る。全反射ミラー13は可動であって、光学部品等の調
整の際には、レーザ発生部12から出力されるレーザ光
16の光軸上に配置され、実際に使用する際には、レー
ザ光16の光軸から離れて配置される。ビームダンパ1
4は、位置を固定されていてもよく、可動であってもよ
い。
【0014】全反射ミラー13は、反射面がレーザ光1
6の光軸に対して0°より大きく90°未満、好ましく
は、45°以下の角度をなすように配置される。また、
ビームダンパ14は、全反射ミラー13で反射されたレ
ーザ光16、すなわち反射光17の光軸上に配置され
る。したがって、反射光17はビームダンパ14に吸収
される。
6の光軸に対して0°より大きく90°未満、好ましく
は、45°以下の角度をなすように配置される。また、
ビームダンパ14は、全反射ミラー13で反射されたレ
ーザ光16、すなわち反射光17の光軸上に配置され
る。したがって、反射光17はビームダンパ14に吸収
される。
【0015】レーザ発生部12から出力されるレーザ光
16に特に制限はないが、銅蒸気レーザ、金蒸気レー
ザ、及び色素レーザ等の可視光領域のレーザ光であるこ
とが好ましい。レーザ光16が可視光領域のレーザ光で
ある場合、光学部品の配置等の調整を容易に行うことが
できる。
16に特に制限はないが、銅蒸気レーザ、金蒸気レー
ザ、及び色素レーザ等の可視光領域のレーザ光であるこ
とが好ましい。レーザ光16が可視光領域のレーザ光で
ある場合、光学部品の配置等の調整を容易に行うことが
できる。
【0016】全反射ミラー13は、僅かではあるが光透
過性を有している。したがって、レーザ発生部12から
出力されるレーザ光16は、全反射ミラー13により、
反射光17と強度の弱い透過光18とに分離される。
過性を有している。したがって、レーザ発生部12から
出力されるレーザ光16は、全反射ミラー13により、
反射光17と強度の弱い透過光18とに分離される。
【0017】この透過光18は、レーザ光16の光軸に
対して、様々な光学部品の配置等を調整するのに用いら
れる。したがって、本発明のレーザ装置11によると、
光学部品の配置等の調整に調整用のガイド光を出力する
ガイド光用レーザ発生装置を用いる必要がなく、ガイド
光の光軸と実際に使用するレーザ光16の光軸とを一致
させるための予備調整の必要がない。また、ガイド光を
用いずに、実際に使用するレーザ光16の強度を低減し
て光学部品の配置等の調整が行われるため、熱レンズ効
果の有無による光軸のズレの問題も生じない。したがっ
て、容易にかつ高精度に光軸を調整することが可能とな
る。
対して、様々な光学部品の配置等を調整するのに用いら
れる。したがって、本発明のレーザ装置11によると、
光学部品の配置等の調整に調整用のガイド光を出力する
ガイド光用レーザ発生装置を用いる必要がなく、ガイド
光の光軸と実際に使用するレーザ光16の光軸とを一致
させるための予備調整の必要がない。また、ガイド光を
用いずに、実際に使用するレーザ光16の強度を低減し
て光学部品の配置等の調整が行われるため、熱レンズ効
果の有無による光軸のズレの問題も生じない。したがっ
て、容易にかつ高精度に光軸を調整することが可能とな
る。
【0018】より高精度な光軸の調整を行うために、ビ
ーム位置補正用光学素子19を設けて透過光18の光軸
を補正することが好ましい。上述の全反射ミラー13は
ある程度の厚さを有しているため、レーザ光16は全反
射ミラー13への入射時及び出射時に屈折して、透過光
18として出射される。その結果、レーザ光16と透過
光18とで、光軸のずれを生ずる。なお、このとき、レ
ーザ光16と透過光18とで進行方向にずれを生じるこ
とはない。
ーム位置補正用光学素子19を設けて透過光18の光軸
を補正することが好ましい。上述の全反射ミラー13は
ある程度の厚さを有しているため、レーザ光16は全反
射ミラー13への入射時及び出射時に屈折して、透過光
18として出射される。その結果、レーザ光16と透過
光18とで、光軸のずれを生ずる。なお、このとき、レ
ーザ光16と透過光18とで進行方向にずれを生じるこ
とはない。
【0019】それに対し、ビーム位置補正用光学素子1
9を設けることにより、このようなレーザ光16と透過
光18とでの光軸のずれが補正されるため、より高精度
に光軸を調整することができる。
9を設けることにより、このようなレーザ光16と透過
光18とでの光軸のずれが補正されるため、より高精度
に光軸を調整することができる。
【0020】ビーム位置補正用光学素子19は、透過光
18の光軸をレーザ光16の光軸と一致させることがで
きるものであれば特に制限はない。例えば、ビーム位置
補正用光学素子19を、全反射ミラー13と同じ材質、
厚さで構成することができる。このようなビーム位置補
正用光学素子19を用いた場合、その主面が、レーザ光
16の光軸に垂直な平面に関して、全反射ミラー13の
主面と対称となるように配置することにより、透過光1
8の光軸をレーザ光16の光軸に容易にかつ正確に一致
させることができる。
18の光軸をレーザ光16の光軸と一致させることがで
きるものであれば特に制限はない。例えば、ビーム位置
補正用光学素子19を、全反射ミラー13と同じ材質、
厚さで構成することができる。このようなビーム位置補
正用光学素子19を用いた場合、その主面が、レーザ光
16の光軸に垂直な平面に関して、全反射ミラー13の
主面と対称となるように配置することにより、透過光1
8の光軸をレーザ光16の光軸に容易にかつ正確に一致
させることができる。
【0021】このように、本発明のレーザ装置11によ
ると、強度を低減されたレーザ光16、すなわち透過光
18を用いることにより光軸の調整が行われる。したが
って、透過光18の強度は、上記調整を安全にかつ高精
度に行える程度に低減される必要がある。透過光18の
強度は、レーザ光16の強度により異なるが、一般に、
レーザ光16の強度の10%以下であることが好まし
く、透過光の強度が人体に害を及ぼさない程度に設定す
ることが最も好ましい。
ると、強度を低減されたレーザ光16、すなわち透過光
18を用いることにより光軸の調整が行われる。したが
って、透過光18の強度は、上記調整を安全にかつ高精
度に行える程度に低減される必要がある。透過光18の
強度は、レーザ光16の強度により異なるが、一般に、
レーザ光16の強度の10%以下であることが好まし
く、透過光の強度が人体に害を及ぼさない程度に設定す
ることが最も好ましい。
【0022】透過光18の強度は、全反射ミラー13の
鏡面での反射率を制御することにより調節することがで
きる。上記調整を行うのに適した透過光18の強度を得
るためには、全反射ミラー13の反射率を99.5%〜
99.9%程度とすることが好ましい。
鏡面での反射率を制御することにより調節することがで
きる。上記調整を行うのに適した透過光18の強度を得
るためには、全反射ミラー13の反射率を99.5%〜
99.9%程度とすることが好ましい。
【0023】透過光18の強度は、この方法の他に、全
反射ミラー13の反射面の裏面にコーティングを施し
て、鏡面を透過したレーザ光16の一部をさらに反射或
いは吸収させることにより調節することができる。この
コーティングとして、金属コーティング及び誘電体コー
ティング等を挙げることができる。透過光18の強度
は、コーティングに用いる材料及びコーティング厚によ
り制御することができる。コーティングにより減少する
透過光18の強度は、用いる材料及び厚さにより異なる
が、コーティングを設けない場合に比べて1%〜10%
程度に低減することができる。
反射ミラー13の反射面の裏面にコーティングを施し
て、鏡面を透過したレーザ光16の一部をさらに反射或
いは吸収させることにより調節することができる。この
コーティングとして、金属コーティング及び誘電体コー
ティング等を挙げることができる。透過光18の強度
は、コーティングに用いる材料及びコーティング厚によ
り制御することができる。コーティングにより減少する
透過光18の強度は、用いる材料及び厚さにより異なる
が、コーティングを設けない場合に比べて1%〜10%
程度に低減することができる。
【0024】なお、コーティングは、透過光18を散乱
させないことが好ましい。また、全反射ミラー13の反
射面の裏面は、レーザ光に対し非散乱性であることが好
ましい。通常用いられる全反射ミラーは、反射面の裏面
がすりガラス状に処理されており、透過光が散乱するよ
うに加工されている。しかしながら、本発明のレーザ装
置11においては、透過光18を用いて上記調整を行う
ため、透過光18が散乱された場合、上記調整が困難に
なる。
させないことが好ましい。また、全反射ミラー13の反
射面の裏面は、レーザ光に対し非散乱性であることが好
ましい。通常用いられる全反射ミラーは、反射面の裏面
がすりガラス状に処理されており、透過光が散乱するよ
うに加工されている。しかしながら、本発明のレーザ装
置11においては、透過光18を用いて上記調整を行う
ため、透過光18が散乱された場合、上記調整が困難に
なる。
【0025】このように、全反射ミラー13には強力な
レーザ光16が照射され、その僅かな一部が透過光18
として全反射ミラー13を透過し、残りの大部分は反射
光17として反射される。すなわち、反射光17はレー
ザ光16とほぼ等しい強度を有しており、そのため、レ
ーザ装置11を損傷するおそれがあり、かつ危険であ
る。
レーザ光16が照射され、その僅かな一部が透過光18
として全反射ミラー13を透過し、残りの大部分は反射
光17として反射される。すなわち、反射光17はレー
ザ光16とほぼ等しい強度を有しており、そのため、レ
ーザ装置11を損傷するおそれがあり、かつ危険であ
る。
【0026】本発明のレーザ装置11には、上述のよう
に、反射光17を吸収するためにビームダンパ14が設
けられている。一般に、殆どのレーザ装置には、安全上
の理由から、任意に開閉させることが可能であり、それ
によりレーザ装置外部へのレーザ光の出力を制御するビ
ーム遮蔽装置、すなわちシャッタが設けられている。本
発明のレーザ装置11のビームダンパ14には、レーザ
発生装置から出力されるレーザ光を吸収するためにシャ
ッタ内壁に設けられた受光部(ビームダンパ)を用いる
ことができる。
に、反射光17を吸収するためにビームダンパ14が設
けられている。一般に、殆どのレーザ装置には、安全上
の理由から、任意に開閉させることが可能であり、それ
によりレーザ装置外部へのレーザ光の出力を制御するビ
ーム遮蔽装置、すなわちシャッタが設けられている。本
発明のレーザ装置11のビームダンパ14には、レーザ
発生装置から出力されるレーザ光を吸収するためにシャ
ッタ内壁に設けられた受光部(ビームダンパ)を用いる
ことができる。
【0027】図2に、本発明のレーザ装置11で用いら
れるビームダンパの断面図を示す。この図で、ビームダ
ンパ14の反射光17を受光する面は、反射光17の吸
収効率を高めるために、中央部21が円錐状に、かつ外
周部22は円筒状に形成されている。また、ビームダン
パ14の反射光17を受光する面の裏面側には、反射光
17を吸収することによる過剰な温度の上昇を防止する
ために、冷却水を流すための流路23が設けられてい
る。
れるビームダンパの断面図を示す。この図で、ビームダ
ンパ14の反射光17を受光する面は、反射光17の吸
収効率を高めるために、中央部21が円錐状に、かつ外
周部22は円筒状に形成されている。また、ビームダン
パ14の反射光17を受光する面の裏面側には、反射光
17を吸収することによる過剰な温度の上昇を防止する
ために、冷却水を流すための流路23が設けられてい
る。
【0028】ビームダンパ14は、通常、レーザ光を吸
収する処理を施された金属で構成される。ビームダンパ
14は反射光17を効率良く吸収するものであれば、そ
の形状に特に制限はないが、図2に示すビームダンパ1
4を用いた場合に、特に高い効率で反射光17を吸収さ
せることができる。
収する処理を施された金属で構成される。ビームダンパ
14は反射光17を効率良く吸収するものであれば、そ
の形状に特に制限はないが、図2に示すビームダンパ1
4を用いた場合に、特に高い効率で反射光17を吸収さ
せることができる。
【0029】すなわち、ビームダンパ14をこのような
形状とした場合、ビームダンパ14の中央部21に照射
された反射光17は、一部は被照射面で吸収され、残り
は反射されて外壁22へと照射される。この外壁22で
も同様に一部が吸収され、残りは反射されて中央部21
へと照射される。このように、中央部21及び外壁22
での吸収・反射を繰返すことにより、反射光17はほぼ
完全にビームダンパ14に吸収されるのである。
形状とした場合、ビームダンパ14の中央部21に照射
された反射光17は、一部は被照射面で吸収され、残り
は反射されて外壁22へと照射される。この外壁22で
も同様に一部が吸収され、残りは反射されて中央部21
へと照射される。このように、中央部21及び外壁22
での吸収・反射を繰返すことにより、反射光17はほぼ
完全にビームダンパ14に吸収されるのである。
【0030】また、図2に示すビームダンパ14では、
過剰な温度上昇を防止するために、冷却水を流すための
流路23が設けられているが、温度上昇を防止すること
ができるのであれば他の冷却手段を用いてもよい。ま
た、反射光17の強度によっては冷却手段を設けなくて
もよい。
過剰な温度上昇を防止するために、冷却水を流すための
流路23が設けられているが、温度上昇を防止すること
ができるのであれば他の冷却手段を用いてもよい。ま
た、反射光17の強度によっては冷却手段を設けなくて
もよい。
【0031】以上説明したように、本発明のレーザ装置
11には、反射光17を吸収するビームダンパ14が設
けられている。したがって、反射光17によりレーザ装
置11を構成する部材が損傷されるおそれがない。
11には、反射光17を吸収するビームダンパ14が設
けられている。したがって、反射光17によりレーザ装
置11を構成する部材が損傷されるおそれがない。
【0032】
【発明の効果】以上示したように、本発明のレーザ装置
は、レーザ発生部からのレーザ光を反射光と光学部品調
整用透過光とに分離する全反射ミラーと、全反射ミラー
を、レーザ光の光軸上の光学部品調整用位置と、レーザ
光の光軸から離れたレーザ装置駆動用位置との間を移動
させ、切り替える手段と、反射光を吸収するビームダン
パとが設けられているため、実際に使用するレーザ光の
一部、すなわち光学部品調整用透過光を用いて光学部品
の配置等の調整に用いることが可能となり、容易にかつ
高精度に光軸を調整することができる。
は、レーザ発生部からのレーザ光を反射光と光学部品調
整用透過光とに分離する全反射ミラーと、全反射ミラー
を、レーザ光の光軸上の光学部品調整用位置と、レーザ
光の光軸から離れたレーザ装置駆動用位置との間を移動
させ、切り替える手段と、反射光を吸収するビームダン
パとが設けられているため、実際に使用するレーザ光の
一部、すなわち光学部品調整用透過光を用いて光学部品
の配置等の調整に用いることが可能となり、容易にかつ
高精度に光軸を調整することができる。
【図1】本発明の実施形態に係るレーザ装置の概略を示
す図。
す図。
【図2】本発明の実施形態に係るレーザ装置に用いられ
るビームダンパの断面図。
るビームダンパの断面図。
【図3】従来のレーザ装置の概略を示す図。
11…レーザ装置 12…レーザ発生部 13…全反射ミラー 14…ビームダンパ 15…ミラー保持部 16…レーザ光 17…反射光 18…透過光 19…ビーム位置補正用光学素子 21…中央部 22…外周部 23…流路 31…レーザ装置 32…レーザ発生部 33…ガイド光用レーザ発生部 34…ガイド光 35、36…ミラー 37…レーザ光
Claims (5)
- 【請求項1】 レーザ光を出力するレーザ発生部、 前記レーザ発生部からのレーザ光を反射光と光学部品調
整用透過光とに分離する全反射ミラー、 前記全反射ミラーを、レーザ光の光軸上の光学部品調整
用位置と、レーザ光の光軸から離れたレーザ装置駆動用
位置との間を移動させ、切り替える手段、及び前記反射
光を吸収するビームダンパを具備することを特徴とする
レーザ装置。 - 【請求項2】 前記全反射ミラーが、前記レーザ光の一
部を散乱させることなく透過させることを特徴とする請
求項1に記載のレーザ装置。 - 【請求項3】 前記透過光の強度が、前記レーザ発生部
から出力されるレーザ光の強度の10%以下であること
を特徴とする請求項1または2に記載のレーザ装置。 - 【請求項4】 前記全反射ミラーが、前記レーザ光を反
射する面の裏面に、前記透過光を散乱させることなく、
強度を低減するコーティングを具備することを特徴とす
る請求項1〜3のいずれか1項に記載のレーザ装置。 - 【請求項5】 前記全反射ミラーを透過することで屈折
作用によりずれたビーム位置を補正するための光学素子
を具備することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1
項に記載のレーザ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25572597A JPH1197778A (ja) | 1997-09-19 | 1997-09-19 | レーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25572597A JPH1197778A (ja) | 1997-09-19 | 1997-09-19 | レーザ装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1197778A true JPH1197778A (ja) | 1999-04-09 |
Family
ID=17282779
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25572597A Pending JPH1197778A (ja) | 1997-09-19 | 1997-09-19 | レーザ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH1197778A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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US8052308B2 (en) | 2007-04-18 | 2011-11-08 | Seiko Epson Corporation | Light source having wavelength converter and wavelength separating member for reflecting converted light |
JP2014187225A (ja) * | 2013-03-25 | 2014-10-02 | Ricoh Co Ltd | レーザ発振装置及びレーザ加工機 |
-
1997
- 1997-09-19 JP JP25572597A patent/JPH1197778A/ja active Pending
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